DE102013201968B4 - Apparatus for acousto-optic conversion of periodically pulsed, electromagnetic radiation - Google Patents
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Abstract
Eine Vorrichtung zur Umformung periodisch gepulster, elektromagnetischer Strahlung, umfasst – eine Strahlungsquelle (1) zur Erzeugung einer gepulsten, elektromagnetischen Strahlung (2), – einen Fotodetektor (4) zur zeitlich aufgelösten Erfassung der Pulse (13) der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung (2), – eine mit dem Fotodetektor (4) gekoppelte, davon triggerbare Signalquelle (5) zur Erzeugung von Schallwellen (SW) mit einer frequenzmodulierten Steuersignalform, die einen beliebig einstellbaren Verlauf des Schallwellenfrequenzgradienten aufweist, und – einen akustooptischen Deflektor (6, 7), der mit der Signalquelle (5) zur zeitlich zur Periodizität der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung (2) synchronisierten Einkopplung einer oder mehrerer solcher Schallwellen (SW) derart verbunden ist, dass zum Zeitpunkt des Durchgangs der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung (2) durch den akustooptischen Deflektor (6, 7) in diesem eine refraktive und/oder diffraktive Strahlumformung und/oder Strahlablenkung der periodisch gepulsten, elektromagnetischen Strahlung (2) stattfindet.A device for converting periodically pulsed electromagnetic radiation comprises - a radiation source (1) for generating pulsed electromagnetic radiation (2), - a photodetector (4) for temporally resolved detection of the pulses (13) of the pulsed electromagnetic radiation (2 ), - a signal source (5) coupled to the photodetector (4), triggerable thereof, for generating sound waves (SW) with a frequency-modulated control signal form, which has an arbitrarily adjustable course of the sound wave frequency gradient, and - an acousto-optical deflector (6, 7), which is connected to the signal source (5) for the time-synchronized coupling of one or more such sound waves (SW) to the periodicity of the pulsed electromagnetic radiation (2) in such a way that when the pulsed electromagnetic radiation (2) passes through the acousto-optical deflector (6, 7) in this a refractive and / or diffractive beam shaping and / or beam deflection of the periodically pulsed electromagnetic radiation (2) takes place.
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Umformung periodisch gepulster, elektromagnetischer Strahlung, die auf dem Einsatz eines akustooptischen Deflektors basiert.The invention relates to a device for the conversion of periodically pulsed, electromagnetic radiation, which is based on the use of an acousto-optic deflector.
Bevor auf die eigentliche Erfindung eingegangen wird, ist zum Hintergrund der Stand der Technik bei der akustooptischen Strahlablenkung anhand der beigefügten
So nutzen akustooptische Komponenten zur Modifikation von elektromagnetischer Strahlung den photoelastischen Effekt, d. h. in vielen Medien weist der Brechungsindex eine (meist direkte) Abhängigkeit vom mechanischen Spannungszustand auf. Wird über einen beispielsweise piezoaktuatorischen Schallwandler PZ eine akustische und harmonische Schallwelle SW in einen Kristall K eingekoppelt, bildet sich äquivalent zur induzierten Schallwelle eine periodische und anisotrope Brechungsindexvariation aus – siehe
Überlagern sich alle reflektierten Teilstrahlen konstruktiv, so wird der Reflexionsgrad maximal. Der Einfallswinkel, unter dem genannte Bedingung erfüllt ist, wird als Bragg-Winkel θ bezeichnet und berechnet sich gemäß sinθ ≈ θ = λ/2Λ = λf/2V. Der transmittierte, nicht gebeugte Lichtstrahl L0 wird als 0. Ordnung bezeichnet. Der gebeugte Lichtstrahl L1, welcher zum Lichtstrahl 0. Ordnung einen Winkel von +2 θ aufweist, wird als +1. Beugungsordnung bezeichnet – siehe
AODs finden u. a. Anwendung in der Lasermaterialbearbeitung, der (Fluoreszenz-)Mikroskopie und Laserprojektion. Aktuell folgen auch vermehrt Anwendungen in der Datenträgerentwicklung. In allen Gebieten wird der AOD aufgrund der erreichbaren, sehr hohen Ablenkgeschwindigkeiten in der Größenordnung von 104...105 rad/s genutzt. Als Vergleich erreichen typische Galvanometerscanner nur 102 rad/s. Unter Verwendung zweier zueinander orthogonal ausgerichteter AODs wird eine Strahlführung in zwei orthogonale Raumachsen ermöglicht. In diesem Fall reduziert sich die Beugungseffizienz nach Durchgang durch beide AODs auf (70%...85%)2 ≈ 50%...75%.AODs are used in laser material processing, (fluorescence) microscopy and laser projection. Currently, applications in data carrier development are increasingly following. In all areas the AOD is used due to the achievable, very high deflection speeds in the order of 10 4 ... 10 5 rad / s. As a comparison, typical galvanometer scanners reach only 10 2 rad / s. Using two mutually orthogonally aligned AODs, beam guidance into two orthogonal spatial axes is made possible. In this case, the diffraction efficiency after passing through both AODs is reduced to (70% to 85%) 2 ≈ 50% to 75%.
Entsprechend der genannten Formeln ist für eine hohe Ablenkgeschwindigkeit auch ein großer Schallwellenfrequenzgradient nach der Beziehung d Δθ/dt~df/dt nötig. Aufgrund der endlichen Schallgeschwindigkeit bildet sich folglich ein räumlicher Schallwellenfrequenzgradient innerhalb des Kristalls aus (df/dt~df/dx). Ein einfallender, kollimierter Laserstrahl L erfährt bei Durchgang durch den Kristall K entsprechend die Wirkung einer Zylinderlinse – siehe
Anzumerken ist, dass der sogenannte „Zylinderlinseneffekt” das Resultat eines konstanten Schallwellenfrequenzgradienten ist (df/dt = konst.), also nur bei konstanter Scangeschwindigkeit in der geschilderten Form auftritt. Ist die Scangeschwindigkeit variant, also df/dt ≠ konst., bilden sich zusätzliche Wellenfrontfehler aus. Allgemein lässt sich die Variation des Ablenkwinkels über die AOD-Apertur gemäß der folgenden Formel (2) beschreiben. Bei geringer Schallgeschwindigkeit des Mediums – bspw. TeO2 im sogenannten „shear mode”, was ein weit verbreitetes AOD-Kristallmaterial darstellt – nimmt der Zylinderlinseneffekt überproportional zu.
Der Zylinderlinseneffekt ist ein in der Regel unerwünschter Effekt, welcher in der Anwendung durch eine Reihe von Maßnahmen kompensiert wird. Eine gebräuchliche Methode ist die Verwendung einer zusätzlichen Zylinderlinse kurz nach Strahlaustritt aus dem AOD mit genau der negativen Brechkraft des Zylinderlinseneffekts. Diese Kompensationsmethode ist allerdings nur für einen einzigen Zustand von df/dt optimal eingestellt. Eine weitere Kompensationsmethode ist die Verwendung eines zweiten (Kompensations-)AOD. Dieser wird kurz nach dem ersten AOD eingesetzt und bei gleicher Mittenfrequenz mit genau dem negativen Frequenzgradienten beaufschlagt. Bei korrekter Auslegung des Gesamtsystems, d. h., der erste AOD bildet in die +1. Beugungsordnung, der zweite AOD in die –1. Beugungsordnung ab, wird der Zylinderlinseneffekt für alle Zustände auf ein Minimum reduziert.The cylindrical lens effect is a generally unwanted effect, which is compensated in the application by a number of measures. A common method is the use of an additional cylindrical lens shortly after beam exit from the AOD with exactly the negative refractive power of the cylindrical lens effect. However, this compensation method is optimally set only for a single state of df / dt. Another compensation method is the use of a second (compensation) AOD. This is used shortly after the first AOD and applied at the same center frequency with exactly the negative frequency gradient. With correct interpretation of the total system, ie, the first AOD forms in the +1. Diffraction order, the second AOD in the -1. Diffraction order, the cylindrical lens effect for all states is reduced to a minimum.
Die gleiche Methode wird auch verwendet, um keine Strahlablenkung, sondern die Wirkung einer einstellbaren Zylinderlinse zu realisieren. In diesem Fall bilden beide AODs in die +1. Beugungsordnung ab. Im letzten Fall kompensiert der zweite AOD nicht den Zylinderlinseneffekt, sondern die eigentliche Ablenkung.The same method is also used to realize no beam deflection, but the effect of an adjustable cylindrical lens. In this case, both AODs are in the +1. Diffraction order. In the latter case, the second AOD does not compensate for the cylinder lens effect, but the actual distraction.
Ein schwerwiegender Nachteil der zuletzt genannten Methoden ist die doppelte Anzahl der zur Ablenkung benötigten AODs. Für ein in der Anwendung typisches, zweidimensionales Scanfeld wären insgesamt vier AODs notwendig. Neben der Verdopplung der Investitionskosten reduziert sich die Beugungseffizienz nach Durchgang durch alle AODs damit auf typisch (70%...85%)4 ≈ 25%...50%. Für die Anwendung in der Mikroskopie und Laserprojektion sind dies unerwünschte, aber zunächst akzeptierte Verluste, die durch eine höhere Eingangsleistung ausgeglichen werden.A serious disadvantage of the latter methods is twice the number of AODs required for the deflection. A typical two-dimensional scan field would require a total of four AODs. In addition to doubling the investment costs, the diffraction efficiency after passing through all AODs is reduced to typically (70% ... 85%) 4 ≈ 25% ... 50%. For use in microscopy and laser projection, these are unwanted, but initially accepted losses, which are compensated by a higher input power.
In der Lasermaterialbearbeitung sind Leistungsverluste in dieser Größenordnung allerdings nicht akzeptabel, da die Prozesseffizienz im Sinne der Bearbeitungsdauer annähernd im gleichen Maß reduziert wird.In laser material processing, however, power losses on this scale are unacceptable since the process efficiency is reduced to approximately the same extent in terms of processing time.
Zum besseren Verständnis der weiteren Ausführungen zur Erfindung ist es ferner erwähnenswert, dass AODs auch als schnelle Spektralanalysatoren eingesetzt werden. Dabei wird ein Dauerstrich-Laserstrahl durch den AOD in die 1. Beugungsordnung abgelenkt. Als Schallwelle wird anschließend das zu analysierende und in der Regel periodische Signal eingekoppelt.For a better understanding of the further embodiments of the invention, it is also worth mentioning that AODs are also used as fast spectral analyzers. In this case, a continuous wave laser beam is deflected by the AOD in the 1st diffraction order. As a sound wave, the signal to be analyzed and usually periodic signal is then coupled.
Entsprechend werden Anteile des Laserstrahls äquivalent zum Frequenzspektrum unterschiedlich stark abgelenkt. Über eine Linse kann das Winkelspektrum in ein Ortsspektrum überführt werden, welches dann einer Fourierebene, also dem Frequenzspektrum des analysierten Signals entspricht.Accordingly, portions of the laser beam equivalent to the frequency spectrum are deflected differently. Via a lens, the angle spectrum can be converted into a location spectrum, which then corresponds to a Fourier level, ie the frequency spectrum of the signal analyzed.
Es ist ebenfalls möglich, die Schallwellenfrequenz so zu variieren, dass eine Strahlumformung, wie etwa eine Umformung eines gaußförmigen Strahlprofils in ein sogenanntes Top-Hat-Strahlprofil, resultiert. Dabei ist zu bemerken, dass keine zeitliche Synchronisation stattfindet, so dass der durch den AOD abgelenkte Strahl im Strahlprofil stark fluktuiert. Erst die zeitliche Integration dieser Fluktuation führt zu einem Top-Hat- bzw. anderen, gewünschten Strahlprofil. Abwandlungen dieses Verfahrens werden eingesetzt, um schnelle optische Schalter umzusetzen. Dabei wird ein Schallwellenfrequenzsprung synchron zu einem eingehenden optischen Signal genutzt. Innerhalb einer Puls-zu-Puls-Pause wird der Schallwellenfrequenzsprung (|df/dt| >> 0) derart durchgeführt, dass die akustische Welle mit einer eingestellten Frequenz die komplette Apertur des AOD durchläuft, bevor der nächste Puls in den AOD-Kristall eintritt. Die Folge ist, dass der anschließende Puls bei Durchgang durch den AOD an eine andere Stelle abgelenkt wird, wobei allerdings kein Zylinderlinseneffekt stattfindet, da im Moment des Durchgangs kein lateraler Frequenzgradient vorhanden ist.It is also possible to vary the sonic wave frequency so as to result in beam forming, such as reshaping a Gaussian beam profile into a so-called top-hat beam profile. It should be noted that no temporal synchronization takes place, so that the deflected by the AOD beam in the beam profile fluctuates greatly. Only the temporal integration of this fluctuation leads to a top hat or other desired beam profile. Variations of this method are used to implement fast optical switches. In this case, a sound wave frequency jump is used synchronously to an incoming optical signal. Within a pulse-to-pulse pause, the sound wave frequency hopping (| df / dt | >> 0) is performed such that the acoustic wave at a set frequency passes through the complete aperture of the AOD before the next pulse enters the AOD crystal , The consequence is that the subsequent pulse is deflected when passing through the AOD to another location, although no cylindrical lens effect takes place, since at the moment of passage no lateral frequency gradient is present.
In diesem Zusammenhang wird auf
- (1)
t = 0 = ttrig1 - (2)
ttrig1 < t = t1 < ttrig1 + tPP - (3)
t1 < t < ttrig1 + tPP - (4)
t = ttrig1 + tPP = ttrig2 - (5)
ttrig2 < t = t2 < ttrig2 + tPP - (6)
t2 < t < ttrig2 + tPP
- (1)
t = 0 = t trig1 - (2)
t trig1 <t = t 1 <t trig1 + t PP - (3)
t 1 <t <t trig 1 + t PP - (4)
t = t trig1 + t PP = t trig2 - (5)
t trig2 <t = t 2 <t trig2 + t PP - (6)
t 2 <t <t trig 2 + t PP
Auch wenn somit der Zylinderlinseneffekt grundsätzlich umgangen wird, findet sich dieses Verfahren noch nicht in der Anwendung zur Lasermaterialbearbeitung. Wird die in den AOD-Kristall eingekoppelte Schallwelle synchron zu Laserpulsen amplitudenmoduliert, können einzelne Anteile des lateralen Strahlprofils ausgeblendet werden. Dieses Verfahren wird aktuell in sogenannten Pulsformern („pulse shaper”) eingesetzt, bei denen es sich um Geräte handelt, welche den zeitlichen Verlauf eines ultrakurzen Laserpulses mit einer ausreichend hohen Bandbreite – meist > 10 nm – umformen.Even if the cylindrical lens effect is thus bypassed in principle, this method is not yet in use for laser material processing. If the sound wave coupled into the AOD crystal is amplitude-modulated synchronously to laser pulses, individual portions of the lateral beam profile can be masked out. This method is currently used in so-called pulse shapers, which are devices which transform the temporal course of an ultrashort laser pulse with a sufficiently high bandwidth, usually> 10 nm.
Der Stand der Technik im Zusammenhang mit Ultrakurzpulslasern in Mikrostrukturierung und Mikroskopie ist wie folgt zu umreißen. Sowohl in den Bereichen „Mikrostrukturierung” als auch „Mikroskopie” werden in zunehmendem Maße Ultrakurzpulslaser (UKP-Laser) als Strahlquellen eingesetzt. Typische Pulsdauerbereiche in diesen Anwendungsfeldern liegen im Bereich von 100 fs bis etwa 10 ps. In Bezug auf die Mikrostrukturierung werden mit UKP-Lasern präzise und annähernd schmelzefreie (sog. athermische) Bearbeitungsergebnisse in nahezu beliebigen Werkstoffen erzielt, wobei in der Regel die Prozesseffizienz in Bezug auf die Materialabtragsrate mit der mittleren Leistung der eingesetzten Laser skaliert, solange bestimmte Parameter eingehalten werden, d. h., z. B. ein ausreichend geringer Pulsüberlapp von < 90% (was bei Verwendung von Galvanometerscannern eine Repetitionsrate von etwa 100 kHz bis 1 MHz bedingt) und eine Fluenz knapp oberhalb der Ablationsschwelle (was eine Pulsenergie von typisch 10 μJ bis 100 μJ bedingt). Die sinnvoll anwendbare mittlere Leistung beträgt momentan maximal etwa 100 W. Dabei ist bemerkenswert, dass UKP-Laser mit inzwischen sehr hoher mittlerer Leistung von > 1 kW prinzipiell zur Verfügung stehen, diese aber kaum in der Mikrostrukturierung Anwendung finden. Der Grund hierfür liegt in der Wechselwirkung der Einzelpulse untereinander. Über etwa 1 MHz Repetitionsrate bzw. unter 1 μs Puls-zu-Puls-Pause interagiert ein Puls mit dem Materialdampf und -plasma, welche durch den vorangegangenen Puls erzeugt wurden, in Form von Absorption, Streuung und Reflektion. Die Folge ist unter anderem eine mit der Repetitionsrate zunehmende Einbringung thermischer Energie in den Werkstoff. Unerwünschte Aufschmelzungen und Materialaufwürfe sind die Folge.The state of the art in connection with ultrashort pulse lasers in microstructuring and Microscopy is to be outlined as follows. Both in the fields of "microstructuring" and "microscopy" ultrashort pulse lasers (UKP lasers) are increasingly being used as beam sources. Typical pulse duration ranges in these application fields are in the range of 100 fs to about 10 ps. In terms of microstructuring, UKP lasers produce precise and almost melt-free (so-called athermal) machining results in virtually any material, with process efficiency in terms of material removal rate typically scaled with the average power of the lasers used as long as certain parameters are met be, ie, z. B. a sufficiently low pulse overlap of <90% (which requires a repetition rate of about 100 kHz to 1 MHz when using galvanometer scanners) and a fluence just above the ablation threshold (which results in a pulse energy of typically 10 .mu.J to 100 .mu.J). At the moment, the useful mean power is about 100 W. It is remarkable that UKP lasers with a mean high power output of> 1 kW are available in principle, but these are hardly used in microstructuring. The reason for this lies in the interaction of the individual pulses with each other. At about 1 MHz repetition rate or below 1 μs pulse-to-pulse pause, a pulse interacts with the material vapor and plasma produced by the previous pulse in the form of absorption, scattering, and reflection. The result is, among other things, an increasing introduction of thermal energy into the material with the repetition rate. Unwanted melting and material throw-ups are the result.
Ein aktueller Ansatz zur Behebung dieser Problematik ist es, die einzelnen Pulse auf dem Werkstück lateral so voneinander zu trennen, dass die Wechselwirkung mit den vorangegangenen Pulsen verhindert wird. Dazu werden in der Regel hohe Ablenkgeschwindigkeiten von etwa ≥ 40 m/s verwendet. Periodische Mikrostrukturierungen können z. B. durch angepasste Scan- bzw. Rasterverfahren realisiert werden (sog. Direktstrukturierung). Eine weitaus effizientere Methode ist die Nutzung von Mehrstrahlinterferenz bei ultrakurzen Laserpulsen. Der einzelne Laserpuls interferiert in der Bearbeitungsebene auf eine solche Weise mit sich selbst, dass die gewünschten, periodischen Strukturen erzeugt werden. Erreichbare Strukturgrößen liegen bei dieser Methode momentan etwa im Bereich der verwendeten Wellenlänge. Erfahrungen aus der Lithografie zeigen aber, dass Strukturgrößen unterhalb der Wellenlänge prinzipiell möglich sind.A current approach to overcome this problem is to laterally separate the individual pulses on the workpiece so as to prevent interaction with the previous pulses. For this purpose, high deflection speeds of approximately ≥ 40 m / s are generally used. Periodic microstructures can z. B. be realized by adapted scanning or screening methods (so-called direct structuring). A much more efficient method is the use of multi-beam interference in ultrashort laser pulses. The single laser pulse interferes with itself in the working plane in such a way that the desired, periodic structures are generated. Achievable structure sizes are currently approximately in the range of the wavelength used in this method. However, experience from lithography shows that structure sizes below the wavelength are possible in principle.
In der Mikroskopie werden UKP-Laser vor alter in der Mehr-Photonen-Fluoreszenzmikroskopie angewendet. Der Laserstrahl wird dabei so fokussiert, dass eine Fluoreszenz des untersuchten Mediums nicht durch lineare Absorption, sondern erst bei gleichzeitiger Absorption von zwei (selten auch mehr) Photonen hervorgerufen wird. Unter Ausnutzung von Schwellwerteffekten wird so die laterale und zum Laserstrahl koaxiale Auflösung verbessert. Da es sich bei der Fluoreszenzmikroskopie um ein Raster-Verfahren handelt, wird eine hohe Bildwiederholrate in der Regel durch eine hohe Ablenkgeschwindigkeit sichergestellt. AODs finden daher vermehrt Einsatz und es werden teilweise überaus aufwendige Systeme eingesetzt, um den Zylinderlinseneffekt zu kompensieren. Wie bereits erwähnt, zählt dazu unter anderem die Verwendung von vier AODs, wodurch Investitionskosten verdoppelt und erreichbare Beugungseffizienzen in etwa halbiert werden.In microscopy, UKP lasers are used before ages in multi-photon fluorescence microscopy. The laser beam is focused so that a fluorescence of the medium under investigation is not caused by linear absorption, but only with simultaneous absorption of two (rarely more) photons. By utilizing threshold effects, the lateral and laser beam coaxial resolution is improved. Since fluorescence microscopy is a halftoning process, a high refresh rate is usually ensured by a high sweep rate. AODs are therefore increasingly used and sometimes very complex systems are used to compensate for the cylindrical lens effect. As already mentioned, this includes the use of four AODs, which doubles investment costs and halves achievable diffraction efficiencies.
Aus der
In Bezug auf die Erzeugung von Mikrostrukturierungen mittels interferometrischer Wechselwirkung elektromagnetischer Strahlung ist die
Die
Die
In der
Die
Die
Ausgehend von dem ausführlich geschilderten Umfeld des Standes der Technik und der daraus resultierenden Problematik beim Einsatz von AODs im Bereich der Mikrostrukturierung und Mikroskopie liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Umformung periodisch gepulster, elektromagnetischer Strahlung zu schaffen, mit deren Hilfe diese Strahlung zielgerichtet und insbesondere optimal an die Einsatzbedingungen bei der Mikrostrukturierung und Mikroskopie anpassbar ist.Based on the detailed description of the background of the prior art and the resulting problems in the use of AODs in the field of microstructuring and microscopy, the invention has for its object to provide a device for forming periodically pulsed electromagnetic radiation, with the aid of which targeted this radiation and in particular optimally adaptable to the conditions of use in microstructuring and microscopy.
Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 angegebene Vorrichtung zur Umformung periodisch gepulster, elektromagnetischer Strahlung gelöst, die erfindungsgemäß umfasst
- – eine Strahlungsquelle zur Erzeugung einer gepulsten, elektromagnetischen Strahlung,
- – einen Fotodetektor zur zeitlich aufgelösten Erfassung der Pulse der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung,
- – eine mit dem Fotodetektor gekoppelte, davon triggerbare Signalquelle zur Erzeugung von Schallwellen mit einer frequenzmodulierten Steuersignalform, die einen beliebig einstellbaren Verlauf des Schallwellenfrequenzgradienten aufweist, und
- – einen akustooptischen Deflektor, der mit der Signalquelle zur zeitlich zur Periodizität der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung synchronisierten Einkopplung einer oder mehrerer solcher Schallwellen derart verbunden ist, dass zum Zeitpunkt des Durchgangs der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung durch den akustooptischen Deflektor in diesem eine diffraktive Strahlumformung und/oder Strahlablenkung der periodisch gepulsten, elektromagnetischen Strahlung stattfindet.
- A radiation source for generating a pulsed, electromagnetic radiation,
- A photodetector for the time-resolved detection of the pulses of the pulsed, electromagnetic radiation,
- A triggerable signal source coupled to the photodetector for generating sound waves having a frequency-modulated control waveform having an arbitrarily adjustable course of the acoustic wave frequency gradient, and
- An acousto-optic deflector which is connected to the signal source for coupling to one or more such sound waves synchronized with the periodicity of the pulsed electromagnetic radiation in such a way that at the time of passage of the pulsed electromagnetic radiation through the acousto-optic deflector a diffractive beam transformation and / or or beam deflection of the periodically pulsed, electromagnetic radiation takes place.
Aufgrund der erfindungsgemäßen Ansteuerung des akustooptischen Deflektors kann ein durch die Frequenzmodulation hervorgerufener Frequenzgradient in der Steuersignalform während der Pulspausen zwischen den einzelnen Strahlungspulsen so eingesetzt werden, dass die AOD-Apertur mit einem einstellbaren Gitterfrequenzgradienten gefüllt wird. Dabei ist die zeitlich zur Periodizität der Strahlungspulse synchronisierte Einkopplung wichtig, sodass unterschiedliche Anteile des lateralen Strahlprofils des sich anschließenden Strahlungspulses an unterschiedliche Orte abgelenkt werden. Damit wird eine einstellbare Strahlformung erreicht.Due to the activation of the acoustooptic deflector according to the invention, a frequency gradient in the control signal form caused by the frequency modulation can be used during the pulse pauses between the individual radiation pulses such that the AOD aperture is filled with an adjustable grid frequency gradient. In this case, the time-synchronized with the periodicity of the radiation pulses coupling is important so that different portions of the lateral beam profile of the subsequent radiation pulse are deflected to different locations. This achieves an adjustable beam shaping.
Die zeitliche Synchronisierung von Laserpuls und Beginn der Steuersignalform ist auch bei der Einkopplung mehrer, überlagerter Frequenzen in den AOD zur diffraktiven Strahlformung, ähnlich zu einem AOD-Spektralanalysator, wichtig, wie dies anhand der Beschreibung von Ausführungsbeispielen deutlich wird und hier zur Vermeidung von Wiederholungen nicht eigens erläutert werden soll.The temporal synchronization of the laser pulse and the beginning of the control waveform is also important in the coupling of multiple, superimposed frequencies in the AOD for diffractive beam shaping, similar to an AOD spectral analyzer, as will become apparent from the description of embodiments and not to avoid repetition should be explained specifically.
Die Erfindung ermöglicht ferner eine radialsymmetrische Strahlformung, wenn Kreiswellen in einen AOD induziert werden. Damit wird beispielsweise die Kompensation von primärer und sekundärer sphärischer Aberration in einer Strahlformungseinrichtung durchführbar.The invention also allows radially symmetric beamforming when circular waves are induced in an AOD. Thus, for example, the compensation of primary and secondary spherical aberration in a beam shaping device can be carried out.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung beziehen sich auf eine Laser-Strahlungsquelle zur Erzeugung einer periodisch gepulsten Laser-Strahlung (Anspruch 2). Ferner ist es von Vorteil, wenn ein teildurchlässiger Spiegel im Strahlengang dieser Strahlung zur Abzweigung eines Teils der Strahlung zum Fotodetektor eingesetzt wird (Anspruch 3).Preferred embodiments of the invention relate to a laser radiation source for generating a periodically pulsed laser radiation (claim 2). Further, it is advantageous if a partially transmissive mirror in the beam path of this radiation is used for branching off part of the radiation to the photodetector (claim 3).
Durch die nach Anspruch 4 vorgesehene Weiterentwicklung der Erfindung ist es durch die entsprechende Verwendung zweier orthogonal ausgerichteter AOD möglich, eine Strahlablenkung in zwei zueinander orthogonale Raumachsen zu erzielen, wodurch die erfindungsgemäße Vorrichtung eine zweidimensional und nicht nur lateral abgelenkte Strahlführung erlaubt.By further development of the invention provided according to
Ein ähnliches Ergebnis ist auch durch die bevorzugte Weiterbildung der Vorrichtung gemäß Anspruch 5 realisierbar, wonach die Signalquelle selbst derart ausgelegt ist, dass zwei zueinander orthogonal ausgerichtete Schallwellen induziert und in den AOD eingekoppelt werden. Damit ist auch eine zweidimensionale diffraktive Strahlumformung möglich. A similar result can also be achieved by the preferred embodiment of the device according to
Weitere optische Maßnahmen zur zielgerichteten Aufbereitung der umgeformten Strahlung sehen gemäß Anspruch 6 die Verwendung einer Wellenplatte vor einem jeweiligen AOD vor, um beispielsweise die Polarisationsart und -richtung des Laserstrahls hinsichtlich einer optimalen Beugungseffizienz der beiden AODs zu justieren.Further optical measures for the targeted processing of the transformed radiation provide according to
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung nach Anspruch 7 ist eine den AODs nachgeschaltete Fokussierungsoptik im Strahlengang der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung vorgesehen. Damit kann eine Änderung der Fokuslage des Laserstrahls in Abhängigkeit der vom AOD erzeugten Divergenz erzeugt werden.According to a further preferred embodiment of the invention according to claim 7, a focusing optics downstream of the AODs is provided in the beam path of the pulsed, electromagnetic radiation. In this way, a change in the focal position of the laser beam can be generated as a function of the divergence generated by the AOD.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung schließt auch die Strahlformung in einer solchen Art ein, dass Anteile des lateralen Strahlprofils auf sich gegenseitig abgebildet werden und so eine interferometrische Wechselwirkung stattfindet. Dies bedeutet explizit, dass ein Laserpuls beispielsweise mit sich selbst interferiert. Dabei erlaubt die Überlagerung unterschiedlicher Anteile des lateralen Strahlprofils mit sich selbst die Erzeugung einer Mehr-Strahleninterferenz (Anspruch 8). Dabei kann die Interferenzebene mit Hilfe einer Abbildungsoptik in eine Bildebene abgebildet werden (Anspruch 9).The device according to the invention also includes the beam shaping in such a way that portions of the lateral beam profile are imaged onto each other and thus an interferometric interaction takes place. This explicitly means that a laser pulse, for example, interferes with itself. The superposition of different portions of the lateral beam profile with itself allows the generation of a multi-beam interference (claim 8). In this case, the interference plane can be imaged with the aid of an imaging optics in an image plane (claim 9).
Bevorzugtermaßen kann laut Anspruch 10 zwischen der Interferenzebene und der genannten Abbildungsoptik eine weitere Aufbereitungsoptik zur Einstellung der Phasenverzögerung von Teilstrahlen aus der gepulsten, elektromagnetischen Strahlung und entsprechend der Interferenz der Teilstrahlen in der Bildebene angeordnet sein. Als Aufbereitungsoptik können beispielsweise lateral bewegliche Keilplatten oder verkippbare Planparallelplatten eingesetzt werden (Anspruch 11), um die Phasenverzögerung zwischen den einzelnen Teilstrahlen einzustellen und so die resultierende Interferenz in der Bildebene zu beeinflussen.Preferably, according to
Weitere, bisher nicht genannte abhängige Ansprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen der erfindungsgemäßen Vorrichtung, deren Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der beigefügten Zeichnung entnehmbar sind. Dabei zeigen:Further, previously not mentioned dependent claims relate to advantageous developments of the device according to the invention, the features, details and advantages of the following description of embodiments with reference to the accompanying drawings are removable. Showing:
Bevor auf die einzelnen
In der Zeitspanne von 10 ps bis 50 ps hat sich die akustische Welle im AOD-Kristall um etwa 50 nm bis 250 nm bewegt. Berücksichtigt man, dass typische Gitterabstände in einem AOD im Bereich von mehreren 10 μm liegen (Schallwellenfrequenzen ~ 100 MHz), so folgt, dass ein ultrakurzer Laserpuls bei Durchgang durch einen AOD-Kristall näherungsweise die Wirkung eines stehenden Gitters erfährt.In the time span from 10 ps to 50 ps, the acoustic wave in the AOD crystal has about 50 nm moved to 250 nm. Considering that typical lattice spacings in an AOD are in the range of several 10 μm (sound wave frequencies ~ 100 MHz), it follows that an ultra-short laser pulse when passing through an AOD crystal experiences approximately the effect of a standing lattice.
Bei typischen Laserrepetitionsraten von etwa 1 MHz beträgt die Puls-zu-Puls-Pause tPP = 1 μs. In dieser Zeitspanne bewegt sich das akustische Gitter um etwa 5 mm fort. Diese Größe liegt im Bereich typischer Aperturdurchmesser von AODs. Das heißt, dass während einer Puls-zu-Puls-Pause die akustische Welle in etwa einmal die komplette Apertur eines AODs – den korrekten Aperturdurchmesser vorausgesetzt – durchläuft.At typical laser repetition rates of about 1 MHz, the pulse-to-pulse pause t PP = 1 μs. During this period, the acoustic grating moves by about 5 mm. This size is in the range of typical aperture diameter of AODs. That is, during a pulse-to-pulse pause, the acoustic wave passes through the complete aperture of an AOD approximately once, assuming the correct aperture diameter.
Anhand der
Bei der in
Bei der in
Eine diffraktive Teilung des Profils des einfallenden Lichtstrahls L ist in
Anhand von
Der AOD
Der nicht abgelenkte und nicht geformte Laserstrahl L0 der sogenannten nullten Beugungsordnung wird einer Strahlfalle
Anhand der
Nach einer Wartezeit von Δttx bzw. Δtty wird eine entsprechende Signalform SFx1 bzw. SFy1 in der Signalquelle eingestellt. Die Wartezeiten Δttx bzw. Δtty sind dabei so gewählt, dass nach der sogenannten Füllzeit ΔtFx bzw. ΔtFy der gemäß der gewünschten Strahlformung neue Zustand zum Zeitpunkt des nächsten Laserpulses im jeweiligen AOD vorliegt. Die Füllzeiten entsprechen dem Zeitintervall, in welchem die neue Signalform den AOD-Kristall entsprechend der Schallgeschwindigkeit komplett ausfüllt. Insgesamt triggert also jeder Laserpuls die Strahlformung für den nächsten Laserpuls.After a waiting time of Δt tx or Δt ty , a corresponding signal form SFx1 or SFy1 is set in the signal source. The waiting times .DELTA.t tx and ty .DELTA.t are chosen so that, after the so-called filling time .DELTA.t Fx or Fy .DELTA.t is present according to the desired beam shaping new state at the time of the next laser pulse in each AOD. The fill times correspond to the time interval in which the new waveform completely fills the AOD crystal according to the speed of sound. Overall, each laser pulse triggers the beam shaping for the next laser pulse.
Es ist darauf hinzuweisen, dass Δttx und Δtty je nach Ausrichtung der AODs
Bei der in
Der in
In
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---|---|
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019009999A1 (en) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | Electro Scientific Industries, Inc. | Optically contacted acousto-optic device and method of making the same |
WO2019236616A1 (en) | 2018-06-05 | 2019-12-12 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same |
US11077526B2 (en) | 2015-09-09 | 2021-08-03 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser processing apparatus, methods of laser-processing workpieces and related arrangements |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3207417B1 (en) | 2014-10-15 | 2019-05-01 | Institut National De La Sante Et De La Recherche Medicale | Method for determining the characteristics of a system for generating a spatial light modulation in phase and amplitude at high refresh rate |
US10191268B2 (en) * | 2014-10-15 | 2019-01-29 | Inserm (Institute National De La Sante Et De La Recherche Medicale) | Method for analyzing a sample with a non-linear microscopy technique and non-linear microscope associated |
CN107290874B (en) * | 2017-07-05 | 2023-10-31 | 浙江大学 | Large bandwidth electro-optic modulator |
DE102018220477A1 (en) | 2018-11-28 | 2020-05-28 | Trumpf Laser Gmbh | Method for laser welding an optical fiber in a perforated element by means of a UKP laser beam and associated optical element |
DE102018132327B4 (en) * | 2018-12-14 | 2021-02-25 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Method and signal generator for controlling an acousto-optical element as well as an arrangement and microscope with a signal generator |
CN114755835A (en) * | 2022-04-08 | 2022-07-15 | 陈波 | Method for constructing perfect Lommel vortex light beam |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050061981A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | Allen Paul C. | Apparatus for multiple beam deflection and intensity stabilization |
US20050274702A1 (en) * | 2004-06-15 | 2005-12-15 | Laserfacturing Inc. | Method and apparatus for dicing of thin and ultra thin semiconductor wafer using ultrafast pulse laser |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4206347A (en) | 1978-01-12 | 1980-06-03 | Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. | Acousto-optic multiplexing and demultiplexing |
US4321564A (en) | 1980-06-18 | 1982-03-23 | Litton Systems, Inc. | Sequential beam switching of acousto-optic modulator |
US4577932A (en) | 1984-05-08 | 1986-03-25 | Creo Electronics Corporation | Multi-spot modulator using a laser diode |
US5526171A (en) | 1995-01-18 | 1996-06-11 | The Trustees Of Princeton University | Laser pulse shaper |
DE10328314A1 (en) | 2003-04-07 | 2004-11-25 | Laser-Laboratorium Göttingen eV | Arrangement for producing beams with variable phase relationships has diffractive delay generator with diffractive optical elements with which any phase difference between sub-beams can be achieved |
TWI594828B (en) | 2009-05-28 | 2017-08-11 | 伊雷克托科學工業股份有限公司 | Acousto-optic deflector applications in laser processing of features in a workpiece, and related laser processing method |
-
2013
- 2013-02-07 DE DE201310201968 patent/DE102013201968B4/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050061981A1 (en) * | 2003-09-23 | 2005-03-24 | Allen Paul C. | Apparatus for multiple beam deflection and intensity stabilization |
US20050274702A1 (en) * | 2004-06-15 | 2005-12-15 | Laserfacturing Inc. | Method and apparatus for dicing of thin and ultra thin semiconductor wafer using ultrafast pulse laser |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11077526B2 (en) | 2015-09-09 | 2021-08-03 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser processing apparatus, methods of laser-processing workpieces and related arrangements |
WO2019009999A1 (en) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | Electro Scientific Industries, Inc. | Optically contacted acousto-optic device and method of making the same |
WO2019236616A1 (en) | 2018-06-05 | 2019-12-12 | Electro Scientific Industries, Inc. | Laser-processing apparatus, methods of operating the same, and methods of processing workpieces using the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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