DE3325961A1 - Silicon-based capacitive transducers incorporating silicon dioxide electret - Google Patents

Silicon-based capacitive transducers incorporating silicon dioxide electret

Info

Publication number
DE3325961A1
DE3325961A1 DE19833325961 DE3325961A DE3325961A1 DE 3325961 A1 DE3325961 A1 DE 3325961A1 DE 19833325961 DE19833325961 DE 19833325961 DE 3325961 A DE3325961 A DE 3325961A DE 3325961 A1 DE3325961 A1 DE 3325961A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
membrane
converter according
silicon dioxide
capacitive
capacitive converter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19833325961
Other languages
German (de)
Other versions
DE3325961C2 (en
Inventor
Dietmar Hohm
Gerhard M. Prof. Dr.rer.nat. 6100 Darmstadt Sessler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sessler gerhard M profdrrernat
Original Assignee
Sessler gerhard M profdrrernat
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sessler gerhard M profdrrernat filed Critical Sessler gerhard M profdrrernat
Priority to DE19833325961 priority Critical patent/DE3325961A1/en
Publication of DE3325961A1 publication Critical patent/DE3325961A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE3325961C2 publication Critical patent/DE3325961C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0072Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
    • G01L9/0073Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a semiconductive diaphragm
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04RLOUDSPEAKERS, MICROPHONES, GRAMOPHONE PICK-UPS OR LIKE ACOUSTIC ELECTROMECHANICAL TRANSDUCERS; DEAF-AID SETS; PUBLIC ADDRESS SYSTEMS
    • H04R19/00Electrostatic transducers
    • H04R19/005Electrostatic transducers using semiconductor materials

Abstract

In capacitive electroacoustic or acoustoelectrical transducers, silicon and/or silicon dioxide are/is used as oscillatory plate or membrane. The electrical field between the electrodes of capacitive electromechanical, mechanoelectrical, electroacoustical or acoustoelectrical transducers is produced by means of a statically charged silicon dioxide layer. The silicon dioxide layer may be situated either on the stationary counterelectrode or on the membrane.

Description

Kapazitive Wandler auf Siliziumbasis mit Siliziumdioxid- ElektretCapacitive transducers based on silicon with silicon dioxide electret

KAPAZITIVE WANDLER AUF SILIZIUMBASIS MIT SILIZIUMDIOXID - ELEKTRET Die Erfindung betrifft elektromechanische, mechanoelektrische, elektroakustische und akustoelektrische Wandler, die nach dem kapazitiven Prinzip und gegebenenfalls mit einem permanent geladenen Dielektrikum arbeiten, wie z.B. Aktuatoren, Drucksensoren, Beschleunigungssensoren, Kopfhörer, Mikrofone usw., die im Fernsprech- und Nachrichtenübertragungswesen, im Rundfunk- und Fernsehbetrieb, in HiFi- Anwendungen, auf dem Phonogebiet, in der Meß- und Regelungstechnik usw. Verwendung finden. CAPACITIVE CONVERTER ON THE BASIS OF SILICON WITH SILICON DIOXIDE - ELECTRETE The invention relates to electromechanical, mechanoelectric, electroacoustic and acoustoelectric transducers, based on the capacitive principle and where appropriate work with a permanently charged dielectric, such as actuators, pressure sensors, Accelerometers, headphones, microphones, etc. used in telephony and communications, in radio and television, in hi-fi applications, in the phono field, in the Find measuring and control technology, etc. use.

Es ist Zweck dieser Erfindung, zum einen eine bessere Umwandlung von mechanischen in elektrische Signale und umgekehrt zu bewerkstelligen, zum anderen die Unterbringung der Bauteile zur Umwandlung und elektrischer Signalverarbeitung auf einem einzigen Siliziumchip zu ermöglichen. It is the purpose of this invention, on the one hand, to achieve a better conversion from mechanical to electrical signals and vice versa, on the other the accommodation of the components for conversion and electrical signal processing on a single silicon chip.

Kondensatorwandler bestehen aus zwei oder mehr Elektroden, die einen Kondensator bilden, wobei eine Elektrode schwingfähig und z.B. als Membran ausgebildet ist 1. Um diese Wandler zu betreiben, müssen sie entweder durch eine äußere Gleichspannung oder durch eine entsprechende permanente Aufladung eines zwischen den Elektroden befindlichen Dielektrikums vorgespannt sein. Während früher meist externe Polarisationsspannungen verwendet wurden, sind, von wenigen Ausnahmen abgesehen, in neuerer Zeit die Wandler mit einem permanent geladenen Dielektrikum (Elektret) versehen. Außerdem können die Wandler in einer Hochfrequenzschaltung betrieben werden. Capacitor converters consist of two or more electrodes that make up one Form a capacitor, one electrode being able to oscillate and e.g. designed as a membrane is 1. In order to operate these converters, they must either be supplied by an external DC voltage or by a corresponding permanent charging between the electrodes be biased located dielectric. While in the past mostly external polarization voltages have been used, apart from a few exceptions, more recently the converters provided with a permanently charged dielectric (electret). Also can the converters are operated in a high-frequency circuit.

Einen Nachteil der kapazitiven akusto- und mechanoelektrischen Wandler stellt die äußerst hohe Innenimpedanz dar, die sich aus der relativ geringen Wirkkapazität ergibt. Dies bedingt eine hohe Anfälligkeit für Einflüsse von Tot- und Streukapazitäten und erfordert zusätzliche elektronische Bauteile, die unmittelbar an den Elektroden plaziert sein müssen. A disadvantage of the capacitive acousto and mechanoelectric transducers represents the extremely high internal impedance, which results from the relatively low effective capacitance results. This results in a high susceptibility to the effects of dead and stray capacities and requires additional electronic components that are directly attached to the electrodes must be placed.

Dadurch war bisher die Reduzierung der Bauteilezahl unter ein bestimmtes Minimum kaum möglich.This has so far reduced the number of components below a certain level Minimum hardly possible.

Fortschritte in der Silizium- Bearbeitungstechnologie haben es in jüngster Zeit möglich gemacht, auf Siliziumbasis mechanoelektrische Sensoren herzustellen, bei denen die elektronischen Bauteile direkt in den Sensor integriert sind. Als Beispiel sei hier auf die Literaturstellen 2,3 verwiesen. Diese sogenannten "integrierten Sensoren" arbeiten z.T. nach dem kapazitiven Prinzip und benötigen externe Vorspannungen, Oszillatorkreise oder andere Komponenten. Advances in silicon machining technology have made it into recently made possible to manufacture silicon-based mechanoelectric sensors, where the electronic components are integrated directly into the sensor. as For example, reference is made here to references 2, 3. These so-called "integrated Sensors "partly work according to the capacitive principle and require external bias voltages, Oscillator circuits or other components.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, unter Verwendung von Silizium-Bearbeitungstechnologien elektromechanische, mechanoelektrische, elektroakustische und akustoelektrische Wandler nach dem kapazitiven Prinzip herzustellen, bei denen gegebenenfalls Siliziumdioxid als Elektret verwendet wird. The invention is based on the object using silicon processing technologies electromechanical, mechanoelectric, electroacoustic and acoustoelectric Manufacture converters according to the capacitive principle, in which, if necessary, silicon dioxide is used as an electret.

Die Aufgabe wird dadurch gelöst, daß ein auf eine Siliziumscheibe aufgebrachter Siliziumdioxid-Film (oder eine durch entsprechende Dotierung ätzresistente Siliziumschicht) derart unterätzt wird, daß als Resultat eine schwingfähige Platte oder Membran zurückbleibt. Bei Verwendung einer Silizium-Membran befindet sich das Siliziumdioxid auf der feststehenden Gegen- oder Rückelektrode. Auf das Siliziumdioxid können in beiden Fällen durch eine geeignete Aufladungsmethode (z.B. Elektronenstrahlaufladung) elektrische Ladungen aufgebracht werden. Die Oberseite der Membran wird metallisiert. Der zwischen Gegenelektrode und Platte oder Membran entstandene Luftspalt kann durch ein geätztes oder durch andere Maßnahmen erzeugtes Loch in der Gegenelektrode eine Verbindung zu einem im Vergleich zum Luftspalt größeren Rückvolumen erhalten um die Steifigkeit des Luftvolumens im Luftspalt zu reduzieren. The object is achieved in that a silicon wafer applied silicon dioxide film (or one that is etch-resistant through appropriate doping Silicon layer) is undercut in such a way that the result is an oscillatable plate or membrane remains. If a silicon membrane is used, that is Silicon dioxide on the fixed counter or back electrode. On the silicon dioxide can in both cases by a suitable charging method (e.g. electron beam charging) electrical charges are applied. The top of the membrane is metallized. The air gap created between the counter electrode and the plate or membrane can pass through an etched hole or a hole created by other means in the counter electrode Connection to a back volume that is larger than that of the air gap is obtained to reduce the stiffness of the air volume in the air gap.

Das auf diese Weise entstandene Gebilde ist in der Lage, als Kondensatorwandler, bzw. bei Ausnutzung der ladungsspeichernden Eigenschaft von Siliziumdioxid als Elektret-Kondensatorwandler zu arbeiten. The structure created in this way is able to act as a capacitor converter, or when the charge-storing property of silicon dioxide is used as an electret capacitor converter to work.

Ein Beispiel des dargestellten Aufbaus ist in Abb. 1 wiedergegeben. Es wird von einer p-leitenden Siliziumscheibe ausgegangen, deren eine Seite hoch dotiert wird (z.B. Ionenimplantation). Auf diese dotierte Schicht wird eine weitere Siliziumschicht aufgebracht (z.B. Epitaxieprozeß). Als nächster Schritt erfolgt eine Oxidation dieser Schicht. Durch bekannte kristallorientierungsabhängige Ätzverfahren wird die Siliziumdioxid schicht unterätzt. Durch das gleiche Ätzverfahren kann ein Verbindungsloch zu dem entstehenden Luftspalt durch die Siliziumscheibe bewerkstelligt werden. An example of the structure shown is shown in Fig. 1. A p-conducting silicon wafer is assumed, one side of which is high is doped (e.g. ion implantation). On this doped layer is one another silicon layer is applied (e.g. epitaxial process). As a next step an oxidation of this layer occurs. By known crystal orientation-dependent Etching process, the silicon dioxide layer is underetched. Through the same etching process can create a connection hole to the resulting air gap through the silicon wafer be accomplished.

Nachdem alle für die Ätzschritte erforderlichen Öffnungen (Ätzfenster) in der Oxidplatte verschlossen wurden, wird diese metallisiert. Der Wandler wird in einem Gehäuse untergebracht, das auch ein zusätzliches Rückvolumen bilden kann. Durch ein geeignetes Aufladungsverfahren werden auf die Oxidschicht elektrische Ladungen aufgebracht, so daß der Wandler ohne externe Polarisationsspannung arbeitet.After all openings (etching windows) required for the etching steps were sealed in the oxide plate, this is metallized. The converter will housed in a housing that can also form an additional back volume. By means of a suitable charging process, electrical Charges applied so that the converter works without external polarization voltage.

Ein ähnlicher Aufbau wie der in Abb.1 dargestellte, bei dem jedoch die Membran durch eine dotierte Siliziumschicht gebildet wird und sich die aufgeladene Siliziumdioxid- Schicht auf der Gegenelektrode befindet, kann folgendermaßen bewerkstelligt werden: Die Siliziumscheibe wird im Bereich der zu formenden Membran (z.B. durch Atzen) auf die gewünschte Wandlerdicke reduziert. Die durch die Atzung entstandene Wandleroberseite wird dotiert, die RÜckseite der Scheibe oxidiert. Durch geeignete Öffnungen im Oxid kann mittels eines Atzverfahrens zwischen der dotierten Schicht und dem Oxid ein Luftspalt geschaffen werden, wobei die dotierte Schicht als Membran erhalten bleibt. Schließlich kann die Siliziumdioxid- Schicht durch eines der üblichen Verfahren aufgeladen werden. A structure similar to the one shown in Fig. 1, but with the the membrane is formed by a doped silicon layer and the charged Silicon dioxide layer is located on the counter electrode, can be accomplished as follows be: The silicon wafer is in the area of the membrane to be formed (e.g. through Etching) reduced to the desired transducer thickness. The one created by the etching The top of the transducer is doped, the back of the disk is oxidized. Through suitable Openings in the oxide can be made between the doped layer by means of an etching process and an air gap is created in the oxide, the doped layer acting as a membrane preserved. Finally, the silicon dioxide layer can be replaced by one of the usual Procedure to be charged.

Grundsätzlich besteht auch bei den hier beschriebenen Wandlern die Möglichkeit, auf die statische Aufladung des Oxids zu verzichten und die Wandler mit externer Vorspannung, Oszillatorkreis usw. zu betreiben. In principle, there is also the Ability to do without the static charge of the oxide and the transducers to operate with external bias, oscillator circuit, etc.

Die mechanischen und elektrischen Eigenschaften der Wandler wie Resonanzfrequenz und Empfindlichkeit werden festgelegt durch die geometrischen Abmessungen, d.h. durch die Membran- oder Plattenfläche, durch die Dicke der Membran, die Höhe des Luftspaltes, durch die Abmessungen des Loches und die Gröe des Rückvolumens sowie durch die Größe der auf das Oxid aufgebrachten Ladung. Durch entsprechende Gestaltung kann die Resonanzfrequenz bis in den hohen Ultraschallbereich gelegt werden. The mechanical and electrical properties of the transducers such as resonance frequency and sensitivity are determined by the geometrical dimensions, i.e. through the membrane or plate surface, through the thickness of the membrane, the height of the Air gap, by the dimensions of the hole and the size of the back volume as well by the amount of charge placed on the oxide. Through appropriate design the resonance frequency can be set up to the high ultrasound range.

Ein Vorteil der Wandler ist die Reduzierung der benötigten zusätzlichen Teile auf geeignete Gehäuse. Diese Tatsache, zusammen mit der Möglichkeit, auf einer Siliziumscheibe eine große Anzahl Wandler gleichzeitig herzustellen, führt zu einer kostengünstigen Produktion. One advantage of the converters is the reduction in the number of additional ones required Parts on suitable housing. This fact, along with the possibility of one on one Silicon wafer producing a large number of transducers at the same time results in one inexpensive production.

Bei den Wandlern mit aufgeladener Oxidschicht ergibt sich ein weiterer Vorteil durch den Wegfall der bei anderen kapazitiven Wandlern notwendigen Signalerzeugungskomponenten (z.B. Vorspannung oder Oszillatorkreis). In the case of converters with a charged oxide layer, there is another one Advantage due to the elimination of the signal generation components required for other capacitive converters (e.g. bias or oscillator circuit).

Desweiteren besteht die Möglichkeit, auf die Siliziumscheibe elektronische Schaltungen wie Impedanzwandler, Verstärker etc. zu integrieren, wodurch das Ausgangssignal des Wandlers den jeweiligen Erfordernissen angepaßt werden kann. Durch den kompakten Aufbau, der die signalverarbeitende Elektronik bereits enthält, werden die Einflüsse von Totkapazitäten und die Einstreuung elektrischer Störungen auf ein Minimum gebracht. Furthermore there is the possibility of electronic on the silicon wafer Integrate circuits such as impedance converters, amplifiers etc., thereby creating the output signal of the converter can be adapted to the respective requirements. Thanks to the compact Structure that already contains the signal processing electronics are the influences of dead capacities and the interference of electrical disturbances brought to a minimum.

Einen großen Vorteil im Vergleich zu konventionellen Wandlern stellt die Miniaturisierbarkeit des Wandlers dar, welche Anwendungsmöglichkeiten eröffnet, die den bisherigen Wandlern verschlossen blieben.A major advantage compared to conventional converters the miniaturization of the converter, which opens up possible applications, which remained closed to the previous converters.

Literatur [1] Meyer,E./Neumann, E.G.: Physikalische und technische Akustik. 3.Aufl.Literature [1] Meyer, E. / Neumann, E.G .: Physical and technical Acoustics. 3rd ed.

Braunschweig: Vieweg 1979, S.240 [2] Petersen, K.E./Shartel, A./Raley, N.F.: Micromechanical Accelerometer with MOS Detection Circuitry. IEEE Trans. on Electron Devices ED-29 (1982), S. 23-27 [3] Petersen, K.E.: Silicon as a Mechanical Material. Proceedings of the IEEE 70 (1982), S.420-457 - Leerseite -Braunschweig: Vieweg 1979, p.240 [2] Petersen, K.E./Shartel, A./Raley, N.F .: Micromechanical Accelerometer with MOS Detection Circuitry. IEEE Trans. On Electron Devices ED-29 (1982), pp. 23-27 [3] Petersen, K.E .: Silicon as a Mechanical Material. Proceedings of the IEEE 70 (1982), pp 420-457 - Blank page -

Claims (19)

Patentansprüche Kapazitive Wandler in der Form von Sensoren oder Aktuatoren, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran eine aufgeladene Siliziumdioxid- Schicht enthält. Capacitive transducers in the form of sensors or Actuators, characterized in that the membrane is a charged silicon dioxide Layer contains. 2. Kapazitive Wandler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran aus einer metallisierten und aufgeladenen Siliziumdioxid- Schicht besteht, die durch einen Luftspalt von einer Rückelektrode getrennt ist.2. Capacitive converter according to claim 1, characterized in that the membrane consists of a metallized and charged silicon dioxide layer, which is separated from a rear electrode by an air gap. 3. Kapazitive Wandler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückelektrode eines oder mehrere Löcher zur Reduktion der Steifigkeit des Luftvolumens im Luftspalt enthält.3. Capacitive converter according to claim 2, characterized in that the back electrode one or more holes to reduce the stiffness of the volume of air contains in the air gap. 4. Kapazitive Wandler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem selben Substrat, auf dem die Membran aufgebaut ist, elektronische Bauteile implementiert sind.4. Capacitive converter according to claim 1, characterized in that electronic components on the same substrate on which the membrane is built are implemented. 5. Kapazitive Wandler nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran durch ein mikromechanisches Verfahren hergestellt wird.5. Capacitive converter according to claim 2, characterized in that the membrane is produced by a micromechanical process. 6. Kapazitive Wandler in der Form von Sensoren oder Aktuatoren, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen Membran und Rückelektrode eine aufgeladene Siliziumdioxid- Schicht befindet.6. Capacitive transducers in the form of sensors or actuators, thereby characterized in that between the membrane and the back electrode there is a charged silicon dioxide Layer is located. 7. Kapazitive Wandler nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran durch eine Siliziumschicht gebildet wird.7. Capacitive converter according to claim 6, characterized in that the membrane is formed by a silicon layer. 8. Kapazitive Wandler nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückelektrode eines oder mehrere Löcher zur Reduktion der Steifigkeit des Luftvolumens im Luftspalt enthält.8. Capacitive converter according to claim 6, characterized in that the back electrode one or more holes to reduce the stiffness of the volume of air contains in the air gap. 9. Kapazitive Wandler nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine aufgeladene Siliziumdioxid- Schicht fest mit der Rückelektrode verbunden ist.9. Capacitive converter according to claim 6, characterized in that a charged silicon dioxide layer is firmly connected to the back electrode. 10. Kapazitive Wandler nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem selben Substrat, auf dem die Membran aufgebaut ist, elektronische Bauteile implementiert sind.10. Capacitive converter according to claim 6, characterized in that electronic components on the same substrate on which the membrane is built are implemented. 11. Kapazitive Wandler nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran durch ein mikromechanisches Verfahren hergestellt wird.11. Capacitive converter according to claim 6, characterized in that the membrane is produced by a micromechanical process. 12. Kapazitive Wandler in der Form eines elektroakustischen oder akustoelektrischen Wandlers, dadurch gekennzeichnet, daß als schwingfähige Platte oder Membran Silizium oder Siliziumdioxid verwendet wird.12. Capacitive transducers in the form of an electroacoustic or acoustoelectric Converter, characterized in that silicon is used as an oscillatable plate or membrane or silicon dioxide is used. 13. Kapazitive Wandler nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß sich zwischen Membran und Rückelektrode mit elektrischer Ladung versehenes Siliziumdioxid befindet.13. Capacitive converter according to claim 12, characterized in that silicon dioxide provided with an electrical charge between the membrane and the back electrode is located. 14. Kapazitive Wandler nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß mit elektrischer Ladung versehenes Siliziumdioxid mit der Wandlerrückelektrode mechanisch fest verbunden ist.14. Capacitive converter according to claim 12, characterized in that Electrically charged silicon dioxide with the transducer back electrode mechanically is firmly connected. 15. Kapazitive Wandler nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran eine aufgeladene Siliziumdioxidschicht enthält.15. Capacitive converter according to claim 12, characterized in that the membrane contains a charged layer of silicon dioxide. 16. Kapazitive Wandler nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß mit elektrischer Ladung versehenes Siliziumdioxid als schwingende Platte oder Membran verwendet wird.16. Capacitive converter according to claim 12, characterized in that Electrically charged silicon dioxide as a vibrating plate or membrane is used. 17. Kapazitive Wandler nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Rückelektrode eines oder mehrere Löcher zur Reduktion der Steifigkeit des Luftvolumens im Luftspalt enthält. 4 17. Capacitive converter according to claim 12, characterized in that the back electrode one or more holes to reduce the stiffness of the volume of air contains in the air gap. 4th 18. Kapazitive Wandler nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem selben Substrat, auf dem die Membran aufgebaut ist, elektronische Bauteile implementiert sind.18. Capacitive converter according to claim 12, characterized in that on the same substrate on which the membrane is built is, electronic components are implemented. 19. Kapazitive Wandler nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Membran durch ein mikromechanisches Verfahren hergestellt wird.19. Capacitive converter according to claim 12, characterized in that the membrane is produced by a micromechanical process.
DE19833325961 1983-07-19 1983-07-19 Silicon-based capacitive transducers incorporating silicon dioxide electret Granted DE3325961A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833325961 DE3325961A1 (en) 1983-07-19 1983-07-19 Silicon-based capacitive transducers incorporating silicon dioxide electret

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833325961 DE3325961A1 (en) 1983-07-19 1983-07-19 Silicon-based capacitive transducers incorporating silicon dioxide electret

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3325961A1 true DE3325961A1 (en) 1985-01-31
DE3325961C2 DE3325961C2 (en) 1993-02-25

Family

ID=6204330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19833325961 Granted DE3325961A1 (en) 1983-07-19 1983-07-19 Silicon-based capacitive transducers incorporating silicon dioxide electret

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3325961A1 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2578323A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-05 Metravib Sa INTEGRATED SENSOR OF MECHANICAL QUANTITIES WITH CAPACITIVE EFFECT AND MANUFACTURING METHOD.
EP0331992A2 (en) * 1988-03-05 1989-09-13 Sennheiser Electronic Kg Capacitive sound transducer
WO1999027754A1 (en) * 1997-11-20 1999-06-03 Conexant Systems, Inc. A system for a monolithic directional microphone array and a method of detecting audio signals
US6088463A (en) * 1998-10-30 2000-07-11 Microtronic A/S Solid state silicon-based condenser microphone
US7142682B2 (en) 2002-12-20 2006-11-28 Sonion Mems A/S Silicon-based transducer for use in hearing instruments and listening devices
US8103025B2 (en) 1999-09-07 2012-01-24 Epcos Pte Ltd. Surface mountable transducer system

Non-Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
MEYER, E. *
MEYER, E.; NEUMANN, E.G.: Physikalische und technische Akustik, 3. Aufl., Braunschweig: Vieweg 1979, S. 240-245
NEUMANN, E.G.: Physikalische und tech- nische Akustik, 3. Aufl., Braunschweig: Vieweg 1979, S. 240-245 *
PETERSEN, Kurt E.: SHARTEL, Anne *
PETERSEN, Kurt E.: Silicon as a Mechanical Mate- rial. In: Proceedings of the IEEE, Vol. 70 (Mai 1982), No. 5, S. 420-457 *
RALEY, Norman F.: Micromechanical Accelerometer Inte- grated with MOS Detection Circuitry. In: IEEE Transactions on Electron Devices, VOL ED-29 (Januar 1982), No. 1, S. 23-27 *

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2578323A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-05 Metravib Sa INTEGRATED SENSOR OF MECHANICAL QUANTITIES WITH CAPACITIVE EFFECT AND MANUFACTURING METHOD.
EP0194953A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-17 Metravib S.A. Integrated capacitive sensor for mechanical quantities, and manufacturing method
EP0331992A2 (en) * 1988-03-05 1989-09-13 Sennheiser Electronic Kg Capacitive sound transducer
EP0331992A3 (en) * 1988-03-05 1991-07-03 Sennheiser Electronic Kg Capacitive sound transducer
WO1999027754A1 (en) * 1997-11-20 1999-06-03 Conexant Systems, Inc. A system for a monolithic directional microphone array and a method of detecting audio signals
US6088463A (en) * 1998-10-30 2000-07-11 Microtronic A/S Solid state silicon-based condenser microphone
USRE42346E1 (en) 1998-10-30 2011-05-10 Epcos Pte Ltd. Solid state silicon-based condenser microphone
USRE42347E1 (en) 1998-10-30 2011-05-10 Epcos Pte Ltd. Solid state silicon-based condenser microphone
US8103025B2 (en) 1999-09-07 2012-01-24 Epcos Pte Ltd. Surface mountable transducer system
US7142682B2 (en) 2002-12-20 2006-11-28 Sonion Mems A/S Silicon-based transducer for use in hearing instruments and listening devices
US7792315B2 (en) 2002-12-20 2010-09-07 Epcos Ag Silicon-based transducer for use in hearing instruments and listening devices

Also Published As

Publication number Publication date
DE3325961C2 (en) 1993-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102014116129B4 (en) MEMS with two transducer elements
DE112013003193B4 (en) Semiconductor package with an air pressure sensor
DE102006011545B4 (en) Micromechanical combination component and corresponding manufacturing method
US4524247A (en) Integrated electroacoustic transducer with built-in bias
DE102005053767B4 (en) MEMS microphone, method of manufacture and method of installation
DE102015104879A1 (en) Dynamic pressure sensor
DE102014108962A1 (en) Electronic device with a large back volume for an electromechanical transducer
DE102004011144B4 (en) Pressure sensor and method for operating a pressure sensor
EP2214421B1 (en) Component with a micromechanical microphone structure and method for operating such a component
DE69918344T2 (en) Digital electroacoustic transducer
CH699526B1 (en) A piezoelectric vibrator oscillator and method of manufacturing the piezoelectric vibrator.
DE2253833B2 (en) PIEZOELECTRIC ELECTROACOUSTIC CONVERTER ELEMENT
DE102013202136B4 (en) System and method for a PCM interface for a capacitive signal source
EP1105344B1 (en) Micromechanical sensor and corresponding production method
EP1958480A1 (en) Micromechanical structure for receiving and/or generating acoustic signals, method for producing a micromechanical structure, and use of a micromechanical structure
DE102006022379A1 (en) Micromechanical pressure transducer for capacitive microelectromechanical system microphone, has substrate-sided cavity forming back volume for movable membrane, and resting at application-specific integrated circuit chip
EP0455070A1 (en) Capacitive sensor with frequency output
DE102014109908A1 (en) MEMS devices, interface circuits and methods of making the same
EP1108203B1 (en) Micromechanical component protected against environmental influences
DE3325961A1 (en) Silicon-based capacitive transducers incorporating silicon dioxide electret
US20070018318A1 (en) Means of integrating a microphone in a standard integrated circuit process
EP2091269B2 (en) Water resistant hearing aid
DE2909477A1 (en) ARRANGEMENT FOR CONVERTING ACOUSTIC VIBRATIONS INTO ELECTRICAL VIBRATIONS AND REVERSE, WITH AT LEAST ONE CAPACITOR ELECTRICAL ELEMENT CONNECTED TO AN ELECTRONIC CIRCUIT ARRANGEMENT
DE19900969C2 (en) slot microphone
DE102014211197A1 (en) Micromechanical combination sensor arrangement and a corresponding manufacturing method

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8320 Willingness to grant licences declared (paragraph 23)
8339 Ceased/non-payment of the annual fee