DE60117573T2 - Verschiedenartig gehärtete materialen und verfahren zur deren herstellung - Google Patents
Verschiedenartig gehärtete materialen und verfahren zur deren herstellung Download PDFInfo
- Publication number
- DE60117573T2 DE60117573T2 DE60117573T DE60117573T DE60117573T2 DE 60117573 T2 DE60117573 T2 DE 60117573T2 DE 60117573 T DE60117573 T DE 60117573T DE 60117573 T DE60117573 T DE 60117573T DE 60117573 T2 DE60117573 T2 DE 60117573T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pattern
- radiation
- hardened
- degree
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0888—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds
- B29C35/0894—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using transparant moulds provided with masks or diaphragms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/10—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation for articles of indefinite length
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00605—Production of reflex reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/04—Prisms
- G02B5/045—Prism arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/12—Reflex reflectors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
- B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
- B29C2035/0827—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using UV radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2105/00—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped
- B29K2105/24—Condition, form or state of moulded material or of the material to be shaped crosslinked or vulcanised
- B29K2105/243—Partially cured
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
- B29K2995/0018—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds having particular optical properties, e.g. fluorescent or phosphorescent
- B29K2995/003—Reflective
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
- B29L2011/0083—Reflectors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
Description
- Hintergrund der Erfindung
- Viele rückreflektierende Folienbahnen, kollimierende Filme, etc. werden durch exakteste Abmessungen der Metallformen hergestellt, die schwierig und teuer herzustellen sind. Die Metallformen können eine signifikante Barriere beim Eintritt in einen hochqualitativen Markt für Folienbahnen und Filme darstellen. Jedoch können billige Imitathersteller von rückreflektierenden Folienbahnen und kollimierenden Filmen billige, niedrig-qualitative Formen aus der hochqualitativen Folienbahn und Film bilden. Als eine Maßnahme, um vor solchen Kopien abzuschrecken, werden die Metallformen oftmals mit einem Firmenlogo oder Warenzeichen graviert, was das Logo oder das Warenzeichen auf dem billigen Endprodukt erscheinen lässt. Ein Nachteil des zugefügten Logos ist der, dass es schwieriger sein kann, es bei den erforderlichen Toleranzen zu gravieren.
- Die Internationale Anmeldung mit der Offenlegungsnummer WO97/30604 offenbart ein Verfahren zur Herstellung eines Tabakförderbandes, das eine Schicht von Licht härtbarem Harzmaterial in flüssiger Form auf einem Träger zur Verfügung stellt. Die Materialschicht wird durch eine Maske belichtet, die selektiv transparent für die Belichtung ist, um zumindest ein teilweises Härten des Materials der Schicht, korrespondierend mit den durchlässigen Bereichen der Maske, zu bewirken. Das ungehärtete Material wird entfernt. Eine vollständige Härtung des Restmaterials wird bewirkt.
- Daher existiert eine Notwendigkeit für besser markierte Produkte und ein Verfahren, um Produkte besser zu markieren.
- WO-A-97/30604 offenbart die Merkmale der Oberbegriffe der Ansprüche 1, 4 und 6. Die vorliegende Erfindung ist in ihren verschiedenen Gesichtspunkten charakterisiert durch die Merkmale der charakterisierenden Teile der Ansprüche 1, 4 und 6. Optionale Merkmale werden in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
- Zusammenfassung der Erfindung
- Eine Struktur beinhaltet eine Schicht, die einen ersten gehärteten Bereich und einen zweiten gehärteten Bereich enthält, die aus dem gleichen lichthärtbaren Material gebildet werden. Der erste gehärtete Bereich wird zu einem ersten Grad gehärtet und der zweite gehärtete Bereich wird zu einem zweiten Grad gehärtet. Der erste Grad ist ausreichend unterschiedlich von dem zweiten Grad, was in einer sichtbaren Diskontinuität auf der Oberfläche der Struktur resultiert. Die Schicht kann an eine Basis gebunden sein. Die Schicht und die Basis können aus dem gleichen Material gebildet sein. Der erste Härtungsgrad kann ausreichend unterschiedlich vom zweiten Härtungsgrad sein, was in einem Unterschied in der Dicke des ersten Bereiches und der Dicke des zweiten Bereiches resultiert, die im Bereich von zwischen etwa 0,05 und 2,0 Mikrometer liegt. Für eine sichtbare Diskontinuität wird eine Erhebung oder Vertiefung in der Oberfläche einer Struktur in Betracht gezogen, welche das einfallende Licht dazu veranlasst, einen unterschiedlichen Lichtschatten zu zeigen, als wenn einfallendes Licht einen Oberflächenbereich trifft, der keinen Anstieg oder Abfall hat. Die sichtbare Diskontinuität kann mit dem nackten Auge wahrgenommen werden. Die Schicht kann ein prismatischer Bereich wie z. B. lineare Prismen oder Würfeleckenprismen, eine Linsenstruktur oder eine Sub-Wellenlängenstruktur sein.
- Ein Verfahren zur Bildung eines Musters in einem strahlungshärtbaren Material beinhaltet, dass ein Blockiermuster zwischen einer Strahlungsquelle und dem strahlungshärtbaren Material zur Verfügung gestellt wird, das einen Teil der Strahlung aus der Strahlungsquelle blockieren kann. Das Material wird mit der Strahlung aus der Strahlungsquelle durch das Blockiermuster gehärtet, um ein Muster in dem strahlungshärtbaren Material zu bilden.
- Eine Musterübertragungsstruktur beinhaltet eine Strahlungsquelle zur Emission von Strahlung, ein strahlungshärtbares Material, das durch die Strahlung gehärtet werden kann und ein Muster zur Blockierung eines Teils der Strahlung. Das Muster wird zwischen die Strahlungsquelle und das strahlungshärtbare Material während der Härtung des Materials derart eingebracht, dass ein Muster in dem Material gebildet wird.
- Ein Verfahren zur Bildung einer Prismenstruktur beinhaltet das zur Verfügung stellen einer Prismenform und Platzieren eines strahlungshärtbaren Materials in der Form. Ein Muster wird zwischen einer Strahlungsquelle und dem strahlungshärtbaren Material zur Verfügung gestellt, das einen Teil des strahlungshärtbaren Materials blockiert. Das strahlungshärtbare Material wird durch Strahlung aus der Strahlungsquelle gehärtet, um ein Muster in dem strahlungshärtbaren Material zu bilden.
- Eine Prismenstruktur beinhaltet eine Basis und einen Prismenbereich, der mit der Basis verbunden ist. Der Prismenbereich beinhaltet einen ersten gehärteten Bereich und einen zweiten gehärteten Bereich, die aus dem gleichen strahlungshärtbaren Material gebildet werden. Der erste gehärtete Bereich hat einen ersten Brechungsindexwert und der zweite gehärtete Bereich hat einen zweiten Brechungsindexwert, der ausreichend unterschiedlich ist von dem ersten Brechungsindexwert, was in einer sichtbaren Diskontinuität auf der Oberfläche der Struktur resultiert.
- Die Erfindung hat viele Vorteile, einschließlich Bildung eines permanenten Musters in Materialien, das transparent ist und andere Funktionen nicht signifikant beeinträchtigt. Das Muster kann in dem Material ähnlich wie ein Wasserzeichen in Papier wirken, um eine Vorrichtung für die Identifikation einer Produktquelle zur Verfügung zu stellen, die schwierig zu fälschen ist. Auch kann das Muster als eine Funktion für Lichtmanagement durch Veränderung des Lichtweges dienen, das durch eine derartige Struktur mit dem Muster hindurchfällt.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
-
1 zeigt eine isometrische Ansicht eines strahlungshärtbaren Materials und einer Musterschicht, die darüber positioniert ist, um ein Muster in dem härtbaren Material zu bilden. -
2 zeigt eine isometrische Ansicht des strahlungshärtbaren Materials mit einem darin gebildeten Muster. -
3 zeigt eine isometrische Ansicht einer rückreflektierenden Struktur mit Schmetterlingsaugenstrukturen, die darin in Übereinstimmung mit anderen erfindungsgemäßen Ausführungsformen geformte Muster enthalten. -
4 zeigt eine perspektivische Ansicht eines standard-kollimierenden Films. -
5 zeigt eine perspektivische Ansicht eines unterschiedlich gehärteten kollimierenden Films. -
6 zeigt eine schematische Ansicht eines Verfahrens zur Bildung des unterschiedlich gehärteten kollimierenden Films. -
7 zeigt eine Querschnittsansicht einer anderen Ausführungsform. -
8 zeigt eine perspektivische Ansicht der Ausführungsform in7 . -
9 zeigt eine Ausführungsform eines Logomusters. -
10 zeigt eine Auftragung eines Oberflächenprofils mit einer Interferenz-Mikroskopspur, quer über die Oberfläche eines Films, der mit dem Musterübertragungsverfahren gemacht wurde. - Das zuvor Gesagte und andere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden eingehenderen Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung offensichtlich, so wie in den begleitenden Zeichnungen veranschaulicht, in welchen die gleichen Referenzbuchstaben zu den gleichen Teilen über die verschiedenen Ansichten hinweg Bezug nehmen. Die Zeichnungen sind nicht notwendigerweise skaliert, der Schwerpunkt wurde stattdessen auf die Veranschaulichung der erfindungsgemäßen Prinzipien gelegt. Alle Teile und Prozentanteile sind auf Gewicht bezogen, sofern nicht anders angegeben.
- Eingehende Beschreibung der Erfindung
- Eine Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung folgt.
- Allgemein ist die Erfindung gerichtet auf das Bilden eines Musters in einem strahlungshärtbaren Material. Das Muster ist in einer Ausführungsform transparent, wenn man in einer Richtung im Wesentlichen senkrecht zu dem Material schaut. Jedoch kann das Muster klarer gesehen werden, wenn in einem Winkel von etwa 15 Grad von der Senkrechten abweichend geschaut wird.
-
1 zeigt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zur Bildung eines Musters wie dem Beispielsmuster „ABC", das zum Beispiel durch Masken- oder Musterschicht10 zur Verfügung gestellt wird, angebracht zwischen einer Strahlungsquelle14 und einem strahlungshärtbaren Material12 . In einer Ausführungsform kann die Maskenschicht10 Polycarbonat, Polyethylen, Polybutylen oder ähnliches enthalten und kann einen wenig klebrigen Klebstoff enthalten. Das härtbare Material12 kann Beschichtungen und mikrostrukturierte oder gemusterte Materialien enthalten, formuliert aus Materialien wie z. B. Polyester, Urethan oder Epoxyacrylaten und -methacrylaten. Verschiedene Additive, einschließlich Füller, freien Radikalinitiatoren und kationischen Initiatoren, können in dem Material12 enthalten sein, um die Verarbeitung oder die Leistung zu verbessern. Siehe z. B. Sartomer Company Bulletin Nrn. 4018 oder 4303. Die Strahlungsquelle14 stellt vorzugsweise actinische Strahlung zur Verfügung, welche fotochemische Aktivität in dem härtbaren Material12 verursacht. Zum Beispiel kann typischerweise Ultraviolettlicht verwendet werden. - Die Musterschicht
10 kann jede Art von Material enthalten, das zumindest einen Teil der Strahlung aus der Strahlungsquelle blockiert, um ein gleiches Muster im gehärteten Material12 zu lassen. Z. B. kann das Muster durch ein gefärbtes Muster gebildet werden, wie z. B. unter Verwendung von herkömmlichen Drucktinten, gedruckt auf einen transparenten Polymerfilm. Das Muster kann auch durch Prägemuster gebildet werden, welche die Transparenz des Films verändern. In einer Ausführungsform kann das Muster direkt auf beide Seiten eines Substrats aufgebracht werden, welches das härtbare Material12 trägt, und nach dem Härten kann das Muster entfernt werden oder auch nicht, um das gehärtete Muster in der gehärteten Schicht12 zu belassen. In alternativen Ausführungsformen kann die Musterschicht10 eine Schablone oder ähnliches enthalten, wie z. B. ein gefärbtes oder halb-transparentes Filmmaterial oder ein klares Harz mit ultraviolett-blockierenden Chemikalien darin. - Wie in
2 gezeigt wurde die Musterschicht10 entfernt, aber das Muster „ABC" wurde auf das gehärtete Material12 überführt. Es wird angenommen, dass das Muster die Härtungsgeschwindigkeit des Materials12 verändert, um das Muster in dem gehärteten Material zu bilden. Eine Theorie schlägt vor, dass die Moleküle in dem gebildeten Muster dichter sind als die Moleküle, die eine längere Vernetzungszeit als die Moleküle haben, die keine Maske darüber haben. Diese dichteren Bereiche scheinen unterschiedliche Brechungsindices zu haben. Das Muster ist am besten in einem Winkel von etwa 15 Grad zu sehen. -
3 zeigt eine andere Ausführungsform zur Bildung eines Musters in einem Material. In dieser Ausführungsform wird eine Musterschicht10 über einer gehärteten rückreflektierenden Struktur16 angebracht, die z. B. lineare oder Würfeleckenprismen enthalten kann. Beispiele für geeignete Würfeleckenprismen sind in US Patent 3 684 348, erteilt an Rowland am 15. August 1972 offenbart. - Mottenaugen-Strukturen
18 können auf der gegenüberliegenden Seite der rückreflektierenden Struktur wie in3 gezeigt gebildet werden. Mottenaugen-Strukturen sind eingehender in der internationalen Veröffentlichungsnummer WO01/35128, veröffentlicht am 17. Mai 2001 erklärt. Die Mottenaugen-Strukturen18 werden durch die Strahlungsquelle14 durch die Musterschicht10 hindurch gehärtet, derart, dass das Muster in den Mottenaugen-Strukturen18 oder Diffusor-Struktur oder andere geeignete Strukturen gebildet wird. - Eine Sub-Wellenlängenstruktur die angewendet wird, hat vorzugsweise eine Amplitude von etwa 0,4 Mikron und eine Periode von weniger als etwa 0,3 Mikron. Die Struktur ist sinusoidal in ihrem Aussehen und kann eine tiefgrüne bis tiefblaue Farbe zur Verfügung stellen, wenn man sie im Einfallsglanzwinkel ansieht. Vorzugsweise ist die Amplitude größer als zwei Mal die Periode, um ein zwei oder mehr zu eins Seitenverhältnis zur Verfügung zu stellen.
- Um eine Sub-Wellenlängestruktur zu bilden, wird die Struktur zunächst auf einem photoresist-bedeckten Glassubstrat gebildet, indem sie unter Verwendung eines Ultraviolett-Lasers holographisch belichtet wird. Eine geeignete Vorrichtung ist erhältlich von Holographic Lithography Systems aus Bedford, Massachusetts. Ein Beispiel eines Verfahrens ist offenbart in US Patent 4 013 465, erteilt an Clapham et al. am 22. März 1977. Dieses Verfahren ist empfindlich für jede Veränderung in der Umwelt, wie z. B. Temperatur und Staub, und man muss Vorsicht walten lassen. Die Struktur wird dann durch ein Galvanoformverfahren auf eine Nickelscheibe übertragen.
- In einer anderen Ausführungsform kann ein feines Muster auf der Maskenschicht
10 gebildet werden. Zum Beispiel kann das Muster einige wenige Zehntel eines Millimeters oder weniger in der Breite sein. Ein härtbares Material, das vorzugsweise im Wesentlichen klar ist, wenn es gehärtet wurde, wird auf der gegenüberliegenden Seite der Maskenschicht10 des Musters gebildet und durch eine Strahlungsquelle14 gehärtet. Das feine Muster wird somit in das gehärtete Material übertragen. Die Maskenschicht10 wird entfernt und das gehärtete Blatt wird vor einer Anzeige, wie z. B. einer Flüssigkristallanzeige, angebracht. Das feine Muster bricht das Pixelmuster in dem Display auf, ohne so viel Lichtverlust wie mit Diffusorblättern. - In strahlungsgehärteten Gießverfahren, wo es erwünscht ist, Merkmale herzustellen mit verschiedenen Winkeln, schneidet man normalerweise verschiedene Winkelmerkmale in die Form, die für die Reproduktion dieser Merkmale verwendet wird. Dies ist allgemein so bei der Herstellung von lichtleitenden oder lichtreflektierenden Produkten, wo kleine Winkelveränderungen die Produktleistung stark beeinträchtigen können. Das Schneiden und Replizieren von Formen ist teuer und ein zeitverschlingender Prozess.
- Mit dieser Erfindung kann man eine Vielzahl von Winkel- und Mustervariationen in einem Produkt mit einem einzigen Formdesign herstellen. Man druckt eine „Fotomaske" auf die Oberfläche eines Trägerblatts oder Films vor der Bildung und Strahlungshärtung einer geformten Struktur. Die „Fotomaske" kann klar oder gefärbt sein und auf jeder Seite des Trägers aufgebracht werden. Wenn die Strahlungshärtung stark kollimiert ist, ist es erwünscht, dass die „Maske" halbtransparent ist, um ein langsames Härten in diesem Bereich zuzulassen. In Fällen, in welchen diese Strahlung weniger kollimiert ist, kann man Härtung durch vollständig opake Masken über Streuung und Reflektionen in dem Maskenbereich erhalten.
- Das erhaltene Produkt zeigt dann unterschiedliches optisches Verhalten in Bereichen die maskiert wurden, aufgrund der Variation bei der Schrumpfung und dem Brechungsindex, in Bezug auf die Härtungsgeschwindigkeit, die durch die „Maske" behindert wurde.
-
4 zeigt eine perspektivische Ansicht eines typischen kollimierenden Films30 mit linearen Prismen32 , die lineare Spitzen34 und Täler36 haben. Der V-förmige Winkel der ersten Seite36 und zweiten Seite38 der Spitze34 ist typischerweise 90 Grad. Jedoch kann es auch ein nicht-rechtwinkliger Winkel sein. Die linearen Prismen32 können auf einem Basisfilm40 gebildet werden. -
5 zeigt eine perspektivische Ansicht einer Prismaanordnung52 eines differentiell gehärteten kollimierenden Films50 . Viele der Prismen die nicht durch eine Maske blockiert sind, wie z. B. Prisma54 , haben eine lineare Spitze56 . Viele der Prismen die blockiert sind, wie z. B. Prisma58 , haben eine abgerundete Spitze60 . Die abgerundete Spitze ist das Ergebnis von Härtung durch eine Maske, welche die Härtungsgeschwindigkeit verringert oder erhöht, bezogen auf die umgebenden Flächen. Typischerweise ist die Spitze60 im Vergleich zu dem normalen Gipfel des linearen Gipfels56 von Prisma58 abgerundet geformt. Der Bereich62 ist abgerundet in Bezug auf einen anderen Bereich, was in einer breiteren Lichtverteilung resultieren kann. Die abgerundete Mittellinie66 der Spitze dieses Prismas kann außermittig sein bezüglich der normalen Mittellinie64 , abhängig von der verwendeten Härtungsmaske. Dieser Bereich62 kann auch einen leicht unterschiedlichen Brechungsindex in Bezug auf die anderen Bereiche haben. Die Prismen können auf einem Basisfilm68 wie z. B. einem Polyester, Polycarbonat, Polyurethan, Acryl und Polyvinylchlorid gebildet werden. Vorzugsweise kann die Maske bis zu etwa 50% der Fläche des zu bildenden Produkts, wie z. B. einen kollimierenden Film, bedecken. Die Form der differentiell gehärteten Fläche kann im Wesentlichen jede Konfiguration oder Größe haben. Dies erlaubt, dass man das Licht/die Verteilung in den Anforderungsbereichen des Blattes, wie z. B. den Ecken und Kanten, anstelle der Mitte des Blattes Maßschneidern kann. Auch kann wenn ein größerer Prozentanteil der Fläche der Struktur blockiert wird im Vergleich zu dem mit Ultraviolettlicht bestrahlten, dies im bestrahlten Bereich zu einem erhöhten Anteil von Beulen führen. In Strukturen, in welchen geringere Prozentanteile der Fläche der Struktur blockiert werden, verglichen mit den mit Ultraviolettlicht bestrahlten, kann die Struktur ein Aussehen mit Einbuchtungen haben. - In dem blockierten Bereich können die Prismen nanometergroße Streifen haben, verursacht durch unterschiedliche Härtungsschrumpfungsmuster. Diese Streifen können wie eine vertikale lineare Mottenaugen-Struktur wirken. Einige Streifen können sich von der Spitze bis ins Tal erstrecken. Die Streifung kann in einem Bereich in der Breite von zwischen etwa 250 und 770 Nanometern, abhängig vom Maskenmuster liegen. Die Streifen können aufwärts gerichtetes Lichttunneln verursachen.
- Viele andere Arten von Prismen können verwendet werden, einschließlich Würfeleckenprismen. Würfelecken oder prismatische Rückreflektoren sind in US Patent 3 712 706, erteilt an Stamm am 23. Januar 1973, beschrieben. Allgemein werden die Prismen durch Bilden einer negativen Mastermatrize auf einer flachen Oberfläche einer Metallplatte oder anderem geeigneten Material gebildet. Um die Würfelecken zu bilden, werden drei Serien von parallelen, äquidistanten, sich schneidenden, V-förmigen Rillen mit 60 Grad zueinander in die flache Platte eingeschrieben. Die Matrize wird dann verwendet, um den erwünschten Würfeleckenbereich in eine feste flache Kunststoffoberfläche einzubringen. Weitere Details betreffend die Strukturen und Arbeitsweise von Würfeleckenmikroprismen können in US Patent 3 684 348, erteilt an Rowland am 15. August 1972, gefunden werden. Das Mustertransferkonzept kann auch das Bilden einer strukturierten Beschichtung auf einer glatten Oberfläche beinhalten und auch das Bilden einer Musterstruktur auf einem mikro-optischen Array jeglicher Art, einschließlich Oberflächen in Submikron- bis Mikrongröße. Weiterhin kann ein Muster auf ebenen Oberflächen, prismatischen Oberflächen, Linsenstrukturen und anderem aufgebracht werden. Das Muster kann statistisch, geordnet oder dazu gedacht sein, eine Nachricht zu tragen.
- Nun bezugnehmend auf
6 wird ein Verfahren zur Bildung des unterschiedlich gehärteten kollimierenden Films in weiteren Details beschrieben. Eine Form102 wird von linearen Rillen104 , die im Wesentlichen parallel zu der Achse sind, in welcher die Form rotiert, beherrscht. Die linearen Rillen können zwischen etwa 0,05 und 0,2 mm (0,002 und 0,008 inch) von einander entfernt sein. Ein Basisfilm104 wird von Rolle106 abgerollt. Der Basisfilm104 kann ein geeignetes Material, wie z. B. ein Polyester sein. Der Maskenfilm108 wird von einer zweiten Rolle110 abgerollt. Der Maskenfilm kann aus einem geeigneten Material, wie z. B. Polyester, gebildet sein, auf den ein nicht-transparentes Muster auf dem transparenten Maskenfilm aufgedruckt ist. Das nicht-transparente Muster kann auf den Maskenfilm in der gleichen Art und Weise, wie ein Muster auf eine Overhead-Transparenzfolie aufgedruckt wird, aufgedruckt sein. Der Basisfilm104 und Maskenfilm108 werden durch eine erste Klemmrolle112 gegen Rolle102 zusammengeklemmt. Der Basisfilm104 und der Maskenfilm werden durch Form102 bis zur zweiten Klemmrolle114 in engem Kontakt gehalten. In einer anderen Ausführungsform können der Basisfilm und der Maskenfilm zu einem einzelnen Blatt zusammen laminiert und dann von einer einzelnen Rolle abgerollt werden. - In noch einer anderen Ausführungsform kann ein entfernbares Muster direkt auf eine erste Seite des Basisfilms mit einem geeigneten lichtblockierenden Material, wie z. B. einer wasserlöslichen Tinte oder ähnlichem, aufgedruckt werden. Eine härtbare Schicht aus lichthärtbarem Material wird auf die zweite Seite des Basisfilms aufgebracht und die härtbare Schicht wird in Gegenwart von Licht, das auf das Muster und den Basisfilm hindurch auf die härtbare Schicht gerichtet ist, unterschiedlich gehärtet. Nach unterschiedlicher Härtung der Schicht wird das entfernbare Muster von dem Basisfilm entfernt. Zum Beispiel kann es mit einem Lösungsmittel, wie z. B. Wasser für eine wasserlösliche Tinte, entfernt werden. Jedoch können auch andere Lösungsmittel, wie z. B. Alkohol, Kohlenwasserstoffe, etc. verwendet werden, abhängig von der Tinte oder anderem Material, das verwendet wird, um das lichtblockierende Muster auf dem Basisfilm zu bilden. Ein Vorteil dieser Ausführungsform ist der, dass ein separater Maskenfilm nicht benötigt wird.
- Prismenmonomermaterial
116 wird an der Stelle118 in der Nähe von Klemmrolle112 aufgebracht. Das Monomermaterial, wie z. B. ein Acrylat, fließt in die Rillen120 von Form102 . Das Prismenmonomermaterial116 wird durch das teilweise blockierte Ultraviolettlicht unterschiedlich gehärtet, wenn aus es aus den Ultraviolettlampen122 ,124 auftrifft, um unterschiedlich gehärteten kollimierenden Film126 zu bilden. Unterschiedlich gehärteter kollimierender Film126 wird auf Aufrollrollen128 aufgerollt. Der Maskenfilm108 wird auf einer zweiten Aufrollrolle130 aufgerollt. - Bei einem kollimierenden Film mit Bereichen, die unterschiedlich gehärtet sind, wird Licht durch den kollimierenden Film gerichtet, was in unterschiedlichen Schatten der Belichtung resultiert. Hellere Bereiche schließen die Bereiche mit 90 Grad linearen Prismen ein. Bereiche mit dunkleren Bereichen schließen Prismen ein, die durch Blockieren der Maske unterschiedlich gehärtet wurden. In diesen dunkleren Bereichen sind die Prismen leicht verdreht aufgrund der unterschiedlichen Härtungsrate und erscheinen dunkler, da das Licht über einen breiteren Bereich gestreut ist.
- Eine lichtausrichtende Filmbeschichtung kann für kollimierendes Licht in Rücklichtsystemen verwendet werden. Die lichtausrichtende Filmbeschichtung
200 , wie in Querschnittseitenansicht in7 und in einer perspektivischen Ansicht in8 gezeigt, beinhaltet einen Basisfilm202 , gebildet aus einem transparenten Polyesterfilm, wie z. B. ICI Dupont 4000 PET oder Polycarbonat, wie z. B. Rowland Technologies „Rowtec"-Film, mit einer Dicke in dem Bereich von zwischen etwa 50 und 250 Mikrometern (0,002 und 0,01 inch). In einer bevorzugten Ausführungsform kann die Beschichtung eine Dicke in dem Bereich von zwischen etwa 0,1 und 0,15 mm (0,004 und 0,006 inch) und einen Brechungsindex in dem Bereich von zwischen etwa 1,49 und 1,59 haben. - Eine Serie von transparenten linearen Prismen
204 mit Seiten 206 wird auf dem Basisfilm202 gebildet. Die Seiten206 können gleichschenklig sein. Die linearen Prismen204 erstrecken sich über die Beschichtung. Die Prismen sind aus einem transparenten Harz gebildet, wie z. B. einer Mischung aus polymerisiertem CN104 Polyacrylat, erhältlich von Sartomer Chemical Co. und RDX51027 von UCB Chemical. Die linearen Prismen sind in einem Abstand (p) in einem Bereich von zwischen etwa 25 und 100 Mikrometern (0,001 und 0,004 inch), vorzugsweise etwa 48 Mikrometern (0,0019 inch) je Prisma von einander entfernt. Die linearen Prismen haben eine Höhe (h) in einem Bereich von zwischen etwa 20 und 100 Mikrometern (0,0008 und 0,004 inch), vorzugsweise etwa 25 Mikrometer (0,001 inch). Die linearen Prismen haben ausgeprägte Spitzen206 mit einem Spitzenwinkel (α) wie gewünscht, mit bevorzugten Werten von 88 oder 90 Grad in einer Beschichtung. Basiswinkel β1 und β2 können gleich oder verschieden sein. - Die linearen Prismen
204 können auf dem Basisfilm202 durch eine optionale Prismenklebeschicht208 , wie z. B. 7650TC acrylischer Klebstoff, erhältlich von Bostik Chemical, angeheftet sein. Die Prismenklebeschicht208 hat eine Dicke (a1) in dem Bereich von zwischen etwa 2,5 und 12 Mikrometern (0,0001 und 0,0005 inch). - Auf der Nicht-Prismenseite
210 des Basisfilms202 wird eine Musterstruktur212 gebildet, wie z. B. eine Harzzusammensetzung, ähnlich zu der oder die gleiche wie die prismenseitige Klebstoffschicht. Die Musterstruktur212 kann auf dem Basisfilm202 durch Musterklebeschicht214 befestigt werden, die ähnlich ist in Material und Dicke (a2) zur Prismenklebeschicht208 . Musterstruktur212 hat eine Dicke in dem Bereich von zwischen etwa 2,5 und 12 Mikrometer (0,0001 und 0,0005 inch). - Wie in
9 gezeigt beinhaltet die Musterstruktur230 ein Logo232 , das eine Anordnung von vier stumpfen ungleichseitigen Dreiecken ist. Das Logo kann ein Firmenname, ein Warenzeichen, eine Figur oder ein anderes gewünschtes Design sein. Die Musterstruktur kann auf eine Beschichtung, wie z. B. eine Polyester-Overhead-Projektor-Beschichtung, durch einen Laserdrucker aufgedruckt werden. In der gezeigten Ausführungsform wird das Logo in einer Linie auf einer ersten Achse etwa alle 13 mm wiederholt. Die Logos in jeder Linie sind in der nächsten um eine Hälfte eines Logos versetzt und die Linien wiederholen sich etwa alle 7,5 mm entlang einer zweiten Achse in der Ablauf/Geweberichtung, die senkrecht zu der ersten Achse ist. Die Linien des Logos sind etwa 0,5 mm breit. Andere Arten von Designs beinhalten Kreuzschraffur, geometrische Figuren, Zahlen, Buchstaben, etc. - Zurückkehrend zu
8 sind die Linien Vertiefungen216 oder Einbuchtungen in der Oberfläche auf der Nicht-Prismaseite. Vertiefungen216 können eine Tiefe (d) in dem Bereich von zwischen etwa 0,3 und 2,0 Mikrometern haben, mit einer mittleren Tiefe von einem Mikrometer. Die Vertiefungen sind nicht gleichförmig in der Steigung von ihren Kanten218 zum tiefsten Punkt220 . Die Vertiefungen können eine mittlere Steigung von 0,5 Grad zu der Oberfläche des Basisfilms102 haben, wobei die Steigung die Höhe von einem Grad hat. - Die Musterstruktur wird durch temporäres Anbringen eines Maskenfilms auf einer Seite des Basisfilms gebildet. Der Maskenfilm hat ein Logo, geometrische Form (Linien, Kreise, Kurven, etc.), alphanumerisches oder jedes andere gewünschte Design, das darauf gebildet wird, das einen Teil des Ultraviolettlichtes blockiert, wenn es von einer Ultraviolettlichtquelle aus durch die Maske hindurch auf den Basisfilm fällt. Der Teil des Maskenfilms ohne das darauf aufgedruckte Logo ist für Ultraviolettlicht transparenter. Auf der anderen Seite des Basisfilms wird eine Klebeschicht aufgebracht und ein ungehärtetes strahlungshärtbares Harz wird auf die Klebeschicht aufgebracht. Ultraviolettlicht wird aus einer Ultraviolettlichtquelle durch die Maskenschicht durch die Basisschicht durch die Klebeschicht auf die Harzschicht gerichtet. Die Harzschicht wird unterschiedlich gehärtet, da die Ultraviolettlicht-Intensität ungleichmäßig durch das auf die Harzschicht aufgedruckte Muster blockiert wird, was in einer Musterstruktur resultiert. Die Musterstruktur ist ungleichmäßig und segmentiert. Die Bereiche der Harzschicht, welche die größte Blockade vor dem Ultraviolettlicht haben, haben die tiefsten Vertiefungen in der Oberfläche. Die Bereiche, die dem Ultraviolettlicht ausgesetzt waren, resultieren in Segmenten mit relativ glatten Oberflächen. Der Maskenfilm wird dann von dem Basisfilm entfernt. Die linearen Prismen werden auf der gleichen Seite gegossen, auf welcher der Maskenfilm angebracht war. Die linearen Prismen werden durch Ultraviolettlicht gehärtet, das durch den Basisfilm hindurch gerichtet wird. Die linearen Prismen können leicht unterschiedlich gehärtet werden in den Bereichen, die dem Ultraviolettlicht ausgesetzt sind, das durch die Musterstruktur hindurchfällt, die ungleichmäßig und segmentiert ist.
- Der Film kann zwischen einen Lichtleiter und ein Display gebracht werden, wie z. B. ein Flüssigkristalldisplay. Das feine Muster bricht das Pixelmuster in dem Display auf, ohne so viel Lichtverlust wie mit einem Diffusorblatt. Die Musterstruktur auf dem Film kann quer über den Film leicht sichtbar sein.
- Der Film kann als Einzelblatt- oder als Zweiblatt- oder Mehrfachsystem verwendet werden. Ein Zweiblattsystem hat die linearen Prismenspitzen in die gleiche Richtung zeigend und die Länge der Spitzen von jedem Blatt ist oftmals bei 90 Grad gekreuzt.
- Beispiel 1
- Lineare Prismen werden auf Polycarbonat gegossen und mit einem Nummer 30LC-Maskenfilm (hergestellt von Ivex Packaging Corporation), der ein blaugefärbtes „PEEL" Muster darauf gedruckt hat, bedeckt. Mottenaugen-Strukturen werden auf der gegenüberliegenden Seite der Prismen gegossen und durch Ultraviolettstrahlung mit einer Gewebegeschwindigkeit von etwa 12 Metern je Minute (40 Fuß je Minute), unter zwei 157–236 Wattgeradlinige Zentimeter (400-600 Watt/lineal inch) Ultraviolettlampen, hergestellt von Eye Ultraviolet Corporation, gehärtet. Nach Entfernen des Maskenfilms behalten die gehärteten Mottenaugen-Strukturen das „PEEL"-Muster, das nicht leicht bei einem Null- Grad-Winkel gesehen werden kann, aber ausgeprägt bei etwa 15 Grad-Sichtwinkel.
- Beispiel 2
- Alphanumerische Bilder werden auf die Oberfläche eines Maskenfilms auf einer Frischhaltemaskenprobe eines Polycarbonatfilms, hergestellt von Rowland Technologies Incorporated, handgeschrieben. Allgemein erhältliche Filzstiftmarker werden verwendet, um die Bilder zu bilden. Die ultraviolett härtbare Beschichtung aus Epoxyacrylat wird auf die andere Seite des Polycarbonatfilms aufgebracht und unter einer 236 Watt je geradlinigem Zentimeter (600 Watt je lineal inch) Lampe bei etwa 4,6 Metern je Minute (fünfzehn Fuß je Minute) gehärtet. Der Maskenfilm wird entfernt und die gehärtete Beschichtung wird optisch unter verschiedenen Winkeln untersucht. Die Bilder, die auf dem Maskenfilm waren, waren bei flachen Sichtwinkeln in der gehärteten Beschichtung sichtbar.
- Beispiel 3
-
10 zeigt eine Auftragung eines Oberflächenprofils mit einer Interferenzmikroskopspur, die quer über die Oberfläche eines Films, der mit dem Musterübertragungsverfahren erzeugt wurde, gemacht wurde. - Die Höhe der Merkmale ist etwas weniger als eine Wellenlänge des roten Lichts. Rote Lichtwellenlänge ist 632,8 nm (2,49 × 10–5 inches). Die Höhe der Merkmale ist etwa 500 bis 900 nm (1,9685 × 10–5 bis 3,5433 × 10–5 inches). Die mittlere Höhe ist etwa 640 nm (2,5197 × 10–5 inches).
- Die Höhe und Steigung der Merkmale verursacht etwas Lichtablenkung, wenn das Licht durch den Film fällt. Jedoch scheint der Effekt der Helligkeit um etwa 1 Verstärkung positiv zu sein. Zusätzlich können diese Merkmale als Anhaltepunkte für Prismenspitzen von kollimierenden Filmen wirken, wenn die Filme übereinandergestapelt werden und daher die Mehrzahl der Prismenspitzen vor einer Zerstörung durch Reibung geschützt werden kann.
Claims (7)
- Struktur (
52 ), umfassend eine Schicht, die einen ersten gehärteten Bereich aufweist und dadurch gekennzeichnet ist, dass die Schicht einen zweiten gehärteten Bereich umfasst, der erste gehärtete Bereich (56 ) und der zweite gehärtete Bereich (60 ) aus einem gleichen, lichthärtbaren Material gebildet sind, und wobei dieser erste gehärtete Bereich (56 ) bis zu einem ersten Grad gehärtet ist, und dieser zweite gehärtete Bereich (60 ) bis zu einem zweiten Grad gehärtet ist, wobei dieser erste Grad ausreichend unterschiedlich von dem zweiten Grad ist, so dass eine sichtbare Diskontinuität auf der Oberfläche der Struktur (52 ) die Folge ist. - Struktur von Anspruch 1, wobei diese Schicht mit einer Basis verbunden ist, und wobei gegebenenfalls diese Schicht und diese Basis entweder aus dem gleichen Material gebildet sind, oder wobei die Basis aus einem Material gebildet ist, das aus der Gruppe ausgewählt wird, die aus Polyester, Polycarbonat, Polyurethan, Acrylat und Polyvinylchlorid besteht.
- Struktur von Anspruch 1 und wobei entweder: a) dieser erste Grad ausreichend unterschiedlich von dem zweiten Grad ist, so dass ein Unterschied zwischen der Dicke des ersten Bereichs und der Dicke des zweiten Bereichs resultiert, der in einem Bereich von zwischen etwa 0,05 und 2,0 Mikrometern liegt; b) dieses lichthärtbare Material aus der Gruppe ausgewählt wird, die aus Polyestern, Urethanen, Epoxyacrylaten und Methacrylaten besteht; c) diese Schicht Linearprismen umfasst; d) diese Schicht eine linsenförmige Struktur umfasst; e) diese Schicht ein Würfeleckenprisma umfasst; f) diese Schicht eine Subwellenlängen-Struktur umfasst; g) dieser erste gehärtete Bereich so gestaltet ist, dass er ein Logo, geometrische Formen oder Alphanumerika darstellt; h) dieser erste gehärtete Bereich (
56 ) einen Brechungsindex aufweist, der sich vom Brechungsindex des zweiten gehärteten Bereichs (60 ) unterscheidet; i) dieser erste gehärtete Bereich eine Dichte aufweist, die sich von der Dichte des zweiten gehärteten Bereichs unterscheidet; j) diese Basis und diese Schicht das gleiche, lichthärtbare Material umfassen. - Verfahren zur Bildung eines Musters in einem strahlenhärtbaren Material (
12 ), das die folgenden Schritte umfasst: a) Bereitstellen eines Blockiermusters (10 ), das einen Teil der Strahlung von einer Strahlenquelle abblocken kann, zwischen der Strahlenquelle und dem strahlenhärtbaren Material; und b) Härten des Materials (12 ) mit Strahlung von der Strahlenquelle (14 ) durch das Blockiermuster unter Bildung eines Musters in dem strahlenhärtbaren Material (12 ), dadurch gekennzeichnet, dass der Härtungsschritt ein Muster bildet, wobei ein erster gehärteter Bereich (56 ) bis zu einem ersten Grad gehärtet ist, und ein zweiter gehärteter Bereich bis zu einem zweiten Grad gehärtet ist, wobei sich dieser erste Grad ausreichend von dem zweiten Grad unterscheidet, so dass eine sichtbare Diskontinuität auf der Oberfläche der Struktur die Folge ist. - Verfahren von Anspruch 4, und wobei entweder: a) die Strahlenquelle (
14 ) ultraviolettes Licht emittiert; b) das strahlenhärtbare Material (12 ) aus Polyestern, Urethanen, Epoxyacrylaten und Methacrylaten ausgewählt wird; c) das Muster (10 ) in Form eines Logos, einer geometrischen Form oder von Alphanumerika gestaltet ist; d) das Blockiermuster auf einem separaten Film gebildet ist; oder e) das strahlenhärtbare Material mit einem Basisfilm verbunden ist; wobei das Blockiermuster in diesem Fall gegebenenfalls entfernbar auf dem Basisfilm angebracht ist. - Mustertransfer-Vorrichtung, umfassend: a) eine Strahlenquelle (
14 ) zur Emission von Strahlung; b) ein strahlenhärtbares Material (12 ), das durch die Strahlung gehärtet werden kann; und c) ein Muster (10 ) zum Blockieren eines Teils der Strahlung; wobei die Vorrichtung dadurch gekennzeichnet ist, dass sie angeordnet ist, um dieses Muster (10 ) zwischen der Strahlenquelle (14 ) und dem strahlenhärtbaren Material (12 ) während des Härtens des Materials so anzuordnen, dass ein wahrnehmbares Muster in dem Material von einem ersten gehärteten Bereich (56 ) und einem zweiten gehärteten Bereich (60 ) gebildet wird. - Mustertransfer-Vorrichtung von Anspruch 6, und wobei entweder: a) diese Strahlenquelle (
14 ) ultraviolettes Licht emittieren kann; b) dieses strahlenhärtbare Material (12 ) aus einem Material ausgewählt wird, das aus Polyester, Epoxyacrylaten, Urethanen und Methacrylaten besteht; oder c) das Muster (10 ) in der Form eines Logos, von geometrischen Formen und Alphanumerika gestaltet ist.
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US22669700P | 2000-08-18 | 2000-08-18 | |
US226697P | 2000-08-18 | ||
US25617600P | 2000-12-15 | 2000-12-15 | |
US256176P | 2000-12-15 | ||
PCT/US2001/025241 WO2002016106A2 (en) | 2000-08-18 | 2001-08-10 | Differentially cured materials and process for forming same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE60117573D1 DE60117573D1 (de) | 2006-04-27 |
DE60117573T2 true DE60117573T2 (de) | 2006-12-14 |
Family
ID=26920792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE60117573T Expired - Lifetime DE60117573T2 (de) | 2000-08-18 | 2001-08-10 | Verschiedenartig gehärtete materialen und verfahren zur deren herstellung |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7250122B2 (de) |
EP (1) | EP1309437B1 (de) |
JP (1) | JP2004506547A (de) |
KR (1) | KR100798172B1 (de) |
CN (1) | CN100389017C (de) |
AU (1) | AU2001284844A1 (de) |
DE (1) | DE60117573T2 (de) |
TW (1) | TWI294821B (de) |
WO (1) | WO2002016106A2 (de) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7313253B2 (en) * | 1998-09-11 | 2007-12-25 | Digimarc Corporation | Methods and tangible objects employing machine readable data in photo-reactive materials |
US7230764B2 (en) * | 2000-08-18 | 2007-06-12 | Reflexite Corporation | Differentially-cured materials and process for forming same |
US20040190102A1 (en) * | 2000-08-18 | 2004-09-30 | Mullen Patrick W. | Differentially-cured materials and process for forming same |
AU2001284844A1 (en) | 2000-08-18 | 2002-03-04 | Reflexite Corporation | Differentially cured materials and process for forming same |
EP1625430A2 (de) * | 2003-05-02 | 2006-02-15 | Reflexite Corporation | Lichtumlenkende optische strukturen |
US8181884B2 (en) * | 2003-11-17 | 2012-05-22 | Digimarc Corporation | Machine-readable features for objects |
WO2005056275A1 (en) * | 2003-12-15 | 2005-06-23 | Multi Sign A/S | System and method for the manufacture of a film comprising a retro reflective pattern |
WO2005106601A2 (en) † | 2004-04-30 | 2005-11-10 | De La Rue International Limited | Arrays of microlenses and arrays of microimages on transparent security substrates |
GB0427607D0 (en) * | 2004-12-16 | 2005-01-19 | Microsharp Corp Ltd | Structured optical film |
EP1856566A1 (de) * | 2005-03-09 | 2007-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Mikroreplizierter gegenstand mit fehlerreduzierender oberfläche |
DE102005060731A1 (de) * | 2005-12-16 | 2007-06-21 | Röhm Gmbh | Prismenfilme für optische Anwendungen |
DE102006011949A1 (de) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Epg (Engineered Nanoproducts Germany) Ag | Verfahren zur Herstellung von defektfreien mikrooptischen Lichtlenkelementen grosser Breite |
JP4006650B1 (ja) * | 2006-05-08 | 2007-11-14 | ソニー株式会社 | 光学フィルムおよびその製造方法ならびに表示装置 |
DE102006029852A1 (de) † | 2006-06-27 | 2008-01-03 | Giesecke & Devrient Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer Mikrostruktur, Werkzeugform und Gegenstand mit Mikrostruktur |
JP5288753B2 (ja) * | 2007-09-07 | 2013-09-11 | 新光電気工業株式会社 | 紫外線硬化型導波路材料の積層方法及び装置 |
KR101609400B1 (ko) * | 2008-04-02 | 2016-04-05 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 광 지향 필름 또는 광 지향 물품 |
EP2109014A1 (de) * | 2008-04-08 | 2009-10-14 | JDS Uniphase Corporation | Verbesserte OVD-haltige Vorrichtung |
EP2120070B1 (de) * | 2008-05-16 | 2014-03-12 | LG Electronics Inc. | Optische Folie, Rückbeleuchtungseinheit und Flüssigkristallanzeige |
TW201017280A (en) * | 2008-10-28 | 2010-05-01 | Shiang-Lin Liao | Substrate-free optical film |
KR101595925B1 (ko) * | 2008-12-31 | 2016-02-22 | 미래나노텍(주) | 몰드와, 광학 부재의 제조방법 및 장치 |
TWI465498B (zh) * | 2009-03-03 | 2014-12-21 | Mitsubishi Rayon Co | 薄膜的製造方法 |
US20100237539A1 (en) * | 2009-03-20 | 2010-09-23 | Chang-Chih Sung | Manufacturing method and apparatus for optical sheet |
KR200454030Y1 (ko) * | 2009-04-20 | 2011-06-10 | 대명조명주식회사 | 용이한 분리와 결합 및 장식성이 가미된 천정용 매립등 |
WO2011126044A1 (ja) * | 2010-04-09 | 2011-10-13 | 三菱レイヨン株式会社 | 微細凹凸構造を表面に有する物品の製造方法および製造装置 |
KR20120030317A (ko) * | 2010-09-17 | 2012-03-28 | 소니 주식회사 | 적층체의 제조 방법, 원반, 전사 장치, 적층체, 성형 소자 및 광학 소자 |
EP2714358B1 (de) * | 2011-05-31 | 2020-02-19 | 3M Innovative Properties Company | Verfahren zur herstellung von unterschiedlich gemusterten gehärteten mikrostrukturierten artikeln |
US9415539B2 (en) | 2011-05-31 | 2016-08-16 | 3M Innovative Properties Company | Method for making microstructured tools having discontinuous topographies, and articles produced therefrom |
US9463601B2 (en) * | 2011-05-31 | 2016-10-11 | 3M Innovative Properties Company | Cube corner sheeting having optically variable marking |
JP6252047B2 (ja) * | 2013-09-03 | 2017-12-27 | 大日本印刷株式会社 | 透過率異方性部材、透過率異方性部材の製造方法及び表示装置 |
CN105388543B (zh) * | 2014-08-26 | 2018-12-14 | 友辉光电股份有限公司 | 在基板上形成凹凸结构的方法与模具制作的方法 |
CA2973429C (en) * | 2015-01-16 | 2023-10-17 | Beaulieu International Group Nv | Covering and method for producing coverings |
CN106646716A (zh) * | 2017-02-14 | 2017-05-10 | 山西大学 | 空间堆叠型光束分布式相位延迟器及其散斑消除方法 |
US11499321B2 (en) | 2017-07-13 | 2022-11-15 | Beaulieu International Group Nv | Covering and method for producing coverings |
NL2023024B1 (nl) * | 2019-04-29 | 2020-11-05 | Veko Lightsystems Int B V | Aan beide zijden van prismatische structuren voorziene dunwandig optisch element lens voor een lichtbron. |
US11124932B1 (en) * | 2021-04-30 | 2021-09-21 | Mark Joseph O'Neill | Retroreflective traffic stripe for both dry and wet weather conditions |
Family Cites Families (114)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2380447A (en) * | 1945-07-31 | Optical reflecting material | ||
US135128A (en) * | 1873-01-21 | Improvement in traction or portable engines | ||
US2474317A (en) * | 1949-06-28 | Light refracting and transmitting | ||
US214728A (en) * | 1879-04-22 | Improvement in fruit-driers | ||
US2310790A (en) * | 1943-02-09 | Optical reflecting material | ||
US5816677A (en) * | 1905-03-01 | 1998-10-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Backlight device for display apparatus |
US1241886A (en) * | 1916-07-12 | 1917-10-02 | Levi Leroy Rowe | Lens. |
US2248638A (en) * | 1937-02-22 | 1941-07-08 | Merton Thomas Ralph | Sheet material with prismatic surfaces |
US2904674A (en) * | 1956-11-29 | 1959-09-15 | Bell Telephone Labor Inc | Radiant energy highway communication system with controlled directive antenna |
US2904673A (en) * | 1957-02-13 | 1959-09-15 | Sr Edwin F Guth | Light diffusors for illuminating devices |
US3046617A (en) * | 1959-01-23 | 1962-07-31 | Grayboff Marilyn | Light-transmitting structural panel |
US3670260A (en) * | 1970-05-15 | 1972-06-13 | American Optical Corp | Controlled optical beam forming device |
US3684348A (en) * | 1970-09-29 | 1972-08-15 | Rowland Dev Corp | Retroreflective material |
US3718078A (en) | 1970-12-31 | 1973-02-27 | Polaroid Corp | Smoothly granulated optical surface and method for making same |
US3712706A (en) * | 1971-01-04 | 1973-01-23 | American Cyanamid Co | Retroreflective surface |
US3853578A (en) * | 1972-09-08 | 1974-12-10 | Senri Kikaku Sogo Kk | Method of manufacturing decorative boards with depression patterns |
GB1462618A (en) * | 1973-05-10 | 1977-01-26 | Secretary Industry Brit | Reducing the reflectance of surfaces to radiation |
US4064433A (en) * | 1976-06-30 | 1977-12-20 | K-S-H, Inc. | Prismatic lighting panel |
US4154219A (en) * | 1977-03-11 | 1979-05-15 | E-Systems, Inc. | Prismatic solar reflector apparatus and method of solar tracking |
US4576850A (en) * | 1978-07-20 | 1986-03-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Shaped plastic articles having replicated microstructure surfaces |
US4242723A (en) * | 1979-05-14 | 1980-12-30 | Keene Corporation | Low level work area lighting system |
US4260220A (en) * | 1979-06-15 | 1981-04-07 | Canadian Patents And Development Limited | Prism light guide having surfaces which are in octature |
US4374077A (en) * | 1980-02-01 | 1983-02-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for making information carrying discs |
US4402571A (en) | 1981-02-17 | 1983-09-06 | Polaroid Corporation | Method for producing a surface relief pattern |
US4469407A (en) | 1982-02-08 | 1984-09-04 | Polaroid Corporation | Laser apodizing filter |
US4485123A (en) * | 1982-02-12 | 1984-11-27 | Union Carbide Corporation | Process for producing textured coatings |
US4496216A (en) | 1982-12-30 | 1985-01-29 | Polaroid Corporation | Method and apparatus for exposing photosensitive material |
US4514345A (en) | 1983-08-23 | 1985-04-30 | The Procter & Gamble Company | Method of making a foraminous member |
US4542449A (en) * | 1983-08-29 | 1985-09-17 | Canadian Patents & Development Limited | Lighting panel with opposed 45° corrugations |
US4477529A (en) * | 1983-12-29 | 1984-10-16 | General Electric Company | Photocurable polyfunctional acrylic coating and decorative articles coated therewith |
US4732715A (en) * | 1985-09-20 | 1988-03-22 | Bausch & Lomb Incorporated | Manufacture of polymeric contact lenses |
CA1279783C (en) * | 1985-11-21 | 1991-02-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Totally internally reflecting thin, flexible film |
US5056892A (en) * | 1985-11-21 | 1991-10-15 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Totally internally reflecting thin, flexible film |
US4874228A (en) * | 1987-03-24 | 1989-10-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Back-lit display |
CA1278203C (en) * | 1987-04-24 | 1990-12-27 | Lorne A. Whitehead | Non-reflective image display device |
US4984144A (en) * | 1987-05-08 | 1991-01-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High aspect ratio light fixture and film for use therein |
US4791540A (en) * | 1987-05-26 | 1988-12-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light fixture providing normalized output |
US4839250A (en) | 1987-08-10 | 1989-06-13 | Polaroid Corporation, Patent Department | Method of replicating volume phase reflection holograms |
US4874213A (en) | 1987-08-10 | 1989-10-17 | Polaroid Corporation | Method of forming volume phase reflection holograms |
US4999234A (en) | 1987-08-10 | 1991-03-12 | Polaroid Corporation | Holographic optical data storage medium |
US4888260A (en) | 1987-08-10 | 1989-12-19 | Polaroid Corporation | Volume phase reflection holograms and methods for fabricating them |
CA1312320C (en) * | 1987-11-12 | 1993-01-05 | Makoto Oe | Plane light source unit |
US4942112A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging |
US4937716A (en) * | 1988-05-05 | 1990-06-26 | Tir Systems Ltd | Illuminating device having non-absorptive variable transmissivity cover |
KR0173110B1 (ko) * | 1988-12-27 | 1999-05-01 | 나가이 야타로 | 렌즈 시이트 |
US5183597A (en) * | 1989-02-10 | 1993-02-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of molding microstructure bearing composite plastic articles |
US5005108A (en) * | 1989-02-10 | 1991-04-02 | Lumitex, Inc. | Thin panel illuminator |
US5175030A (en) * | 1989-02-10 | 1992-12-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Microstructure-bearing composite plastic articles and method of making |
EP0408283B1 (de) * | 1989-07-12 | 1995-09-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Gerät zur Herstellung einer Substratschicht für optische Aufzeichnungsmedien, Verfahren zur Herstellung einer Substratschicht für optische Aufzeichnungsmedien, das Gebrauch davon macht, Gerät zur Herstellung eines optischen Aufzeichnungsmediums und Verfahren zur Herstellung eines optischen Aufzeichnungsmediums, das Gebrauch davon macht. |
US5093765A (en) * | 1990-02-16 | 1992-03-03 | Tosoh Corporation | Back lighting device for a panel |
US5161041A (en) * | 1990-04-26 | 1992-11-03 | Ois Optical Imaging Systems, Inc. | Lighting assembly for a backlit electronic display including an integral image splitting and collimating means |
EP0500960B1 (de) * | 1990-09-12 | 1995-12-20 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Flächenartiges beleuchtungselement |
US5254390B1 (en) * | 1990-11-15 | 1999-05-18 | Minnesota Mining & Mfg | Plano-convex base sheet for retroreflective articles |
US5281371A (en) * | 1990-11-16 | 1994-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method and apparatus for forming substrate sheet for optical recording medium |
JPH04356015A (ja) * | 1991-03-22 | 1992-12-09 | Tosoh Corp | バックライト |
US5190370A (en) * | 1991-08-21 | 1993-03-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | High aspect ratio lighting element |
DE69220870T2 (de) * | 1991-08-22 | 1998-02-05 | Tosoh Corp | Vorrichtung zur rückseitigen Beleuchtung |
US5267062A (en) * | 1991-08-26 | 1993-11-30 | Rockwell International Corporation | System for backlighting LCD matrices including luminescent dots each followed by and at the focal point of a lens |
US5769522A (en) | 1991-09-09 | 1998-06-23 | Enplas Corporation | Surface light source device |
US5186530A (en) * | 1991-11-22 | 1993-02-16 | Tir Systems, Ltd. | Lighting structure having variable transmissivity internal light guide illumination |
US5394255A (en) * | 1992-01-27 | 1995-02-28 | Sekisui Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display using a plurality of light adjusting sheets angled at 5 degrees or more |
JP3006306B2 (ja) * | 1992-09-16 | 2000-02-07 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 光学的フイルム及び上記光学的フイルムを用いた液晶表示装置 |
KR0168879B1 (ko) * | 1992-12-25 | 1999-04-15 | 기따지마 요시또시 | 렌티큘러 렌즈, 면광원 및 액정 표시 장치 |
DE69409977T2 (de) * | 1993-01-11 | 1998-10-22 | Koninkl Philips Electronics Nv | Beleuchtungssystem und ein solches System umfassendes Anzeigegerät |
US5435816A (en) * | 1993-01-14 | 1995-07-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of making an abrasive article |
EP0797045B1 (de) * | 1993-02-01 | 1999-05-12 | Tosoh Corporation | Hintergrundbeleuchtungseinrichtung |
US6052164A (en) * | 1993-03-01 | 2000-04-18 | 3M Innovative Properties Company | Electroluminescent display with brightness enhancement |
US5598280A (en) * | 1993-03-23 | 1997-01-28 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Film lens and a surface light source using the same |
US5863113A (en) * | 1993-06-22 | 1999-01-26 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Plane light source unit |
CA2099067C (en) * | 1993-06-23 | 2001-02-13 | Makoto Oe | Plane light source unit |
US5396350A (en) * | 1993-11-05 | 1995-03-07 | Alliedsignal Inc. | Backlighting apparatus employing an array of microprisms |
GB2286057A (en) * | 1994-01-21 | 1995-08-02 | Sharp Kk | Electrically controllable grating |
JPH07248494A (ja) * | 1994-03-14 | 1995-09-26 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
US5629784A (en) | 1994-04-12 | 1997-05-13 | Ois Optical Imaging Systems, Inc. | Liquid crystal display with holographic diffuser and prism sheet on viewer side |
US5565151A (en) | 1994-09-28 | 1996-10-15 | Reflexite Corporation | Retroreflective prism structure with windows formed thereon |
US5780140A (en) * | 1996-09-23 | 1998-07-14 | Reflexite Corporation | Retroreflective microprismatic material with top face curvature and method of making same |
WO1996010761A1 (en) * | 1994-10-04 | 1996-04-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Self-contained lighted marking device |
JPH08137375A (ja) * | 1994-11-02 | 1996-05-31 | Toppan Printing Co Ltd | レリーフ画像形成材及びレリーフ画像形成法 |
US5579134A (en) * | 1994-11-30 | 1996-11-26 | Honeywell Inc. | Prismatic refracting optical array for liquid flat panel crystal display backlight |
US5855983A (en) * | 1995-02-03 | 1999-01-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flame retardant ultraviolet cured multi-layered film |
US5635278A (en) * | 1995-02-03 | 1997-06-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Scratch resistant optical films and method for producing same |
WO1996027757A1 (en) * | 1995-03-03 | 1996-09-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Light directing film having variable height structured surface and light directing article constructed therefrom |
JP3548812B2 (ja) * | 1995-08-11 | 2004-07-28 | オムロン株式会社 | 面光源装置、当該装置に用いる面状光学素子及び当該装置を用いた画像表示装置 |
JP3607759B2 (ja) * | 1995-09-08 | 2005-01-05 | 五洋紙工株式会社 | プリズムシート |
GB9518802D0 (en) | 1995-09-14 | 1995-11-15 | Scapa Group Plc | Tobacco conveyor belt |
JP3129444B2 (ja) * | 1995-10-12 | 2001-01-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 導光体、面状光源装置及び液晶表示装置 |
US5616069A (en) * | 1995-12-19 | 1997-04-01 | Micron Technology, Inc. | Directional spray pad scrubber |
US5917664A (en) * | 1996-02-05 | 1999-06-29 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film with soft cutoff |
US5838403A (en) * | 1996-02-14 | 1998-11-17 | Physical Optics Corporation | Liquid crystal display system with internally reflecting waveguide for backlighting and non-Lambertian diffusing |
US5909083A (en) * | 1996-02-16 | 1999-06-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Process for producing plasma display panel |
GB9603575D0 (en) * | 1996-02-20 | 1996-04-17 | Scapa Group Plc | Tobacco conveyor belt |
US5919551A (en) * | 1996-04-12 | 1999-07-06 | 3M Innovative Properties Company | Variable pitch structured optical film |
US5995690A (en) * | 1996-11-21 | 1999-11-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Front light extraction film for light guiding systems and method of manufacture |
DE19708776C1 (de) * | 1997-03-04 | 1998-06-18 | Fraunhofer Ges Forschung | Entspiegelungsschicht sowie Verfahren zur Herstellung derselben |
US5995288A (en) * | 1997-04-22 | 1999-11-30 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Optical sheet optical sheet lamination light source device, and light-transmissive type display apparatus |
US5932626A (en) * | 1997-05-09 | 1999-08-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Optical product prepared from high index of refraction brominated monomers |
US6280063B1 (en) * | 1997-05-09 | 2001-08-28 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement article |
US5946991A (en) * | 1997-09-03 | 1999-09-07 | 3M Innovative Properties Company | Method for knurling a workpiece |
JP4347521B2 (ja) * | 1998-02-18 | 2009-10-21 | スリーエム カンパニー | 光学フィルム |
JPH11305011A (ja) * | 1998-04-22 | 1999-11-05 | Dainippon Printing Co Ltd | レンズフィルム及び面光源装置 |
JP2000164016A (ja) * | 1998-09-24 | 2000-06-16 | Sharp Corp | 面光源装置 |
JP2000210963A (ja) * | 1999-01-26 | 2000-08-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | エネルギ―線照射型連続成形装置および繊維強化プラスチック板状成形体 |
US6322236B1 (en) * | 1999-02-09 | 2001-11-27 | 3M Innovative Properties Company | Optical film with defect-reducing surface and method for making same |
US6827456B2 (en) * | 1999-02-23 | 2004-12-07 | Solid State Opto Limited | Transreflectors, transreflector systems and displays and methods of making transreflectors |
US6277471B1 (en) * | 1999-06-18 | 2001-08-21 | Shih Chieh Tang | Brightness enhancement film |
US6356391B1 (en) * | 1999-10-08 | 2002-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Optical film with variable angle prisms |
US6845212B2 (en) * | 1999-10-08 | 2005-01-18 | 3M Innovative Properties Company | Optical element having programmed optical structures |
US6356389B1 (en) * | 1999-11-12 | 2002-03-12 | Reflexite Corporation | Subwavelength optical microstructure light collimating films |
US6570710B1 (en) * | 1999-11-12 | 2003-05-27 | Reflexite Corporation | Subwavelength optical microstructure light collimating films |
TWI247772B (en) * | 2000-02-10 | 2006-01-21 | Teijin Ltd | Polyester film composite, light-diffuser plate and utilization thereof |
AU2001284844A1 (en) | 2000-08-18 | 2002-03-04 | Reflexite Corporation | Differentially cured materials and process for forming same |
US6673425B1 (en) * | 2000-10-27 | 2004-01-06 | 3M Innovative Properties Company | Method and materials for preventing warping in optical films |
JP4954376B2 (ja) * | 2001-01-15 | 2012-06-13 | パナソニック株式会社 | 液体噴射装置 |
US6576887B2 (en) * | 2001-08-15 | 2003-06-10 | 3M Innovative Properties Company | Light guide for use with backlit display |
-
2001
- 2001-08-10 AU AU2001284844A patent/AU2001284844A1/en not_active Abandoned
- 2001-08-10 WO PCT/US2001/025241 patent/WO2002016106A2/en active IP Right Grant
- 2001-08-10 JP JP2002521010A patent/JP2004506547A/ja not_active Withdrawn
- 2001-08-10 DE DE60117573T patent/DE60117573T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-10 US US09/928,247 patent/US7250122B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-10 EP EP01963933A patent/EP1309437B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-10 CN CNB018145361A patent/CN100389017C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-10 KR KR1020037002376A patent/KR100798172B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-08-14 TW TW090119893A patent/TWI294821B/zh not_active IP Right Cessation
-
2007
- 2007-07-26 US US11/881,270 patent/US7517205B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7250122B2 (en) | 2007-07-31 |
CN100389017C (zh) | 2008-05-21 |
KR100798172B1 (ko) | 2008-01-24 |
TWI294821B (en) | 2008-03-21 |
WO2002016106A2 (en) | 2002-02-28 |
KR20030027042A (ko) | 2003-04-03 |
US7517205B2 (en) | 2009-04-14 |
US20070292549A1 (en) | 2007-12-20 |
DE60117573D1 (de) | 2006-04-27 |
US20020051866A1 (en) | 2002-05-02 |
AU2001284844A1 (en) | 2002-03-04 |
CN1447740A (zh) | 2003-10-08 |
JP2004506547A (ja) | 2004-03-04 |
EP1309437B1 (de) | 2006-03-01 |
EP1309437A2 (de) | 2003-05-14 |
WO2002016106A3 (en) | 2002-05-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60117573T2 (de) | Verschiedenartig gehärtete materialen und verfahren zur deren herstellung | |
EP0655032B1 (de) | Anti-kopier-film oder -schicht für dokumente | |
US7230764B2 (en) | Differentially-cured materials and process for forming same | |
DE69629779T2 (de) | Lentikularfolie, Rückprojektionsbildwand oder -fernseher mit einer derartigen Folie | |
EP1979768B1 (de) | Mehrschichtkörper mit mikrolinsen-anordnung | |
EP1171319B1 (de) | Dekorationsfolie | |
EP0741370B2 (de) | Verfahren zum Aufbringen eines Sicherheitselementes auf ein Substrat | |
EP0670786B1 (de) | Anti-kopier-film oder -schicht | |
US20040190102A1 (en) | Differentially-cured materials and process for forming same | |
EP1878584B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Mehrschichtkörpers mit Mikrooptik | |
EP0537439B1 (de) | Sicherheitselement | |
EP0983135B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen eines films oder einer schicht mit beidseitiger oberflächenstruktur | |
EP1599345B1 (de) | Sicherheitselement mit einer gitterstruktur | |
EP3126153B1 (de) | Sicherheitselement mit einem linsenrasterbild | |
EP1611466B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von zwei überlagernden Mikrostrukturen | |
EP3423288B1 (de) | Prägeplatte, herstellungsverfahren und geprägtes sicherheitselement | |
DE112020007176T5 (de) | Lichtquellenmodul und Herstellungsverfahren dafür sowie Anzeigemodul | |
DE3610260A1 (de) | Lichtabschirmplatte und verfahren zu deren herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R082 | Change of representative |
Ref document number: 1309437 Country of ref document: EP Representative=s name: PFENNING MEINIG & PARTNER GBR, 10719 BERLIN, DE |