DE1284293B - - Google Patents

Info

Publication number
DE1284293B
DE1284293B DE1965P0036875 DEP0036875A DE1284293B DE 1284293 B DE1284293 B DE 1284293B DE 1965P0036875 DE1965P0036875 DE 1965P0036875 DE P0036875 A DEP0036875 A DE P0036875A DE 1284293 B DE1284293 B DE 1284293B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
numbers
chain
monomer
ester
polyhydric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE1965P0036875
Other languages
English (en)
Other versions
DE1284293C2 (de
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of DE1284293B publication Critical patent/DE1284293B/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1284293C2 publication Critical patent/DE1284293C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10—Esters
    • C08F20/20—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/331—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
    • C08G65/332—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
    • C08G65/3322—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof acyclic
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
    • C08G2650/16—Photopolymerisation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
    • C08G2650/20—Cross-linking
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2312/00—Crosslinking
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106—Binder containing
    • Y10S430/109—Polyester

Description

Als zur Additionspolymerisaiion befähigte äthylenisch ungesättigte Monomere sind beispielsweise Ester von alpha-Methylencarbonsäuren, wie die Bis-acrylate und Bis-methacrylate des Äthylenglykols, des Diäthylenglykols und von Polyäthylenglykolen mit Molekulargewichten bis 500 oder mehr bekannt. Monomere dieser Gattung weisen mindestens eine und vorzugsweise zwei endständige äthylenische Gruppen auf. Weitere bekannte Monomere dieser Art sind die Pentaerythritacrylate und Pentaerythritmethacrylate mit zwei bis vier Acrylylresten.
Erfindungsgegenstand ist die Verwendung einer Mischung, die ein makromolekulares, organisches, bei 50 C festes Polymeres als Bindemittel, einen durch aktinisches Licht aktivierbaren Initiator und ein Monomeres enthält, als fotopolymerisierbare, auf Schichtträger aufziehbare Masse, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Monomeres einen Ester eines verzweigtkettigen mehrwertigen ungesättigten Alkohols der Formel
HO — CHCH2O CxH (2x + 2-y-z) (OCH2CHl
I		 — OC — C = CH2
II I
m [ Q J O R 4
Kettenende
mit freier
Hydroxylgruppe
enthält, wobei
Kohlenstoffgerüst eines mehrwertigen Alkohols Alkylenoxyd-Ketten
verlängerung
Additions-
polymerisierbares
Ester-Kettenende
Q = H, CH:i oder C2H5, R = H oder CH3,
* = eine der Zahlen 3, 4, 5 oder 6, y = eine der Zahlen 2, 3, 4, 5 oder 6, ζ = eine der Zahlen 0, 1, 2, 3 oder 4, m = eine der Zahlen 0, 1 oder höher, n = die Zahl 1 oder höher, fiy + mz = größer als 6, jedoch nicht größer als 500 ist.
Geeignete verzweigtkettige mehrwertige Alkohole mit wiederkehrenden Äthereinheiten und einem breiten Vernetzungsbereich werden durch Kondensation von Äthylen- oder Propylenoxyd mit dreiwertigen oder anderen mehrwertigen Alkoholen von niederem Molekulargewicht gewonnen.
Äthylenoxyd und Propylenoxyd können als Kettenverlängerer angewandt werden, können aber auch am Ende freier Hydroxylgruppen enthaltender Ketten stehen.
Alpha-Methylencarbonsäuren, die die additionspolymerisierbaren Esterkettenenden liefern, sind beispielsweise Acrylsäure und Methacrylsäure.
Besonders bevorzugte Monomere der Erfindung sind die TriacryIat- und TrimethacryIatester des Reaktionsproduktes von Trimethylolpropan und Äthylenoxyd, die Triacrylatester des Reaktionsproduktes von TrimethyIoIpropan und Propylenoxyd, das Tetraacrylat und das Tetramethacrylat der Reaktionsprodukte von Äthylenoxyd und Propylenoxyd mit Pentaerythrit. Die Reaktionsprodukte besitzen vorzugsweise ein durchschnittliches Molekulargewicht von etwa 450 bis etwa 40 000.
Die fotopolymerisierbaren Massen enthalten ein thermoplastisches, bei 50°C festes, makromolekulares organisches Polymeres (10 bis 99 Teile) mindestens eines der beschriebenen Monomeren (99 bis 5 Teile), einen durch aktinische Bestrahlung — beispielsweise einer Wellenlänge von 200 bis 700 τημ — aktivierbaren Initiator für die Additionspolymerisation (0,001 bis 20 Teile); falls gewünscht, können 0,001 bis 2 Teile eines Inhibitors für die Additionspolymerisation zugegeben werden. Alle Mengenangaben stellen Gewichtsangaben dar.
Die die beschriebenen Massen verwendenden fotopolymerisierbaren Materialien bestehen aus einer Schicht und einem Träger. Die Schicht ist unterhalb 40"C fest und ist befähigt, bei Belichtung unterbelichtete Bildbereiche auszubilden, die, bedingt durch ihre Fließ-, Kleb- oder Ubertragungstemperatur, oberhalb 40 C und unterhalb 220 C thermisch übertragbar sind. Das thermographische übertragungsverfahren für Reproduktionen besteht darin, die Oberfläche dieser Schicht auf eine gesonderte, bildaufnehmende Oberfläche zu drücken, mindestens eine der Oberflächen auf eine Temperatur von mindestens 40 C zu erhitzen und die beiden Flächen wieder voneinander zu trennen. Dabei gehen die thermisch übertragbaren, unexponierten Bildbereiche der Schicht auf die bildaufnehmende Fläche über.
Die fotopolymerisierbaren Schichten, die sowohl für das thermische übertragungsverfahren oder für bei Raumtemperatur ablaufende Reproduktionsverfahren benutzt werden, besitzen eine Dicke von 0,0003 bis 0,13 mm, vorzugsweise von 0,003 bis 0,03 mm. Für die Herstellung von Druckplatten arbeitet man mit fotopolymerisierbaren Schichten, die 0,08 bis 6,35 mm, vorzugsweise 0,25 bis 1,02 mm, dick sind.
Geeignete aufnehmende Trägermaterialien, thermoplastische, polymere Bindemittel, nicht thermoplastische polymere Zusatzstoffe, Füllstoffe oder Verstärkungsstoffe, Initiatoren für die Additionspolymerisation, Inhibitoren für die thermische Polymerisation, zuzusetzende Farbstoffe und Pigmente sowie feste oder flexible Trägerstoffe sind in den USA.-Patentschriften 3 060 023, 3 060 024, 3 060 025 und 3 060 026 beschrieben.
Alle Mengenangaben stellen Gewichtsangaben dar.
Beispiel 1
Triacrylat des oxyäthylierten Trimethylolpropans
A. Herstellung, auf die hier kein Schutz beansprucht wird
Eine Mischung der nachstehend aufgeführten Stoffe wurde 15'/l' Stunden unter Rückfluß erhitzt, wobei ein mit einer azeotropischen Trennvorrichtung ausgestatteter Kühler benutzt wurde:
1200 g oxyäthyliertes TrimethyIolpropan eines durchschnittlichen Molekulargewichtsvon
1040 (über die Herstellung vgl. »Polyether«, Teil I, Interscience Publishers, New York; N. G. Gaylord, Ed.),
310 g reine Acrylsäure, die 0,1°/» p-Methoxyphenol als Polymerisationsinhibitor enthielt,
600 cm3 Benzol.
6,3 cm:! konzentrierte Schwefelsäure (spezifisches
Gewicht 184),
1,5 g Kupfer(I)-oxyd.
Während dieser Zeit wurden 62 cm3 Wasser (IOO 0Ai der Theorie) aufgefangen.
Die Reaktionsmischung wurde gekühlt, mit 2000 cm3 Benzol verdünnt und dann mit zwei 600-cm:!-Anteilen von 20"/(iigem Natriumchlorid, zwei 600-cms-Anteilen von 240/nigem Kaliumbicarbonat und schließlich mit 600 cm3 von 20"/oigem Natriumchlorid extrahiert. Der organische Extrakt wurde durch Verrühren mit 180 g Kieselgur, Abfiltrieren und Aufbewahren über wasserfreiem Kalziumsulfat über Nacht geklärt.
Ein 500-cm3-Anteil des wasserfreien Extraktes wurde unter Durchleiten durch eine 38 mm · 60 cm-Kolonne gereinigt, die mit Aluminiumoxyd einer Teilchengröße von 0,3 mm gefüllt war. Nach Zugabe von 0,10 g p-Methoxyphenol wurde die gereinigte Lösung durch Luftabsaugung mit Hilfe einer Wasserstrahlpumpe auf einem ölbad bei einer Bad temperatur von 50 bis 60 C so aufkonzentriert, daß 128 g eines viskosen wasserhellen Öls {WS = 1,4712) anfielen. Toxikologische Untersuchungen ergaben, daß dieses Monomere nur etwa '/.<-, so giftig war wie Pentaerythrittriacrylat und daß dieses Monomere nur '/s so giftig wie das Triäthylenglykoldiacrylat war.
B. Die erfindungsgemäße Verwendung
Kopierfilm
für direkt positive thermische übertragung
Es wurde eine Mischung der nachstehenden Bestandteile bereitet, indem diese 16 Stunden in einem Glasgefäß mit Kugeln aus keramischer Masse (Durchmesser 9,2 mm) vermählen wurden:
1,50 g des vorstehend beschriebenen Triacrylats,
6,00 g einer 25%igen Lösung von Polymethylmethacrylat mit einem in Benzollösung gemessenem Molekulargewicht von etwa 20 000 bis 50 000,
2,00 g einer 15°/oigen Dispersion von Ruß in Isopropanol,
0,20 g 2-t-Butylanthrachinon,
Rest Aceton bis zu einem Gesamtgewicht von 20 g.
Die erhaltene Masse wurde dann auf eine 0,10 mm dicke Polyäthylenterephthalatgrundfolie aufgezogen. Beschichtet wurde unter Verwendung eines auf einen Abstand von 0,15 mm eingestellten Abstreichmessers.
Nach Lufttrocknung über Nacht wurde der überzug auf eine unbehandelte Polyäthylenterephthalatfolie von 0,03 mm Dicke aufgeschichtet, wobei mit geheizten, belasteten mechanisch angetriebenen Walzen gearbeitet wurde. Walzentemperatur: 100'C; Druck: 8,45 kg/cm* (linear); Durchlaufgeschwindigkeit: 60,96 cm.
Diese Folie wurde 1 Minute in Berührung mit einem positiven Transparent im Abstand von 40,64 cm durch eine 65-Ampere-3300-Watt-Kohlenbogenlampe belichtet. Dann wurde die 0,03 mm dicke Deckfolie entfernt und die unbelichteten Bildbereiche des Uberzuges nunmehr von der 0,10-mm-Trägerfolie auf Papier übertragen, wobei die gleiche Vorrichtung angewandt und unter den gleichen Bedingungen gearbeitet wurde wie bei der Beschichtung der Deckfolie. Papier und überzug wurden unmittelbar nach Austritt aus dem Walzenspalt voneinander getrennt. Die exponierten polymerisierten Bereiche waren nicht länger plastisch und anhaftend und gingen unter diesen Bedingungen nicht über. Erhalten wurde eine positive Kopie des ursprünglichen Transparents auf dem aufnehmenden Papier.
Beispiel 2
Triacrylat des oxyäthylierten Trimethylolpropans
A. Herstellung
Die für die Herstellung des Monomeren im Beispiel 1, A beschriebene Arbeitsweise wurde unter Verwendung nachstehender Substanzen wiederholt:
609 g oxyäthyliertes Trimethylolpropan eines durchschnittlichen Molekulargewichtsvon
609,
270 g reine Acrylsäure mit einem Gehalt von
0,l()/o an p-Methoxyphenol,
300 cm:i Benzol,
3,0 cm3 konzentrierte Schwefelsäure (spezifisches
Gewicht: 1,84),
0,75 g Kupfer(I)-oxyd.
Im Verlauf von 13 Stunden wurde entsprechend 100% der Theorie 54 cm3 Wasser aufgefangen. Die Reaktionsmischung wurde extrahiert und geklärt, wie im Beispiel 1 beschrieben, wobei entsprechende Substanzmengen eingesetzt wurden. Nach Aufkonzentration im Vakuum in Gegenwart von 0,4 g p-Methoxyphenol verblieben 707 g eines viskosen, hellgelben Öls (Nf = 1,4722). Die Masse wurde durch Auflösung von 100 g in 100 cm3 Aceton und Durchlaufenlassen dieser Lösung durch mit aktiviertem Aluminiumoxyd gefüllte Kolonnen gereinigt.
B. Kopierfilm
für direkt, positive thermische übertragung
Entsprechend Beispiel 1, B wurde ein Kopierfilm hergestellt, dabei jedoch an Stelle des Triacrylats des Beispiels 1 nunmehr 1,5 g des vorstehend beschriebenen Triacrylats angewandt. Nach Belichtung und Entwicklung durch thermische übertragung entsprechend Beispiel 1, B lieferte er positive Kopien der Transparente.
" C Druckerpressen-Druckform
Eine Mischung nachstehender Substanzen wurde als 15,2 · 22,86-cm-Fläche in einer Schale auf eine mit einer Klebmasse überschichtete Aluminiumfolie gegossen:
42 g Celluloseacetat—Hydrogensuccinat
in 200 cm3 Aceton und 10 cm3 Methanol,
20 g des Triacrylatmonomeren der Zubereitung A, 0,06 g p-Methoxyphenol,
0,07 g 2-Äthylanthrachinon.
Nach langem Trocknen an der Luft unter Einstellung einer Dicke von etwa 0,76 mm wurde die Platte über Nacht in Kohlendioxydatmosphäre konditioniert. Dann wurde 90 Sekunden in Berührung mit einem inaktiven Verfahrens-Transparent exponiert (Abstand einer 140 - Ampere - Kohlenbogenlampe:

Claims (1)

  1. 76,2 cm). Durch Aufspritzen von 0,04normaler Natriumhydroxydlösung wurden die unexponierten Bereiche weggewaschen, und es verblieb der exponierte, polymerisierte Teil in Form eines für DruckerpressenDruckformen geeigneten Reliefbildes. Dieses stellte eine einwandfreie Reproduktion mit guter Abstimmung von Schattenbereichen und helleren Bildpunkten dar.
    Es konnten keine Anzeichen für Ungleichheit bei der Bildung von Halbtonpunkten festgestellt werden.
    ho
    CHCH,0
    I1
    fm J
    Kettenende
    mit freier
    Hydroxylgruppe
    Patentanspruch:
    Verwendung einer Mischung, die ein makromolekulares, organisches, bei 50"C festes Polymeres als Bindemittel, einen durch aktinisches Licht aktivierbaren Initiator und ein Monomeres enthält, als fotopolymerisierbare, auf Schichtträger aufziehbare Masse, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Monomeres einen Ester eines verzweigtkettigen mehrwertigen ungesättigten Alkohols der Formel
    CtH (2x + 2-y-z)
    Kohlenstoffgerüst eines mehrwertigen Alkohols
    yoch2ch^
    I"
    Alkylcnoxyd-Ketten
    verlängerung
    - oc — c = ch2
    II I
    or
    Additions-
    polymerisierbares
    Ester-Kettenende
    enthält, wobei
    q=h, ch:t oder c2h3,
    r-h oder ch:!,
    .ν = eine der Zahlen 3, 4, 5 oder 6,
    r = eine der Zahlen 2, 3, 4, 5 oder 6,
    ζ = eine der Zahlen 0, 1,2, 3 oder 4,
    m = eine der Zahlen 0, 1 oder höher,
    /; = die Zahl 1 oder höher,
    + mz = größer als 6, jedoch nicht größer als 500 ist.
DE1965P0036875 1964-05-26 1965-05-22 Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien Expired DE1284293C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US370338A US3380831A (en) 1964-05-26 1964-05-26 Photopolymerizable compositions and elements

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE1284293B true DE1284293B (de) 1968-11-28
DE1284293C2 DE1284293C2 (de) 1980-02-14

Family

ID=23459221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1965P0036875 Expired DE1284293C2 (de) 1964-05-26 1965-05-22 Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien

Country Status (5)

Country Link
US (2) US3380831A (de)
BE (1) BE664445A (de)
DE (1) DE1284293C2 (de)
FR (1) FR1444298A (de)
GB (1) GB1055198A (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2651864A1 (de) * 1975-11-17 1977-05-18 Du Pont Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial, seine verwendung und verfahren zur bildreproduktion
DE2934486A1 (de) * 1979-08-25 1981-03-26 Fa. Carl Freudenberg, 69469 Weinheim Verfahren zur herstellung eines werkstueckes aus einem polymeren werkstoff

Families Citing this family (118)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3515552A (en) * 1966-09-16 1970-06-02 Minnesota Mining & Mfg Light-sensitive imaging sheet and method of using
BE757386A (fr) * 1969-10-13 1971-04-13 Du Pont Procede de transfert double pour images photodurcissables
CA977202A (en) * 1970-08-03 1975-11-04 Uniroyal Photosensitive compositions
US3965150A (en) * 1970-12-18 1976-06-22 General Electric Company Polyether esters of alkenoic acids
US3787212A (en) * 1972-08-04 1974-01-22 Monsanto Co Polymeric photosensitive compositions and methods using same
US4025348A (en) * 1974-05-10 1977-05-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin compositions
CA1037311A (en) * 1974-11-13 1978-08-29 Ronald S. Steelman Image transfer element
US4310615A (en) * 1974-11-13 1982-01-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Image transfer element having release layer
US4077858A (en) * 1976-10-04 1978-03-07 Celanese Corporation Completely polymerized ultraviolet cured coatings
DE2651507C3 (de) * 1976-11-11 1981-09-10 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verwendung von Triacrylaten von oxäthyliertem Trimethylolpropan mit einem Oxäthylierungsgrad von 2,5 bis 4 als Verdünnungsmittel in strahlenhärtbaren Zusammensetzungen
US4187383A (en) * 1976-12-28 1980-02-05 Union Carbide Corporation Process for producing low color residue acrylate esters
US4187382A (en) * 1976-12-28 1980-02-05 Union Carbide Corporation Process for producing low color residue acrylate ester monomers
US4226927A (en) * 1978-05-10 1980-10-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photographic speed transfer element with oxidized polyethylene stripping layer
US4254210A (en) * 1978-05-11 1981-03-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Combined silver halide tonable photopolymer element to increase density
US4201821A (en) * 1978-12-22 1980-05-06 Howard A. Fromson Decorated anodized aluminum article
US4308119A (en) * 1979-02-21 1981-12-29 Panelgraphic Corporation Abrasion-resistant optical coating composition containing pentaerythritol based polyacrylates and cellulose esters
US4262079A (en) * 1979-04-26 1981-04-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Image transfer element
US4407855A (en) * 1980-01-07 1983-10-04 Panelographic Corporation Method for forming an abrasion resistant coating from cellulose ester and pentaerythritol acrylates
US4399192A (en) * 1980-01-07 1983-08-16 Panelographic Corporation Radiation cured abrasion resistant coatings of pentaerythritol acrylates and cellulose esters on polymeric substrates
US4373008A (en) * 1980-01-30 1983-02-08 Rohm And Haas Company Ambient hydrocurable coating compositions
US4343888A (en) * 1980-05-01 1982-08-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Use of radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers in printing plates
US4284710A (en) * 1980-05-01 1981-08-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers
US4329419A (en) * 1980-09-03 1982-05-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric heat resistant photopolymerizable composition for semiconductors and capacitors
US4369247A (en) * 1980-09-03 1983-01-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process of producing relief structures using polyamide ester resins
US4414312A (en) * 1980-09-03 1983-11-08 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Photopolymerizable polyamide ester resin compositions containing an oxygen scavenger
US4410612A (en) * 1980-09-03 1983-10-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electrical device formed from polymeric heat resistant photopolymerizable composition
US4373007A (en) * 1980-11-03 1983-02-08 Panelgraphic Corporation [Non-photoinitialio] non-photocatalyzed dipentaerythritol polyacrylate based coating compositions exhibiting high abrasion resistance
US4382135A (en) * 1981-04-01 1983-05-03 Diamond Shamrock Corporation Radiation-hardenable diluents
US4341860A (en) 1981-06-08 1982-07-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging compositions containing substituted cyclohexadienone compounds
US4417023A (en) * 1982-01-21 1983-11-22 Diamond Shamrock Corporation Polysiloxane stabilizers for flatting agents in radiation hardenable compositions
US4599274A (en) * 1983-03-11 1986-07-08 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Photo-curable adhesive composition for glass lamination and laminated glass and process for its production
US4592816A (en) 1984-09-26 1986-06-03 Rohm And Haas Company Electrophoretic deposition process
US4691045A (en) * 1984-12-06 1987-09-01 Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd. Hydroxyl group-containing (meth)acrylate oligomer, prepolymer therefrom, and method for use thereof
US4876384A (en) * 1985-04-22 1989-10-24 Diamond Shamrock Chemicals Co. Radiation-hardenable diluents
US4745138A (en) * 1985-08-05 1988-05-17 Pony Industries, Inc. Radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers
US4722947A (en) * 1985-08-05 1988-02-02 Pony Industries, Inc. Production of radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers
US5110889A (en) * 1985-11-13 1992-05-05 Diamond Shamrock Chemical Co. Radiation hardenable compositions containing low viscosity diluents
CA1292476C (en) * 1985-11-13 1991-11-26 Robert A. Lieberman Radiation-hardenable diluents
US4670512A (en) * 1986-03-14 1987-06-02 The Dow Chemical Company Acrylic coating compositions and method therefor
JPH0686493B2 (ja) * 1986-07-04 1994-11-02 サンノプコ株式会社 放射線交叉結合可能な組成物
DE3703080A1 (de) * 1986-07-25 1988-01-28 Bayer Ag (meth)-acrylsaeureester
CA1317313C (en) * 1987-04-10 1993-05-04 Hisaki Tanabe Polymerizable vinyl monomers and vinyl resins prepared therefrom
US4885229A (en) * 1987-12-22 1989-12-05 501 Daicel Chemical Industries Ltd. Photopolymerizable compositions
JP2532302B2 (ja) * 1990-11-07 1996-09-11 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷版
EP0487086B2 (de) * 1990-11-22 2008-08-13 Canon Kabushiki Kaisha Verfahren zum Herstellen von einem Volumen-Phasenhologram mit einem photoempfindlichen Aufzeichnungsmedium
JP3182422B2 (ja) * 1992-07-31 2001-07-03 イー・アイ・デユポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 粒子装着のための方法及び生成物
US5496589A (en) * 1993-03-23 1996-03-05 Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. Curing composition and method for impregnating wood
JP3084677B2 (ja) * 1993-05-11 2000-09-04 キヤノン株式会社 スチリルクマリン化合物、光増感剤、感光性樹脂組成物、ホログラム記録媒体
DE4315831A1 (de) * 1993-05-12 1994-11-17 Basf Ag Strahlungshärtbare, wäßrige Dispersion
JP3085497B2 (ja) * 1993-05-25 2000-09-11 キヤノン株式会社 ピラン誘導体、光増感剤、感光性樹脂組成物及びこの組成物を用いたホログラム記録媒体
US5436227A (en) * 1993-05-27 1995-07-25 Shell Oil Company Soluble/insoluble alcohol in drilling fluid
US5363918A (en) * 1993-08-04 1994-11-15 Shell Oil Company Wellbore sealing with unsaturated monomer system
JPH0867866A (ja) * 1994-06-20 1996-03-12 Canon Inc 光重合剤及び／又は光架橋剤に対する可視光増感剤、感光性組成物及びホログラム記録媒体
US5557308A (en) 1994-07-08 1996-09-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ink jet print head photoresist layer having durable adhesion characteristics
DE4432648A1 (de) 1994-09-14 1996-03-21 Bayer Ag Tertiäre Amine, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Härtungsbeschleuniger
US5580410A (en) * 1994-12-14 1996-12-03 Delta Technology, Inc. Pre-conditioning a substrate for accelerated dispersed dye sublimation printing
DE19535936A1 (de) * 1995-09-27 1997-04-03 Basf Lacke & Farben Acryliertes Polyetherpolyol und dessen Verwendung für strahlenhärtbare Formulierungen
DE69842167D1 (de) 1997-10-16 2011-04-21 Sun Chemical Corp Photoneutralisierung von ph-empfindlichen wässrigen polymerdispersionen und verfahren zur deren verwendung
US6037014A (en) * 1997-11-06 2000-03-14 The Edgington Co. Coating composition
US6143120A (en) * 1998-06-25 2000-11-07 The Standard Register Company Cellulose substrates with transparentized area and method of making
US6103355A (en) * 1998-06-25 2000-08-15 The Standard Register Company Cellulose substrates with transparentized area and method of making same
EP0989172A1 (de) * 1998-09-24 2000-03-29 Hitachi Chemical Co., Ltd. Kleber für metallische Folien, mit diesem Kleber überzogene metallische Folie, mit der metallischen Folie überzogene Schichtplatte und daraus hergestellte Erzeugnisse
US6358596B1 (en) 1999-04-27 2002-03-19 The Standard Register Company Multi-functional transparent secure marks
JP4558178B2 (ja) * 2000-11-30 2010-10-06 新日鐵化学株式会社 光又は熱硬化性樹脂組成物及びプリント配線基板
US6376148B1 (en) 2001-01-17 2002-04-23 Nanotek Instruments, Inc. Layer manufacturing using electrostatic imaging and lamination
US6607813B2 (en) 2001-08-23 2003-08-19 The Standard Register Company Simulated security thread by cellulose transparentization
US6911263B2 (en) * 2002-01-30 2005-06-28 Awi Licensing Company PET wear layer/sol gel top coat layer composites
DE10225943A1 (de) * 2002-06-11 2004-01-08 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Estern von Polyalkoholen
US20050165208A1 (en) * 2002-06-11 2005-07-28 Popp Andreas A. (Meth)acrylic esters of polyalkoxylated glycerine
JP2005532432A (ja) * 2002-06-11 2005-10-27 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト ポリアルコキシル化されたトリメチロールプロパンの（メタ）アクリルエステル
JP2005532430A (ja) * 2002-06-11 2005-10-27 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト ポリアルコキシル化されたトリメチロールプロパンの（メタ）アクリルエステル
EP1426426A1 (de) * 2002-12-02 2004-06-09 Rohm And Haas Company Durch Strahlung härtbare Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Kaltsiegelklebstoffen
CA2526970C (en) * 2003-06-12 2013-07-09 Valspar Sourcing, Inc. Coating compositions containing reactive diluents and methods
US7728068B2 (en) * 2003-06-12 2010-06-01 Valspar Sourcing, Inc. Coating compositions containing reactive diluents and methods
FR2857662B1 (fr) * 2003-07-15 2008-06-13 Seppic Sa Procede de preparation de polyethoxyles a partir de polyols solides a temperature ordinaire et composition mise en oeuvre
US7105588B2 (en) * 2003-10-10 2006-09-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Screen printable hydrogel for medical applications
JP2005221743A (ja) * 2004-02-05 2005-08-18 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
US20050176246A1 (en) * 2004-02-09 2005-08-11 Haixin Yang Ink jet printable thick film ink compositions and processes
US7683107B2 (en) 2004-02-09 2010-03-23 E.I. Du Pont De Nemours And Company Ink jet printable thick film compositions and processes
US20050173680A1 (en) 2004-02-10 2005-08-11 Haixin Yang Ink jet printable thick film ink compositions and processes
US7135267B2 (en) * 2004-08-06 2006-11-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods
US7371335B2 (en) 2004-10-21 2008-05-13 E.I. Dupont De Nemours And Company Curable thick film compositions for use in moisture control
MX2007006084A (es) * 2004-11-22 2007-07-11 Valspar Sourcing Inc Composiciones y metodos de recubrimiento.
BRPI0518327A2 (pt) * 2004-12-17 2008-11-11 Valspar Sourcing Inc composiÇço de revestimento, mÉtodo para revestir um substrato, revestimento sobre um substrato, e, mÉtodo para revestir uma superfÍcie de substrato
US8609762B2 (en) * 2004-12-17 2013-12-17 Valspar Sourcing, Inc. Aqueous coating compositions containing acetoacetyl-functional polymers, coatings, and methods
US20060154180A1 (en) 2005-01-07 2006-07-13 Kannurpatti Anandkumar R Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element
EP1691237A3 (de) 2005-02-15 2006-10-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Holographisches Aufzeichnungsmaterial und holographisches Aufzeichnungsverfahren
US7569165B2 (en) * 2005-03-09 2009-08-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Black conductive compositions, black electrodes, and methods of forming thereof
JP2007012371A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 E I Du Pont De Nemours & Co 導電組成物およびプラズマディスプレイの背面基板の製造方法
US7291292B2 (en) * 2005-08-26 2007-11-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Preparation of silver particles using thermomorphic polymers
US20070059459A1 (en) * 2005-09-12 2007-03-15 Haixin Yang Ink jet printable hydrogel for sensor electrode applications
WO2007059516A1 (en) 2005-11-15 2007-05-24 Valspar Sourcing, Inc. Crush resistant latex topcoat composition for fiber cement substrates
US7666328B2 (en) * 2005-11-22 2010-02-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thick film conductor composition(s) and processing technology thereof for use in multilayer electronic circuits and devices
US9783622B2 (en) * 2006-01-31 2017-10-10 Axalta Coating Systems Ip Co., Llc Coating system for cement composite articles
EP1979293B1 (de) * 2006-01-31 2013-03-06 Valspar Sourcing, Inc. Beschichtungssystem für zementverbundartikel
EP1979426A1 (de) * 2006-01-31 2008-10-15 Valspar Sourcing, Inc. Beschichtungssystem für zementverbundartikel
CN101374787B (zh) * 2006-01-31 2013-12-11 威士伯采购公司 涂布水泥纤维板制品的方法
US7645564B2 (en) * 2006-03-03 2010-01-12 Haixin Yang Polymer solutions, aqueous developable thick film compositions, processes of making and electrodes formed thereof
MX2008014749A (es) * 2006-05-19 2009-02-04 Valspar Sourcing Inc Sistema de recubrimiento para articulos compuestos de cemento.
EP2035516B2 (de) 2006-06-02 2017-01-04 Valspar Sourcing, Inc. Wässrige hochleistungsbeschichtungszusammensetzungen
US7812090B2 (en) * 2006-06-02 2010-10-12 Valspar Sourcing, Inc. High performance aqueous coating compositions
CA2656689C (en) * 2006-07-07 2017-01-03 Valspar Sourcing, Inc. Coating systems for cement composite articles
US7527915B2 (en) * 2006-07-19 2009-05-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flame retardant multi-layer photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto
MX2008002220A (es) * 2007-02-16 2009-02-25 Valspar Sourcing Inc Tratamiento para articulos compuestos de cemento.
EP2183200A1 (de) * 2007-08-01 2010-05-12 Valspar Sourcing, Inc. Beschichtungssystem für zementverbundartikel
US8470518B2 (en) 2007-09-14 2013-06-25 E I Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
JP2011505052A (ja) * 2007-11-27 2011-02-17 サウスボーン インヴェストメンツ エル ティ ディー ホログラフィー記録媒体
US8002603B2 (en) * 2008-05-19 2011-08-23 E.I. Du Pont De Nemours And Company Co-processable photoimageable silver and corbon nanotube compositions and method for field emission devices
CA2732835C (en) * 2008-08-15 2016-05-24 Valspar Sourcing, Inc. Self-etching cementitious substrate coating composition
US8465904B2 (en) 2008-10-31 2013-06-18 E I Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a printing form from a photopolymerizable element
WO2010060109A1 (en) 2008-11-24 2010-05-27 Valspar Sourcing, Inc. Coating system for cement composite articles
US9132364B2 (en) 2010-02-26 2015-09-15 Dionex Corporation High capacity ion chromatography stationary phases and method of forming
WO2012125493A1 (en) 2011-03-11 2012-09-20 Dionex Corporation Electrostatically bound hyperbranched anion exchange surface coating prepared via condensation polymerization using tertiary amine linkers for improved divalent anion selectivity
US20130105440A1 (en) 2011-11-01 2013-05-02 Az Electronic Materials Usa Corp. Nanocomposite negative photosensitive composition and use thereof
WO2014059444A2 (en) * 2012-10-12 2014-04-17 Eli Lilly And Company Chemical engines and methods for their use, especially in the injection of highly viscous fluids
EP3035122B1 (de) 2014-12-16 2019-03-20 ATOTECH Deutschland GmbH Verfahren zur Feinleiterherstellung
JP6841937B2 (ja) 2017-02-17 2021-03-10 イーライ リリー アンド カンパニー 化学反応による流体の送達のためのプロセスおよびデバイス
FR3067929B1 (fr) * 2017-06-23 2019-11-22 Produits Dentaires Pierre Rolland Adhesif dentaire

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2755303A (en) * 1952-04-12 1956-07-17 Bayer Ag Polymerizable esters
US2996538A (en) * 1957-11-25 1961-08-15 Dow Chemical Co Preparation of monomeric polyglycol acrylate and methacrylate esters
NL255801A (de) * 1959-09-11
US3041371A (en) * 1959-11-03 1962-06-26 Union Carbide Corp Production of acrylic and methacrylic esters of polyoxyalkylene compounds
US3261686A (en) * 1963-04-23 1966-07-19 Du Pont Photopolymerizable compositions and elements

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
None *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2651864A1 (de) * 1975-11-17 1977-05-18 Du Pont Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial, seine verwendung und verfahren zur bildreproduktion
DE2934486A1 (de) * 1979-08-25 1981-03-26 Fa. Carl Freudenberg, 69469 Weinheim Verfahren zur herstellung eines werkstueckes aus einem polymeren werkstoff

Also Published As

Publication number Publication date
US3380831A (en) 1968-04-30
GB1055198A (en) 1967-01-18
US3594410A (en) 1971-07-20
BE664445A (de) 1965-11-25
FR1444298A (fr) 1966-07-01
DE1284293C2 (de) 1980-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1284293C2 (de) Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien
DE2064079C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE1522362C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch sowie Verfahren zur Herstellung eines photopolymerisierbaien Aufzeichnungsttiaterials
DE1906668C3 (de) Fotografisches Aufzeichnungsmaterial für Bildreproduktionen und Verfahren zu seiner Herstellung sowie ein Reproduktionsverfahren
DE1267547B (de) Photopolymerisierbare Schicht
EP0065285A2 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Kopiermaterial
DE2361041B2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE1745226B2 (de) Verfahren zur Herstellung von vernetzbaren, fotopolymerisierbaren Mischpolymeren und ihre Verwendung
DE2405915A1 (de) Lichtempfindliche lithographische druckplatte
DE2053683A1 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2720228A1 (de) Lichtempfindliche zusammensetzungen und sie enthaltende druckplatten
DE1447029A1 (de) Elastisches,fotopolymerisierbares Material zur Herstellung von Druckplatten
EP0097864A1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE3604402C2 (de) Lichtempfindliche Harzmasse und deren Verwendung zur Herstellung einer Photopolymer-Druckplatte
DE2124047A1 (de) Photosensitive Polymere, Verfahren zur Herstellung derselben und diese Polymeren enthaltende Zusammensetzungen
DE4102173A1 (de) Lagerstabile loesung eines carboxylgruppenhaltigen copolymerisats sowie verfahren zur herstellung von photoempfindlichen lacken und offsetdruckplatten
EP0103218B1 (de) 10-Phenyl-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch
EP0351628A2 (de) Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten
EP0008787B1 (de) Positive Elektronenstrahl-Resistlackbindemittel
DE2525297A1 (de) Photopolymerisierbare massen und ihre verwendung
EP0399329A2 (de) Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten
DE1772662B1 (de) Verfahren zur photographischen Herstellung einer Reliefplatte,die ein photopolymerisates raeumliches Bild traegt
DE1202134B (de) Photopolymerisierbare Schicht zur Herstellung von Bildern oder Druckformen
DE2166551C3 (de) Copolymerisate mit äthylenisch ungesättigten Seitenketten und deren Verwendung
DE2141948A1 (de) Lichtempfindliche, filmbildende Polymere

Legal Events

Date Code Title Description
C2 Grant after previous publication (2nd publication)