DE1284293C2 - Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien - Google Patents

Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien

Info

Publication number
DE1284293C2
DE1284293C2 DE1965P0036875 DEP0036875A DE1284293C2 DE 1284293 C2 DE1284293 C2 DE 1284293C2 DE 1965P0036875 DE1965P0036875 DE 1965P0036875 DE P0036875 A DEP0036875 A DE P0036875A DE 1284293 C2 DE1284293 C2 DE 1284293C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
photopolymerizable
mixture
ester
chain
recording materials
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE1965P0036875
Other languages
English (en)
Other versions
DE1284293B (de
Inventor
Abraham Bernard Springfield Schoenthalter Arnold Charles East Brunswick NJ Cohen (VStA)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of DE1284293B publication Critical patent/DE1284293B/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1284293C2 publication Critical patent/DE1284293C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • C08F20/20Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/331Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen
    • C08G65/332Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof
    • C08G65/3322Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing oxygen containing carboxyl groups, or halides, or esters thereof acyclic
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
    • C08G2650/16Photopolymerisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/02Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
    • C08G2650/20Cross-linking
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2312/00Crosslinking
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/109Polyester

Description

HO
CHCH,0
H(2.v + 2—y—z)-0CH,CH
OC-C=CH2
O R
Kettenende
mit freier
Hydroxylgruppe
Kohlenstoffgerüst eines Alkylenoxyd- Additionspolymerisierbares mehrwertigen Alkohols Kelten- Ester-Kettenende
Verlängerung
entspricht, wobei
= H oder CH3,
= H oder CH3,
χ = eine der Zahlen 3,4,5 oder 6,
y = eine der Zahlen 2,3,4,5 oder 6,
ζ = eine der Zahlen 0,1,2,3 oder 4,
m = eine der Zahlen 0,1 oder höher,
η — die Zahl 1 oder höher
ny+ mz = größer als 6, jedoch nicht größer als 500, ist
Als zur Additionspolymerisation befähigte äthylenisch ungesättigte Monomere sind beispielsweise Ester von a-Methylencarbonsäuren, wie die Bis-acrylate und Bis-methacrylate des Äthylenglykols, des Diäthylenglykols und von Polyäthylenglykolen mit Molekulargewichten bis 500 oder mehr bekannt. Monomere dieser Gattung weisen mindestens eine und vorzugsweise zwei endständige äthylenische Gruppen auf. Weitere bekannte Monomere dieser Art sind die Pentaerythritacrylate und Pentaerythritmethacrylate mit zwei bis vier Acrylylresten.
Es hat sich herausgestellt, daß die Verwendung dieser bekannten additionspolymerisierbaren äthylenisch ungesättigten Ester im Rahmen lichtempfindlicher Gemische fotopolymerisierbarer Schichten von Aufzeichnungsmaterialien den Nachteil einer die Verarbeitung häufig erschwerenden Toxäzität mit sich bringt. Außerdem ließ bei Verwendung der entsprechenden fotopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterialien für die Herstellung von Reproduktionen die Schärfe der Rasterpunkte zu wünschen übrig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, äthylenisch ungesättigte Ester anzugeben, die eine herabgesetzte Toxizität aufweisen und außerdem im Rahmen der Reproduktionstechnik zu Reproduktionen mit verbesserter Schärfe der Rasterpunkte führen.
Die Erfindung geht aus von der Verwendung eines fotopolymerisierbaren Gemisches, das ein organisches, bei 500C festes polymeres Bindemittel, einen Fotopolymerisationsinitiator und einen äthylenisch ungesättigten, additionspolymerisierbaren Ester einer «-Methylencarbonsäure mit einem Polyol, dessen Kohlenstoffkette durch Sauerstoffatome unterbrochen ist, enthält, als lichtempfindliche Schicht fotopolymerisierbarer Aufzeichnungsmaterialien. Kennzeichnend ist, daß das Gemisch als äthylenisch ungesättigten Ester einen Ester eines verzweigtkettigen, mehrwertigen Ätheralkohols mit wiederkehrenden Äthereinheiten enthält, der durch Kondensation von Äthylenoxyd oder Propylenoxyd mit 3- bis 6wertigen Alkoholen erhalten wurde und der Formel
HO /CHCH2O
Kettenende
mit freier
Hydroxylgruppe
-CxH(2a- + 2--v- z)
Kohlenstoffgerüst eines mehrwertigen Alkohols
entspricht, wobei
= H oder CH3,
= H oder CH1,
= eine der Zahlen 3,4,5 oder 6,
= eine der Zahlen 2, 3, 4, 5 oder 6,
= eine der Zahlen 0, I, 2, 3 oder 4,
= eine der Zahlen 0,1 oder höher.
= die Zahl 1 oder höher
OCH1CH \ OC C=CH,
OR-
Alkylenoxyd-
Ketten-
verlüngerung
Additionspolymerisierbares
Ester-Kettencndc
Diese durch eine Alkylenoxyd-Ketten Verlängerung der angegebenen Art charakterisierten äthylenisch ungesättigten Ester verzweigtkettiger mehrwertiger Ätheralkohole zeichnen sich durch eine gegenüber den bisher verwendeten Estern durch eine stark erniedrigte Giftigkeit aus, wodurch ihre Verarbeitung erleichtert wird. Außerdem führt ihre Verwendung in fotopolymerisierbaren Schichten bei der Herstellung von Repro-
ny+mz = größer als 6, jedoch nicht größer als 500 ist. duktionen zu einer stark verbesserten Schärfe der
Rasterpunkte. Außerdem wird eine höhere Gleichmäßigkeit hinsichtlich der Größe der einzelnen Rasterpunkte erreicht
Geeignete verzweigtkettige mehrwertige Alkohole mit wiederkehrenden Athereinheiten und einem breiten Vernetzungsbereich werden durch Kondensation von Äthylen- oder Propylenoxyd mit 3- bis öweitigen Alkoholen von niedrem Molekulargewicht gewonnen.
Äthylenoxyd und Propylenoxyd können als Kettenverlängerer angewandt werden, können aber auch am Ende freier Hydroxylgruppen enthaltender Ketten stehen.
«-Methylencarbonsäuren, die die additionspolymerisierbaren Esterkettenenden liefern, sind beispielsweise Acrylsäure und Methacrylsäure.
Besonders bevorzugte Monomere der Erfindung sind die Triacrylat- und Trimethacrylatester des Reaktionsproduktes von Ti'imethylolpropan und Äthylenoxyd, die Triacrylatester des Reaktionsproduktes von Trimethylolpropan und Propylenoxyd, das Tetraacrylat und das Tetramethacrylat der Reaktionsprodukte von Äthylenoxyd und Propylenoxyd mit Pentaerythrit. Die Reaktionsprodukte besitzen vorzugsweise ein durchschnittliches Molekulargewicht von etwa 450 bis etwa 40 000.
Die fotopolymerisierbaren Massen enthalten ein thermoplastisches, bei 50° C festes, makromolekulares organisches Polymeres (IO bis 99 Teile) mindestens eines der beschriebenen Monomeren (99 bis 5 Teile), einen durch aktinische Bestrahlung — beispielsweise einer Wellenlänge von 200 bis 700 πιμ — aktivierbaren Initiator für die Additionspolymerisation (0,001 bis 20 Teile); falls gewünscht, können 0,001 bis 2 Teile eines Inhibitors für die Additionspolymerisation zugegeben werden. Alle Mengenangaben stellen Gewichtsangaben dar.
Die die beschriebenen Massen verwendenden fotopolymerisierbaren Materialien bestehen aus einer Schicht und einem Träger. Die Schicht ist unterhalb 40° C fest und ist befähigt, bei Belichtung unterbelichtete Bildbereiche auszubilden, die, bedingt durch ihre Fließ-, Kleboder Übertragungstemperatur, oberhalb 40° C und unterhalb 220° C thermisch übertragbar sind. Das thermographische Übertragungsverfahren für Reproduktionen besteht darin, die Oberfläche dieser Schicht auf eine gesonderte, bildaufnehmende Oberfläche zu drücken, mindestens eine der Oberflächen auf eine Temperatur von mindestens 40° C zu erhitzen und die beiden Flächen wieder voneinander zu trennen. Dabei gehen die thermisch übertragbaren, unexponierten Bildbereiche der Schicht auf die bildaufnehmende Fläche über.
Die fotopolymerisierbaren Schichten, die sowohl für das thermische Übertragungsverfahren oder für bei Raumtemperatur ablaufende Reproduktionsverfahren benutzt werden, besitzen eine Dicke von 0,0003 bis 0,13 mm, vorzugsweise von 0,003 bis 0,03 mm. Für die Herstellung von Druckplatten arbeitet man mit fotopolymerisierbaren Schichten, die 0,08 bis 6,35 mm, vorzugsweise 0,25 bis 1,02 mm dick sind.
Geeignete aufnehmende Trägermaterialien, thermoplastische, polymere Bindemittel, nicht thermoplastische polymere Zusatzstoffe, Füllstoffe oder Verstärkungsstoffe, Initiatoren für die Additionspolymerisation, Inhibitoren für die thermische Polymerisation, zuzusetzende Farbstoffe und Pigmente sowie feste oder flexible Trägerstoffe sind in den US-Patentschriften 30 60 023, 30 60 024,30 60 025 und 30 60 026 beschrieben.
Alle Mengenangaben stellen Gewichtsangaben dar.
Beispiel 1 Triacrylat des oxyäthylierten Trimethylolpropans
A. Herstellung, auf die hier kein Schutz beansprucht wird
Eine Mischung der nachstehend aufgeführten Stoffe wurde 15V2 Stunden unter Rückfluß erhitzt, wobei ein mit einer azeotropischen Trennvorrichtung ausgestatteter Kühler benutzt wurde:
1200 g oxyäthyliertes Trimethylolpropan eines durchschnittlichen Molekulargewichts von 1040 (über die Herstellung vgL »Polyethers«, Teil I, Interscience Publishers, New York; N. G. Gaylord, Ed.),
310 g reine Acrylsäure, die 0,1% p-Methoxyphenol
als Polymerisationsinhibitor enthielt, 600 cm3 Benzol,
6,3 cm3 konzentrierte Schwefelsäure (spezifisches Gewicht 184).
1,5 g Kupfer(I)-oxyd.
Während dieser Zeit wurden 62 cm3 Wasser (100% der Theorie) aufgefangen. Die Reaktionsmischung wurde gekühlt, mit 2000 cm3 Benzol verdünnt und dann mit zwei 600-cm3-Anteilen von 20%igem Natriumchlorid, zwei 600-cm3-Anteilen von 24%igem Kaliumbicarbonat und schließlich mit 600 cm3 von 20%igem Natriumchlorid extrahiert Der organische Extrakt wurde durch Verrühren mit 180 g
«ι Kieselgur, Abfiltrieren und Aufbewahren über wasserfreiem Kalziumsulfat über Nacht geklärt
Ein 500-cm3-Anteil des wasserfreien Extraktes wurde unter Durchleiten durch eine 38 mm χ 60 cm-Kolonne gereinigt, die mit Aluminiumxoyd einer Teilchengröße
ji von 0,3 mm gefüllt war. Nach Zugabe von 0,10 g p-Methoxyphenol wurde die gereinigte Lösung durch Luftabsaugung mit Hilfe einer Wasserstrahlpumpe auf einem Ölbad bei einer Badtemperatur von 50 bis 60° C so aufkonzentriert, daß 128 g eines viskosen wasserhel len Öls (H - 1,4712) anfielen. Toxikologische Untersuchungen ergaben, daß dieses Monomere nur etwa Vs so giftig war wie Pentaerythrittriacrylat und daß dieses Monomere nur V5 so giftig wie das Triäthylenglykoldiacrylat war.
B. Die erfindungsgemäße Verwendung
Kopierfiim für direkt positive thermische Überfagung
Es wurde eine Mischung der nachstehenden Bestandteile bereitet, indem diese 16 Stunden in einem Glasgefäß mit Kugeln aus keramischer Masse (Durchmesser 9,2 mm) vermählen wurden:
1,50 g des vorstehend beschriebenen Triacrylats, " 6,00 g einer 25%igen Lösung von Polymethylmethacrylat mit einem in Benzollösung gemessenem Molekulargewicht von etwa 20 000 bis 50 000, 2,00 g einer 15%igen Dispersion von Ruß in Isopropan-
anol, b0 0,20 g 2-t-Butylanthrachinon,
Rest Aceton bis zu einem Gesamtgewicht von 20 g.
Die erhaltene Masse wurde dann auf eine 0,10 mm dicke Polyäthylenterephthalatgrundfolie aufgezogen. b5 Beschichtet wurde unter Verwendung eines auf einen Abstand von 0,15 mm eingestellten Abstreichmessers.
Nach Lufttrocknung über Nacht wurde der Überzug auf eine unbehandelte Polyäthylenterephthalatfolie von
0,03 mm Dicke aufgeschichtet, wobei mit geheizten, belasteten mechanisch angetriebenen Waken gearbeitet wurde. Walzentemperatur: 1000C; Druck: 8,45 kg/cm2 (linear); Durchlaufgeschwindigkeit: 60,96 cm.
Diese Folie wurde 1 Minute in Berührung mit einem positiven Transparent im Abstand von 40,64 cm durch eine 65-Ampere-3300-Watt-Kohtobogenlampe belichtet Dann wurde die 0,03 mm dicke Deckfolie entfernt und die unbelichteten Bildbereiche des Überzuges nunmehr von der 0,10-mm-Trägerfolie auf Papier übertragen, wobei die gleiche Vorrichtung angewandt und unter den gleichen Bedingungen gearbeitet wurde wie bei der Beschichtung der Deckfolie. Papier und Überzug wurden unmittelbar nach Austritt aus dem Walzenspalt voneinander getrennt Die exponierten polymerisierten Bereiche waren nicht länger plastisch und anhaftend und gingen unter diesen Bedingungen nicht über. Erhalten wurde eine positive Kopie des ursprünglichen Transparents auf dem aufnehmenden Papier.
Beispiel 2
Triacrylat des oxyäthylierten Trimethylolpropans A. Herstellung
Die für die Herstellung des Monomeren im Beispiel 1, A beschriebene Arbeitsweise wurde unter Verwendung nachstehender Substanzen wiederholt:
609 g oxyäthyliertes Trimethylolpropan eines
durchschnittlichen Molekulargewichts von
609,
270 g reine Acrylsäure mit einem Gehalt von
0,1% an p-Methoxyphenol, 300 cm3 Benzol,
3,0 cm3 konzentrierte Schwefelsäure (spezifisches
Gewicht: 1,84).
0,75 g Kupfer(I)-oxyd.
Im Verlauf von 13 Stunden wurde entsprechend 100% der "iTieorie 54 c n3 Wasser aufgefangen. Die Reaktionsmischung wurae extrahiert und geklärt, wie im Beispiel 1 beschrieben, wobei entsprechende Substanzmengen eingesetzt wurden. Nach Aufkonzen-
15
20
25
30
35 tration im Vakuum in Gegenwart von 0,4 g p-Methoxyphenol verblieben 707 g eines viskosen, hellgelben Öls (N = 1,4722). Die Masse wurde durch Auflösung von 100 g in 100 cm3 Aceton und Durchlaufenlassen dieser Lösung durch mit aktiviertem Aluminiumoxyd gefüllte Kolonnen gereinigt
B. Kopierfilm
für direkt positive thermische Übertragung
Entsprechend Beispiel 1, B wurde ein Kopierfilm hergestellt, dabei jedoch an Stelle des Triacrylats des Beispiels 1 nunmehr 1,5 g des vorstehend beschriebenen Triacrylats angewandt Nach Belichtung und Entwicklung durch thermische Übertragung entsprechend Beispiel 1, B lieferte er positive Kopien der Transparente.
C. Druckerpressen-Druckform
Eine Mischung nachstehender Substanzen wurde als 15,2 χ 22,86-cm-Fläche in einer Schale auf eine mit einer Kiebmasse überschichtete Aluminiumfolie gegossen:
42 g Celluloseacetat — Hydrogensuccinat in 200 cm3 Aceton und 10 cm3 Methanol,
20 g des Triacrylatmonomeren der Zubereitung A,
0,06 g p-Meihoxyphenol,
0,07 g 2-Äthylanthrachinon.
Nach langem Trocknen an der Luft unter Einstellung einer Dicke von etwa 0,76 mm wurde die Platte über Nacht in Kohlendioxydatmosphäre konditioniert. Dann wurde 90 Sekunden in Berührung mit einem inaktiven Verfahrens-Transparent exponiert (Abstand einer 140-Ampere-Kohlenbogenlampe: 76,2 cm). Durch Aufspritzen von 0,04normaler Natriumhydroxydlösung wurden die unexponierten Bereiche weggewaschen, und es verblieb der exponierte, polymerisierte Teil in Form eines für Druckerpressen-Druckformen geeigneten Reliefbildes. Dieses stellte eine einwandfreie Reproduktion mit guter Abstimmung von Schattenbereichen und helleren Bildpunkten dar.
Es konnten keine Anzeichen für Ungleichheit bei der Bildung von Halbtonpunkten festgestellt werden.

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Verwendung eines fotopolymerisierbaren Gemisches, das ein organisches, bei 500C festes polymeres Bindemittel, einen Fo '.opolymerisationsinitiator und einen äthylenisch ungesättigten, additionspolymerisierbaren Ester einer «-Methylencarbonsäure mit einem Polyol, dessen Kohlenstoffkette durch Sauerstoffatome unterbrochen ist, enthält, als lichtempfindliche Schicht fotopolymerisierbarer Aufzeich-
    IO nungsmaterialien, dadurch gekennzeichnet, daß das Gemisch als äthylenisch ungesättigten Ester einen Ester eines verzweigtkettigen, mehrwertigen Ätheralkohols mit wiederkehrenden Äthereinheiten enthält, der durch Kondensation von Äthylenoxyd oder Propylenoxyd mit 3- bis 6wertigen Alkoholen erhalten wurde und der Formel
DE1965P0036875 1964-05-26 1965-05-22 Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien Expired DE1284293C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US370338A US3380831A (en) 1964-05-26 1964-05-26 Photopolymerizable compositions and elements

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE1284293B DE1284293B (de) 1968-11-28
DE1284293C2 true DE1284293C2 (de) 1980-02-14

Family

ID=23459221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1965P0036875 Expired DE1284293C2 (de) 1964-05-26 1965-05-22 Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien

Country Status (5)

Country Link
US (2) US3380831A (de)
BE (1) BE664445A (de)
DE (1) DE1284293C2 (de)
FR (1) FR1444298A (de)
GB (1) GB1055198A (de)

Families Citing this family (120)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3515552A (en) * 1966-09-16 1970-06-02 Minnesota Mining & Mfg Light-sensitive imaging sheet and method of using
BE757386A (fr) * 1969-10-13 1971-04-13 Du Pont Procede de transfert double pour images photodurcissables
CA977202A (en) * 1970-08-03 1975-11-04 Uniroyal Photosensitive compositions
US3965150A (en) * 1970-12-18 1976-06-22 General Electric Company Polyether esters of alkenoic acids
US3787212A (en) * 1972-08-04 1974-01-22 Monsanto Co Polymeric photosensitive compositions and methods using same
US4025348A (en) * 1974-05-10 1977-05-24 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin compositions
GB1521766A (en) * 1974-11-13 1978-08-16 Minnesota Mining & Mfg Image transfer element
US4310615A (en) * 1974-11-13 1982-01-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Image transfer element having release layer
DE2660103B1 (de) * 1975-11-17 1981-02-12 Du Pont Farbkorrektursystem fuer die Mehrfarbenbildreproduktion
US4077858A (en) * 1976-10-04 1978-03-07 Celanese Corporation Completely polymerized ultraviolet cured coatings
DE2651507C3 (de) * 1976-11-11 1981-09-10 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verwendung von Triacrylaten von oxäthyliertem Trimethylolpropan mit einem Oxäthylierungsgrad von 2,5 bis 4 als Verdünnungsmittel in strahlenhärtbaren Zusammensetzungen
US4187382A (en) * 1976-12-28 1980-02-05 Union Carbide Corporation Process for producing low color residue acrylate ester monomers
US4187383A (en) * 1976-12-28 1980-02-05 Union Carbide Corporation Process for producing low color residue acrylate esters
US4226927A (en) * 1978-05-10 1980-10-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photographic speed transfer element with oxidized polyethylene stripping layer
US4254210A (en) * 1978-05-11 1981-03-03 E. I. Du Pont De Nemours And Company Combined silver halide tonable photopolymer element to increase density
US4201821A (en) * 1978-12-22 1980-05-06 Howard A. Fromson Decorated anodized aluminum article
US4308119A (en) * 1979-02-21 1981-12-29 Panelgraphic Corporation Abrasion-resistant optical coating composition containing pentaerythritol based polyacrylates and cellulose esters
US4262079A (en) * 1979-04-26 1981-04-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Image transfer element
DE2934486C2 (de) * 1979-08-25 1986-09-25 Fa. Carl Freudenberg, 6940 Weinheim Verfahren zur Herstellung eines Werkstückes aus einem polymeren Werkstoff
US4407855A (en) * 1980-01-07 1983-10-04 Panelographic Corporation Method for forming an abrasion resistant coating from cellulose ester and pentaerythritol acrylates
US4399192A (en) * 1980-01-07 1983-08-16 Panelographic Corporation Radiation cured abrasion resistant coatings of pentaerythritol acrylates and cellulose esters on polymeric substrates
US4373008A (en) * 1980-01-30 1983-02-08 Rohm And Haas Company Ambient hydrocurable coating compositions
US4343888A (en) * 1980-05-01 1982-08-10 E. I. Du Pont De Nemours And Company Use of radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers in printing plates
US4284710A (en) * 1980-05-01 1981-08-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Radiation crosslinkable polyesters and polyesterethers
US4369247A (en) * 1980-09-03 1983-01-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process of producing relief structures using polyamide ester resins
US4329419A (en) * 1980-09-03 1982-05-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymeric heat resistant photopolymerizable composition for semiconductors and capacitors
US4410612A (en) * 1980-09-03 1983-10-18 E. I. Du Pont De Nemours And Company Electrical device formed from polymeric heat resistant photopolymerizable composition
US4414312A (en) * 1980-09-03 1983-11-08 E. I. Du Pont De Nemours & Co. Photopolymerizable polyamide ester resin compositions containing an oxygen scavenger
US4373007A (en) * 1980-11-03 1983-02-08 Panelgraphic Corporation [Non-photoinitialio] non-photocatalyzed dipentaerythritol polyacrylate based coating compositions exhibiting high abrasion resistance
US4382135A (en) * 1981-04-01 1983-05-03 Diamond Shamrock Corporation Radiation-hardenable diluents
US4341860A (en) 1981-06-08 1982-07-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging compositions containing substituted cyclohexadienone compounds
US4417023A (en) * 1982-01-21 1983-11-22 Diamond Shamrock Corporation Polysiloxane stabilizers for flatting agents in radiation hardenable compositions
US4599274A (en) * 1983-03-11 1986-07-08 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Photo-curable adhesive composition for glass lamination and laminated glass and process for its production
US4592816A (en) 1984-09-26 1986-06-03 Rohm And Haas Company Electrophoretic deposition process
US4691045A (en) * 1984-12-06 1987-09-01 Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd. Hydroxyl group-containing (meth)acrylate oligomer, prepolymer therefrom, and method for use thereof
US4876384A (en) * 1985-04-22 1989-10-24 Diamond Shamrock Chemicals Co. Radiation-hardenable diluents
US4745138A (en) * 1985-08-05 1988-05-17 Pony Industries, Inc. Radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers
US4722947A (en) * 1985-08-05 1988-02-02 Pony Industries, Inc. Production of radiation curable partial esters of anhydride-containing copolymers
CA1292476C (en) * 1985-11-13 1991-11-26 Robert A. Lieberman Radiation-hardenable diluents
US5110889A (en) * 1985-11-13 1992-05-05 Diamond Shamrock Chemical Co. Radiation hardenable compositions containing low viscosity diluents
US4670512A (en) * 1986-03-14 1987-06-02 The Dow Chemical Company Acrylic coating compositions and method therefor
JPH0686493B2 (ja) * 1986-07-04 1994-11-02 サンノプコ株式会社 放射線交叉結合可能な組成物
DE3703080A1 (de) * 1986-07-25 1988-01-28 Bayer Ag (meth)-acrylsaeureester
CA1317313C (en) * 1987-04-10 1993-05-04 Hisaki Tanabe Polymerizable vinyl monomers and vinyl resins prepared therefrom
US4885229A (en) * 1987-12-22 1989-12-05 501 Daicel Chemical Industries Ltd. Photopolymerizable compositions
JP2532302B2 (ja) * 1990-11-07 1996-09-11 富士写真フイルム株式会社 湿し水不要感光性平版印刷版
EP0487086B2 (de) * 1990-11-22 2008-08-13 Canon Kabushiki Kaisha Verfahren zum Herstellen von einem Volumen-Phasenhologram mit einem photoempfindlichen Aufzeichnungsmedium
DE69329534T2 (de) * 1992-07-31 2001-03-01 Du Pont Partikel montageverfahren und produkt
US5496589A (en) * 1993-03-23 1996-03-05 Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. Curing composition and method for impregnating wood
JP3084677B2 (ja) * 1993-05-11 2000-09-04 キヤノン株式会社 スチリルクマリン化合物、光増感剤、感光性樹脂組成物、ホログラム記録媒体
DE4315831A1 (de) * 1993-05-12 1994-11-17 Basf Ag Strahlungshärtbare, wäßrige Dispersion
JP3085497B2 (ja) * 1993-05-25 2000-09-11 キヤノン株式会社 ピラン誘導体、光増感剤、感光性樹脂組成物及びこの組成物を用いたホログラム記録媒体
US5436227A (en) * 1993-05-27 1995-07-25 Shell Oil Company Soluble/insoluble alcohol in drilling fluid
US5363918A (en) * 1993-08-04 1994-11-15 Shell Oil Company Wellbore sealing with unsaturated monomer system
JPH0867866A (ja) 1994-06-20 1996-03-12 Canon Inc 光重合剤及び/又は光架橋剤に対する可視光増感剤、感光性組成物及びホログラム記録媒体
US5557308A (en) 1994-07-08 1996-09-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ink jet print head photoresist layer having durable adhesion characteristics
DE4432648A1 (de) 1994-09-14 1996-03-21 Bayer Ag Tertiäre Amine, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als Härtungsbeschleuniger
US5580410A (en) * 1994-12-14 1996-12-03 Delta Technology, Inc. Pre-conditioning a substrate for accelerated dispersed dye sublimation printing
DE19535936A1 (de) * 1995-09-27 1997-04-03 Basf Lacke & Farben Acryliertes Polyetherpolyol und dessen Verwendung für strahlenhärtbare Formulierungen
CA2306478A1 (en) 1997-10-16 1999-04-22 Sun Chemical Corporation Photoneutralization of ph sensitive aqueous polymeric dispersions and methods for using same
AU1383699A (en) 1997-11-06 1999-05-31 Edgington Company, The Coating composition
US6103355A (en) * 1998-06-25 2000-08-15 The Standard Register Company Cellulose substrates with transparentized area and method of making same
US6143120A (en) * 1998-06-25 2000-11-07 The Standard Register Company Cellulose substrates with transparentized area and method of making
EP0989172A1 (de) * 1998-09-24 2000-03-29 Hitachi Chemical Co., Ltd. Kleber für metallische Folien, mit diesem Kleber überzogene metallische Folie, mit der metallischen Folie überzogene Schichtplatte und daraus hergestellte Erzeugnisse
US6358596B1 (en) 1999-04-27 2002-03-19 The Standard Register Company Multi-functional transparent secure marks
JP4558178B2 (ja) * 2000-11-30 2010-10-06 新日鐵化学株式会社 光又は熱硬化性樹脂組成物及びプリント配線基板
US6376148B1 (en) 2001-01-17 2002-04-23 Nanotek Instruments, Inc. Layer manufacturing using electrostatic imaging and lamination
US6607813B2 (en) 2001-08-23 2003-08-19 The Standard Register Company Simulated security thread by cellulose transparentization
US6911263B2 (en) * 2002-01-30 2005-06-28 Awi Licensing Company PET wear layer/sol gel top coat layer composites
DE10225943A1 (de) * 2002-06-11 2004-01-08 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Estern von Polyalkoholen
WO2003104302A1 (de) * 2002-06-01 2003-12-18 Basf Aktiengesellschaft (meth)acrylester von polyalkoxyliertem trimethylolpropan
CA2488226A1 (en) * 2002-06-11 2003-12-18 Basf Aktiengesellschaft (meth)acrylic esters of polyalkoxylated trimethylolpropane
ATE325150T1 (de) * 2002-06-11 2006-06-15 Basf Ag (meth)acrylester von polyalkoxyliertem glycerin
EP1426426A1 (de) * 2002-12-02 2004-06-09 Rohm And Haas Company Durch Strahlung härtbare Zusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Kaltsiegelklebstoffen
CA2526970C (en) * 2003-06-12 2013-07-09 Valspar Sourcing, Inc. Coating compositions containing reactive diluents and methods
US7728068B2 (en) * 2003-06-12 2010-06-01 Valspar Sourcing, Inc. Coating compositions containing reactive diluents and methods
FR2857662B1 (fr) * 2003-07-15 2008-06-13 Seppic Sa Procede de preparation de polyethoxyles a partir de polyols solides a temperature ordinaire et composition mise en oeuvre
US7105588B2 (en) * 2003-10-10 2006-09-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Screen printable hydrogel for medical applications
JP2005221743A (ja) * 2004-02-05 2005-08-18 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法
US7683107B2 (en) * 2004-02-09 2010-03-23 E.I. Du Pont De Nemours And Company Ink jet printable thick film compositions and processes
US20050176246A1 (en) * 2004-02-09 2005-08-11 Haixin Yang Ink jet printable thick film ink compositions and processes
US20050173680A1 (en) * 2004-02-10 2005-08-11 Haixin Yang Ink jet printable thick film ink compositions and processes
US7135267B2 (en) * 2004-08-06 2006-11-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods
US7371335B2 (en) * 2004-10-21 2008-05-13 E.I. Dupont De Nemours And Company Curable thick film compositions for use in moisture control
CN101061195B (zh) * 2004-11-22 2011-05-25 威士伯采购公司 涂料组合物和方法
US8609762B2 (en) * 2004-12-17 2013-12-17 Valspar Sourcing, Inc. Aqueous coating compositions containing acetoacetyl-functional polymers, coatings, and methods
WO2006065914A1 (en) * 2004-12-17 2006-06-22 Valspar Sourcing, Inc. Aqueous coating compositions containing acetoacetyl-functional polymers, coatings, and methods
US20060154180A1 (en) 2005-01-07 2006-07-13 Kannurpatti Anandkumar R Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element
US20060194121A1 (en) 2005-02-15 2006-08-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hologram recording material, hologram recording method
US7569165B2 (en) 2005-03-09 2009-08-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Black conductive compositions, black electrodes, and methods of forming thereof
JP2007012371A (ja) * 2005-06-29 2007-01-18 E I Du Pont De Nemours & Co 導電組成物およびプラズマディスプレイの背面基板の製造方法
US7291292B2 (en) * 2005-08-26 2007-11-06 E.I. Du Pont De Nemours And Company Preparation of silver particles using thermomorphic polymers
US20070059459A1 (en) 2005-09-12 2007-03-15 Haixin Yang Ink jet printable hydrogel for sensor electrode applications
EP1948574B1 (de) 2005-11-15 2010-01-06 Valspar Sourcing, Inc. Bruchfeste latexdeckbeschichtungszusammensetzung für faserzementsubstrate
US7666328B2 (en) * 2005-11-22 2010-02-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Thick film conductor composition(s) and processing technology thereof for use in multilayer electronic circuits and devices
US9783622B2 (en) * 2006-01-31 2017-10-10 Axalta Coating Systems Ip Co., Llc Coating system for cement composite articles
EP1979426A1 (de) * 2006-01-31 2008-10-15 Valspar Sourcing, Inc. Beschichtungssystem für zementverbundartikel
CN101374787B (zh) * 2006-01-31 2013-12-11 威士伯采购公司 涂布水泥纤维板制品的方法
CA2636435C (en) * 2006-01-31 2013-10-22 Valspar Sourcing, Inc. Coating system for cement composite articles
US7645564B2 (en) * 2006-03-03 2010-01-12 Haixin Yang Polymer solutions, aqueous developable thick film compositions, processes of making and electrodes formed thereof
US8133588B2 (en) * 2006-05-19 2012-03-13 Valspar Sourcing, Inc. Coating system for cement composite articles
US7812090B2 (en) * 2006-06-02 2010-10-12 Valspar Sourcing, Inc. High performance aqueous coating compositions
CA2655125C (en) 2006-06-02 2014-10-14 Valspar Sourcing, Inc. High performance aqueous coating compositions
ES2716987T3 (es) 2006-07-07 2019-06-18 Swimc Llc Sistemas de recubrimiento para artículos composite de cemento
US7527915B2 (en) * 2006-07-19 2009-05-05 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flame retardant multi-layer photoimagable coverlay compositions and methods relating thereto
MX2008002220A (es) * 2007-02-16 2009-02-25 Valspar Sourcing Inc Tratamiento para articulos compuestos de cemento.
BRPI0721910A2 (pt) * 2007-08-01 2014-02-25 Valspar Sourcing Inc Artigo revestido, e, método para preparar um artigo revestido.
US8470518B2 (en) 2007-09-14 2013-06-25 E I Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
US8435701B2 (en) * 2007-11-27 2013-05-07 Southbourne Investments Ltd. Holographic recording medium
CN102113080A (zh) * 2008-05-19 2011-06-29 E.I.内穆尔杜邦公司 用于场发射装置的可共加工的光成像银和碳纳米管组合物及方法
WO2010019825A2 (en) * 2008-08-15 2010-02-18 Valspar Sourcing, Inc. Self-etching cementitious substrate coating composition
US8465904B2 (en) 2008-10-31 2013-06-18 E I Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a printing form from a photopolymerizable element
US9133064B2 (en) 2008-11-24 2015-09-15 Valspar Sourcing, Inc. Coating system for cement composite articles
US9132364B2 (en) * 2010-02-26 2015-09-15 Dionex Corporation High capacity ion chromatography stationary phases and method of forming
CN103492077B (zh) 2011-03-11 2015-11-25 迪奥内克斯公司 使用叔胺连接基经由缩聚反应制备的、静电键合的、超支化的、用于二价阴离子选择性改进的阴离子交换表面涂层
US20130105440A1 (en) 2011-11-01 2013-05-02 Az Electronic Materials Usa Corp. Nanocomposite negative photosensitive composition and use thereof
EA031645B1 (ru) * 2012-10-12 2019-02-28 Эли Лилли Энд Компани Химический двигатель
EP3035122B1 (de) 2014-12-16 2019-03-20 ATOTECH Deutschland GmbH Verfahren zur Feinleiterherstellung
CN110312540B (zh) 2017-02-17 2022-04-05 伊莱利利公司 通过化学反应输送流体的方法和装置
FR3067929B1 (fr) * 2017-06-23 2019-11-22 Produits Dentaires Pierre Rolland Adhesif dentaire

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2755303A (en) * 1952-04-12 1956-07-17 Bayer Ag Polymerizable esters
US2996538A (en) * 1957-11-25 1961-08-15 Dow Chemical Co Preparation of monomeric polyglycol acrylate and methacrylate esters
NL255801A (de) * 1959-09-11
US3041371A (en) * 1959-11-03 1962-06-26 Union Carbide Corp Production of acrylic and methacrylic esters of polyoxyalkylene compounds
US3261686A (en) * 1963-04-23 1966-07-19 Du Pont Photopolymerizable compositions and elements

Also Published As

Publication number Publication date
GB1055198A (en) 1967-01-18
DE1284293B (de) 1968-11-28
BE664445A (de) 1965-11-25
US3380831A (en) 1968-04-30
US3594410A (en) 1971-07-20
FR1444298A (fr) 1966-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1284293C2 (de) Verwendung eines fotopolymerisierbaren gemisches als lichtempfindliche schicht fotopolymerisierbarer aufzeichnungsmaterialien
DE2064079C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE1906668C3 (de) Fotografisches Aufzeichnungsmaterial für Bildreproduktionen und Verfahren zu seiner Herstellung sowie ein Reproduktionsverfahren
EP0098982B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE1522362C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch sowie Verfahren zur Herstellung eines photopolymerisierbaien Aufzeichnungsttiaterials
DE2758209C3 (de) Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
EP0065285A2 (de) Durch Strahlung polymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Kopiermaterial
DE2064080A1 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
EP0097864B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE1225048B (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zum Herstellen von Bildern
DE1267547B (de) Photopolymerisierbare Schicht
DE1447029A1 (de) Elastisches,fotopolymerisierbares Material zur Herstellung von Druckplatten
DE2615055C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE3144687C2 (de)
DE2149056B2 (de) Verfahren zur Reproduktion von Bildern
DE4102173A1 (de) Lagerstabile loesung eines carboxylgruppenhaltigen copolymerisats sowie verfahren zur herstellung von photoempfindlichen lacken und offsetdruckplatten
EP0103218B1 (de) 10-Phenyl-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch
EP0008787B1 (de) Positive Elektronenstrahl-Resistlackbindemittel
EP0351628A2 (de) Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten
DE1772662B1 (de) Verfahren zur photographischen Herstellung einer Reliefplatte,die ein photopolymerisates raeumliches Bild traegt
DE2525297A1 (de) Photopolymerisierbare massen und ihre verwendung
EP0399329A2 (de) Lichthärtbares elastomeres Gemisch und daraus erhaltenes Aufzeichnungsmaterial für die Herstellung von Reliefdruckplatten
EP0383200B1 (de) Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierten Reliefdruckplatten mit klebfreier Oberfäche
DE2166551A1 (de) Additionspolymerisierbare polymere verbindung und verfahren zu ihrer herstellung
DE2164518C3 (de) Photopolymerisierbare Masse und deren Verwendung zur Herstellung von photopolymerisierbaren Schichtkörpern

Legal Events

Date Code Title Description
C2 Grant after previous publication (2nd publication)