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Diese
Erfindung bezieht sich allgemein auf mit Spannung versehene Metallfilme,
und insbesondere auf mittels Fotolithographie gemusterte Mikrofeder-Strukturen,
gebildet aus mit Spannung versehenen Metallfilmen.
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Fotolithografisch
gemusterte Federstrukturen (manchmal bezeichnet als „Mikrofedern") sind entwickelt
worden, um, zum Beispiel, kostengünstige Fühlerplatinen (probe cards)
herzustellen und um elektrische Verbindungen zwischen integrierten Schaltungen
zu bilden. Eine typische Mikrofeder umfasst einen Federmetallfinger,
der einen Ankerbereich besitzt, der an einem Substrat befestigt
ist, und einen freien (frei aufgehängten) Bereich, der sich von dem
verankerten Bereich über
das Substrat erstreckt. Der Federmetallfinger ist aus einem mit Spannung
versehenen Metallfilm gebildet, (d.h. einem Metallfilm, der so hergestellt
ist, dass seine unteren Bereiche eine höhere, innere Druckspannung als
seine oberen Bereiche besitzen), der zumindest teilweise aus einer
Löse- bzw.
Freigabematerial-Schicht gebildet ist. Der freie Bereich des Federmetallfingers
biegt sich von dem Substrat weg, wenn das Freigabematerial, angeordnet
unter dem freien Bereich, weggeätzt
wird. Der innere Spannungsgradient wird in dem Federmetall durch
Schichten unterschiedlicher Metalle erzeugt, die die erwünschten Spannungscharakteristika
haben, oder unter Verwendung eines Einzelmetalls durch Verändern der Herstellungsparameter.
Solche Federmetallstrukturen können
in Messfühlerplatinen
(probe cards) zum elektrischen Verbinden integrierter Schaltungen durch
Schaltungsleiterplatten und Elektrodenfelder, und zum Herstellen
anderer Vorrichtungen, wie beispielsweise Induktoren, variabler
Kondensatoren und betätigter
Spiegel, verwendet werden. Zum Beispiel wird die Spitze des freien
Bereichs, wenn sie in einer Anordnung einer Fühlerplatine verwendet wird,
in Kontakt mit einem Kontaktfeld, gebildet auf einer integrierten
Schaltung, gebracht, und Signale werden zwischen der integrierten
Schaltung und dem Testgerät über die
Sondenplatine geführt
(d.h. unter Verwendung der Federmetallstruktur als ein Leiter).
Andere Beispiele dieser Federstrukturen sind in der US-A-3,842,189
offenbart. Ein Beispiel einer Federstruktur, die einen frei aufgehängten Bereich
besitzt, der sich nicht von dem Substrat unter einer Freigabe weg
biegt, ist in der WO00/33089 offenbart.
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Die
vorliegenden Erfinder haben beobachtet, dass herkömmliche
Federstrukturen Kontaktwiderstände
entwickeln, die entgegengesetzt zu Signalübertragungen sind, wenn Federstrukturen
als Leiter verwendet werden. Das Federmetall (z.B. Mo, MoCr, NiZr)
wird typischerweise wegen dessen Fähigkeit ausgewählt, große innere
Spannungen aufzunehmen. Diese Materialien oxidieren typischerweise
in Luft, ein Phänomen,
das deren Fähigkeit
entgegenstehen kann, einen elektrischen Kontakt, zum Beispiel mit
der Kontaktfläche
einer integrierten Schaltung, vorzunehmen, wenn sie in einer Fühlerplatine verwendet
wird. Die Federmetallmaterialien können auch die Kontaktfläche, die
typischerweise Aluminium ist, durchscheuern. Wenn einmal das gescheuerte
Aluminium oxidiert, steigt der Kontaktwiderstand zwischen der Kontaktfläche und
der Federmetallstruktur an. Eine vorgeschlagene Maßnahme,
um einen Kontaktwiderstand zu verringern, ist diejenige, das Federmetall
vor einem Ätzen
und einer Freigabe zu passivieren. Allerdings tendiert das passivierende Material
dazu, einer Biegung des Federmetallfingers nach einer Freigabe zu
widerstehen, und liefert nur eine minimale Abdeckung entlang der
vorderen Kante an der Spitze, um dadurch einen direkten Kontakt mit
dem Federmetall zu ermöglichen,
was zu einem erhöhten
Kontaktwiderstand führt.
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Dasjenige,
was benötigt
wird, ist eine Federmetallstruktur, die einem erhöhten Kontaktwiderstand
durch Vermeiden einer Oxidation des Federmetalls und/oder einem
Durchscheuern einer Kontaktfläche,
gegen die die Federmetallstruktur gedrückt wird, widersteht.
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Die
US 5613861 und die WO01/48870
offenbaren Verfahren zum Herstellen von Federstrukturen, mit denen
eine leitfähige
Beschichtung auf den Federmetallfinger nach seiner Freigabe von
dem Substrat aufgebracht wird.
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Die
vorliegende Erfindung ist auf effiziente Verfahren zum Herstellen
von Mikrofeder-Strukturen gerichtet,
in denen eine leitfähige
Beschichtung auf der Spitze des freien (d.h. frei tragenden) Bereichs des
Federmetallfingers unter Verwendung eines direktionalen Niederschlagsvorgangs
nach Freigabe von einem unterlegenen Substrat niedergeschlagen wird.
Durch Richten des Federbeschichtungsniederschlags auf die Federmetallfingerspitze
nach einer Freigabe (d.h. nachdem dem Finger ermöglicht wird, sich nach oben
von dem Substrat aufgrund einer inneren Spannung zu biegen), wird
die leitfähige
Beschichtung zuverlässig
auf der vorderen Kante und der oberen Fläche der Federmetallfingerspitze
gebildet, ohne den Biegevorgang zu beeinträchtigen, wodurch eine kostengünstige Federstruktur
mit einem verringerten Kontaktwiderstand hergestellt wird, wenn
mit nicht beschichteten Federstrukturen, oder mit Federstrukturen,
die vor einer Freigabe beschichtet sind, verglichen wird.
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Gemäß dem offenbarten
Verfahren wird eine leitfähige
Freigabeschicht auf einem Substrat niedergeschlagen, und dann wird
ein mit Spannung versehener (Feder) Metallfilm auf der Freigabematerial-Schicht
gebildet. Eine erste Maske wird dann verwendet, um eine langgestreckte
Federmetallinsel von dem Metallfilm zu ätzen, allerdings wird das Ätzen gestoppt,
bevor die Freigabeschicht vollständig entfernt
ist, um ein Hinterschneiden zu verhindern, das eine vorzeitige Freigabe
der Federmetallinsel verursachen kann. Eine Freigabe-(zweite)-Maske wird
dann niedergeschlagen, die ein Freigabefenster definiert, das einen
Bereich der Federmetallinsel und die Freigabematerial-Schicht, die
diesen freigelegten Bereich umgibt, freilegt. Gemäß einem
Aspekt des offenbarten Verfahrens ist das Freigabefenster mit einem Überhang
gebildet, der dabei hilft, ein Überlappen
des Beschichtungsmaterials zu verhindern, um dadurch ein Abheben
der restlichen Beschichtung, gebildet auf der Freigabemaske, zu
erleichtern. Ein darauf folgendes Entfernen des Freigabematerials, das
durch die Freigabemaske freigelegt ist, bewirkt, dass sich der freigelegte
Bereich der Federmetallinsel von dem Substrat weg aufgrund seiner
inneren Spannung biegt, um dadurch der freie Bereich eines Federmetallfingers
zu werden (ein verankerter Bereich des Federmetallfingers verbleibt
durch die Freigabemaske abgedeckt). Die Freigabemaske wird dann
als eine Maske während
des Niederschlagens der leitfähigen
Beschichtung (z.B. ein Feuerfest-Edelmetall, wie beispielsweise
Rhodium (Rh), Iridium (Ir), Rhenium (Re), Platin (Pt) und Palladium (Pd))
auf der Spitze und anderen freigelegten Bereichen des Federmetallfingers
verwendet. Die überhängende Freigabemaskenstruktur
verhindert ein Überlappen
des Beschichtungsmaterials, um ein Abheben der restlichen Beschichtungsbereiche
während
des darauffolgenden Entfernens der Freigabemaske zu erleichtern.
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In
einer anderen Ausführungsform
ist die Freigabemaske, die auch während des Niederschlagvorgangs
verwendet wird, mit einem Kanal versehen, der sich über den
verankerten (d.h. nicht freigegeben) Bereich des Federmetallfingers
erstreckt, um dadurch die Bildung der leitfähigen Beschichtungsbereiche
auf dem Verankerungsbereich des Federmetallfingers zu erleichtern,
um die Leitfähigkeit
zu verbessern.
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Die
vorliegende Erfindung ist durch den beigefügten Anspruch 1 definiert.
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Besondere
Ausführungsformen
gemäß dieser
Erfindung werden nun unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen
beschrieben, in denen:
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1 zeigt
eine Draufsicht, die eine Federstruktur gemäß einer ersten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung darstellt;
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2 zeigt
eine Querschnittsseitenansicht der Federstruktur, vorgenommen entlang
einer Schnittlinie 2-2 der 1, und der
Federstruktur, die eine separate, integrierte Schaltung kontaktiert;
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3 zeigt
eine aufgeschnittene, perspektivische Ansicht der Federstruktur,
dargestellt in 1;
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4(A) bis 4(J) zeigen
Querschnittsseitenansichten, die Herstellungsschritte darstellen, die
der Herstellung der Federstruktur, gezeigt in 1,
zugeordnet sind;
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5(A) und 5(B) zeigen
Draufsichten, die die Federstruktur der 1 während ausgewählter Herstellungsschritte
darstellen;
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6 zeigt
eine aufgeschnittene, perspektivische Ansicht, die eine Federstruktur
gemäß einer zweiten
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung darstellt; und
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7 zeigt
eine Draufsicht, die eine Freigabemaske darstellt, die für die Herstellung
der Federstruktur, dargestellt in 6, verwendet
wird.
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Die 1, 2 und 3 stellen
eine Federstruktur 100 gemäß einer ersten Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung dar. 1 zeigt
eine Draufsicht der Federstruktur 100, 2 zeigt
eine Querschnittsseitenansicht, vorgenommen entlang einer Schnittlinie
2-2 der 1, und 3 zeigt
eine perspektivische Ansicht mit einem aufgeschnittenen Abschnitt,
der durch eine Schnittlinie 3-3 in 1 angegeben
ist.
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Die
Federstruktur 100 umfasst allgemein ein Substrat 101,
einen Freigabematerialbereich 110 und einen Federmetallfinger 120.
Das Substrat 101 (z.B. Glas) umfasst einen optionalen Leiter 105,
der mehrere Formen annehmen kann (d.h. eine Metallspur, niedergeschlagen
auf dem Substrat, wie dies dargestellt ist, oder einen eingelassenen
Leiter, auf den über
eine Öffnung
in einer Passivierungsschicht (nicht dargestellt) zugegriffen werden
kann. Der Leiter 105 kann, wenn er vorhanden ist, eine
elektrische Verbindung zwischen elektronischen Bauteilen einer integrierten
Schaltung und einer Federstruktur 100 bilden.
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Alternativ
kann, wenn das Substrat 101 eine gedruckte Schaltungsleiterplatte,
eine gedruckte Verdichtungsleiterplatte, eine Siliziumvorrichtung
oder ein Zwischenfügungsteil
ist, dann der Leiter 105 ein freigelegter Bereich aus leitendem
Material sein, der elektrisch mit Umverteilungsbahnen, über Substratkontaktlöcher, Lötmittelerhebungen,
Lötmittelkugeln, befestigten,
elektrischen Bauteilen, integrierten, passiven Bauteilen, oder Verbindungsflächen, verbunden
ist. Der Freigabematerialbereich 110 ist auf einer oberen
Fläche
des Substrats 101 so gebildet, dass er den Leiter 105 (falls
vorhanden) kontaktiert. Der Federmetallfinger 120 umfasst
einen Verankerungsbereich 122 und einen freien (d.h. frei
aufgehängten) Bereich 125.
Der Verankerungsbereich 122 ist an dem Freigabematerialbereich 110 befestigt
(d.h. so, dass der Freigabematerialbereich 110 zwischen
dem Verankerungsbereich 122 und dem Substrat 101 angeordnet
ist). Der freie Bereich 125, der eine Spitze 125-T umfasst,
erstreckt sich von dem Verankerungsbereich 122 über das
Substrat 101 und umfasst eine obere (erste) Oberfläche 126 und
eine gegenüberliegende
untere (zweite) Oberfläche 127,
die eine Dicke T1 in dem Bereich von 0,1 und 10 Mikron (siehe 2)
definiert. Es ist anzumerken, dass sich die Kanten 128 des
freien Bereichs 125 zwischen der oberen Fläche 126 und
der unteren Fläche 127 erstrecken.
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Ähnlich zu
den Federstrukturen nach dem Stand der Technik ist der Federmetallfinger 120 von einem
mit Spannung versehenen Metallfilm geätzt, der durch ein DC-Magnetronsputtern
von einem oder mehreren Metall(en) unter Verwendung von Gas-(z.B.
Argon)-Druckvariationen in der Sputterumgebung während eines Filmwachstums entsprechend
zu bekannten Techniken gebildet ist. Durch ein sorgfältiges Auswählen der
Metalle und/oder der Verarbeitungsparameter können gesputterte Metallfilme verwendet
werden, um eng gekrümmte
Federmetallfinger, oder sehr steife Federmetallfinger, allerdings nicht
beide gleichzeitig, zu bilden, da eine Zunahme der Filmdicke (die
notwendig ist, um die Steifigkeit zu erhöhen) auch den Radius des sich
ergebenden Federmetallfingers erhöht. Weiterhin kann die innere Spannung
des mit Spannung versehenen Metallfilms nicht wahlweise aufgrund
der Materialbeschränkungen
erhöht
werden.
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Gemäß einem
Aspekt der vorliegenden Erfindung wird eine elektrisch leitfähige Beschichtung 130 gebildet,
um einen Kontaktwiderstand zwischen dem Federmetallfinger 120 und
der Kontaktstruktur zu minimieren (z.B. eine Kontaktfläche 152,
gebildet auf einer separaten, integrierten Schaltung 150,
wie dies in 2 dargestellt ist). In einer
Ausführungsform
umfasst die leitfähige
Beschichtung 130 ein oder mehrere Feuerfest- Edelmetalle (z.B.
Rhodium (Rh), Iridium (Ir), Rhenium (Re), Platin (Pt) und Palladium
(Pd)), die eine Dicke T2 in dem Bereich von 0,1 und 3 Mikron haben
(siehe 2). Um einen Kontaktwiderstand zu minimieren,
wird eine leitfähige
Beschichtung 130 auf einem freien Bereich 125 des
Federmetallfingers 120 niedergeschlagen, nachdem der freie
Bereich 125 freigegeben ist (d.h. nachdem das Freigabematerial,
angeordnet unter dem freien Bereich 125, entfernt ist,
um dadurch eine innere Spannung zu ermöglichen, um den freien Bereich 125 von
dem Substrat 101 weg zu biegen). Da die leitfähige Beschichtung 130 gebildet
wird, nachdem der freie Bereich 125 freigegeben ist, wird
die leitfähige
Beschichtung 130 auf der oberen Fläche 126 und Kanten 128 des
freien Bereichs 125, und insbesondere auf der vorderen
Kante 128-T, angeordnet an der Spitze 128, niedergeschlagen.
Dementsprechend berührt,
wie in 2 dargestellt ist, die Federstruktur 100 die
externe Schaltung 150 über
die leitfähige
Beschichtung 130, wodurch ein erhöhter Kontaktwiderstand aufgrund
einer Oxidation des Federmetallfingers 120 oder eines Abriebs
der Kontakte 152 verhindert wird. Mehrere, zusätzliche
Vorteile, die durch die leitfähige
Beschichtung 130 erzielt werden, werden in den nachfolgenden
Absätzen
beschrieben.
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Als
erstes ermöglicht
ein Bilden einer leitfähigen
Beschichtung 130 nach einer Freigabe, dass die Federstruktur 100 relativ
dick wird (und deshalb steif), wodurch die Federkraftkonstante der
Federstruktur 100 unter niedrigeren Kosten als nicht beschichtete
Federstrukturen oder Federstrukturen, die eine leitfähige Beschichtung,
gebildet nur auf einer Seite haben, erhöht wird. Wie in 2 gezeigt
ist, erhöht
der Niederschlagsvorgang die gesamte Dicke des freien Bereichs 125 mit
der Dicke T2 der leitfähigen
Beschichtung 130. Wie nachfolgend beschrieben ist, wird
die leitfähige
Beschichtung 130 unter sehr geringen Kosten gebildet, da
der Basis-Zwei-Masken-Prozess, der zum Herstellen von nicht beschichteten
Federstrukturen verwendet wird, nicht missachtet wird (d.h. keine
zusätzlichen
Masken werden verwendet, um den Beschichtungsniederschlagsvorgang
durchzuführen).
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Als
zweites ermöglicht
das Bilden der leitfähigen
Beschichtung 130 nach einer Freigabe, dass die Federstruktur 100 sowohl
eng gekrümmt
als auch relativ dick (und deshalb steif) unter niedrigeren Kosten
als nicht beschichtete Federstrukturen, oder Federstrukturen, die
eine leitfähige
Beschichtung nur auf einer Seite gebildet haben, ist. Wie in 2 gezeigt
ist, und vorstehend diskutiert ist, wird die Krümmung R des freien Bereichs 125 teilweise
durch die Dicke T1 des mit Spannung versehenen Metallfilms, von
dem er geätzt ist,
bestimmt. Um eine eng gekrümmte
Federstruktur zu erzeugen, ist ein relativ dünner Metallfilm erforderlich.
Gemäß der vorliegenden
Erfindung kann die Federstruktur 100 sowohl eng gekrümmt als
auch relativ dick durch Bilden eines Federmetallfingers 120 aus
einem dünnen
mit Spannung versehenen Metallfilm, und dann Bilden einer relativ
dicken, leitfähigen
Beschichtung 130, gebildet werden.
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Als
drittes passiviert die leitfähige
Beschichtung 130 den Federmetallfinger 120, was
wichtig ist, da die meisten federnden Metalle, wie beispielsweise ein
mit Spannung versehener Metallfilm, Oberflächenoxide bilden. Eine leitfähige Beschichtung 130 erhöht auch
eine Abnutzungsbeständigkeit
und Schmierfähigkeit
und widersteht dadurch dem Abrieb einer zugeordneten Kontaktstruktur
(z.B. Kontaktfläche 152,
die in 2 dargestellt ist). Die leitfähige Beschichtung 130 kann
auch einen Kompressionsanschlag schaffen, um eine Federkompression
zu begrenzen. Weiterhin kann die leitfähige Beschichtung dazu beitragen,
die Federstruktur 100 durch Hinzufügen einer Duktilität zu verfestigen.
Schließlich kann
die leitfähige
Beschichtung 130 hinzugefügt werden, um die Radii von
Prozessmerkmalen und Defekten, die auf dem Federmetallfinger 120 entstehen
können,
abzustumpfen. Die vorstehend erwähnten
Vorteile sind nicht dazu vorgesehen, dass sie erschöpfend sind.
Es ist anzumerken, dass ein optionaler Leiter 105 vorhanden
sein kann, um eine elektrische Verbindung der Federstruktur 100 mit
einem externen elektrischen System vorzunehmen (nicht dargestellt).
Es ist auch anzumerken, dass die elektrische Verbindung zwischen
dem Federmetallfinger 120 und dem Leiter 105 die
Verwendung eines elektrisch leitenden Freigabematerials erfordert,
um einen Freigabematerialbereich 110 zu bilden. Allerdings
kann die elektrische Verbindung auch direkt mit dem Federmetallfinger 120 durch
andere Strukturen geschaffen werden (z.B. Drahtverbindung, oder
Vormustern der Freigabeschicht), um dadurch die Verwendung von nicht
leitendem Freigabematerialien zu ermöglichen. Weiterhin können die
Kosten-zu-Dicke-(Steifigkeits)-Charakteristika,
die vorstehend diskutiert sind, auch vorteilhaft in Anwendungen
genutzt werden, in denen ein Metallfinger 120 nicht dazu
verwendet wird, elektrische Signale zu leiten.
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Die 4(A) bis 4(J) und
die 5(A) und 5(B) stellen
ein Verfahren zum Herstellen einer Federstruktur 100 (beschrieben
vorstehend) dar.
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Wie 4(A) zeigt, beginnt das Herstellungsverfahren
mit der Bildung einer leitenden Freigabematerial-Schicht 210 über einem
Glas-(Silizium)-Substrat 101. In einer Ausführungsform
ist die Freigabematerial-Schicht 210 aus einem elektrisch leitenden
Material gebildet und ein Bereich 210A der Freigabematerial-Schicht 210 berührt einen
Leiter 105, der auf der oberen Fläche des Substrats 101 freigelegt
ist. In einer Ausführungsform
ist die Freigabematerial-Schicht 210 Titan (Ti), das mittels
Sputtern auf dem Substrat 101 bis zu einer Dicke von 0,2 Mikron
oder größer niedergeschlagen
wird. Titan liefert die erwünschte
Charakteristika als leitfähige
Freigabematerial-Schicht aufgrund seiner Plastizität (d.h. sein
Widerstand gegen Reißen)
und seiner starken Adhäsion.
Andere Freigabematerialien, die die vorteilhaften, plastischen Charakteristika
von Titan haben, können
auch verwendet werden. In anderen Ausführungsformen umfasst die Freigabematerial-Schicht 210 ein
anderes Metall, wie beispielsweise Kupfer (Cu), Aluminium (Al),
Nickel (Ni), Zirkon (Zr) oder Kobalt (Co). Die Freigabematerial-Schicht 210 kann
auch unter Verwendung von stark dotiertem Silizium (Si) gebildet
werden. Weiterhin können
zwei oder mehrere Freigabematerial-Schichten aufeinanderfolgend
niedergeschlagen werden, um eine Mehrschichtstruktur zu bilden.
In einer noch anderen möglichen
Ausführungsform
kann irgendeine der vorstehend erwähnten Freigabematerial-Schichten
zwischen zwei Nicht-Freigabematerial-Schichten (d.h. Materialien,
die nicht während
des Federmetalllösevorgangs,
was nachfolgend beschrieben ist, freigegeben werden) zwischengefügt sein.
Alternativ kann, wenn es nicht notwendig ist, eine elektrische Leitung zwischen
der darauf folgenden niedergeschlagenen Edelmetallschicht und der
Kontaktfläche
(wie beispielsweise Leiter 105) vorzusehen, die Freigabematerial-Schicht 210 ein
nicht leitendes Material, wie beispielsweise Siliziumnitrid (SiN),
sein.
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4(B) stellt einen mit Spannung versehenen Metallfilm 220,
gebildet auf der Freigabematerial-Schicht 110, unter Verwendung
von bekannten Verarbeitungstechniken, dar, so dass sie innere Spannungsvariationen
in der Wachstumsrichtung umfasst. Zum Beispiel wird, in einer Ausführungsform,
ein mit Spannung versehender Metallfilm 220 so gebildet,
dass seine untersten Bereiche (d.h. benachbart zu der Freigabematerial-Schicht 210)
eine höhere,
innere Druckspannung an seinen oberen Bereichen besitzt, wodurch
erreicht wird, dass der mit Spannung versehende Metallfilm 220 innere
Spannungsvariationen besitzt, die bewirken, dass sich ein Federmetallfinger
nach oben weg von dem Substrat 101 biegt (diskutiert nachfolgend).
Verfahren zum Erzeugen solcher inneren Spannungsvariationen in einem
mit Spannung versehenen Metallfilm 220 werden, zum Beispiel,
in der US-A-3,842,189 (Niederschlagen von zwei Metallen, die unterschiedliche innere
Spannungen haben) und der US-A-5,613,861 (z.B. einzelnes Metall,
das gesputtert wird, während Prozessparameter
variiert werden) gelehrt. In einer Ausführungsform, die eine Ti-Freigabematerial-Schicht
mit 0,2 Mikron verwendet, umfasst der mit Spannung versehene Metallfilm 220 Sputtermaterial aus
Molybdän
und Chrom (MoCr), niedergeschlagen bis zu einer Dicke von 1 Mikron.
In anderen Ausführungsformen
kann eine Mo-Federmetallschicht
auf SiN-Freigabematerial-Schichten gebildet werden.
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Es
ist anzumerken, dass dann, wenn das leitfähige Freigabematerial verwendet
wird, der mit Spannung versehene Metallfilm 220 von dem
Leiter 105 durch einen Bereich 210a der Freigabematerial-Schicht 210 getrennt
wird. Dementsprechend ist ein gesonderter Maskierungsschritt, der
in herkömmlichen
Herstellungsverfahren verwendet wird, um eine Öffnung in dem Freigabematerial
zu bilden, nicht erforderlich, wodurch Herstellungskosten verringert werden.
Anstelle davon verwendet, wie nachfolgend diskutiert ist, die vorliegende
Ausführungsform
die Leitfähigkeit
der Freigabematerial-Schicht 210, um eine elektrische Verbindung
zwischen dem Leiter 105 und dem mit Spannung versehenden
Metallfilm 220 zu erzielen.
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Wie
die 4(C) und 5(A) zeigen,
werden die Federmetall-(ersten)-Masken 230 (z.B. Photoresist)
dann über
einen ausgewählten
Bereich des mit Spannung versehenden Metallfilms 220 gemustert.
Es ist anzumerken, dass sich jede Federmetallmaske 230 über einen
zugeordneten Leiter 105 (falls vorhanden) erstreckt, wie
dies in 5(A) dargestellt ist.
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Als
Nächstes
werden, wie in 4(D) gezeigt ist, freigelegte
Bereiche des mit Spannung versehenen Metallfilms 220, der
die Federmetallmaske 230 umgibt, unter Verwendung von einem
oder mehreren Ätzmittel(n) 240 geätzt, um
eine Federmetallinsel 220-1 zu
bilden. Es ist anzumerken, dass dieser Ätzvorgang so durchgeführt wird,
dass ein begrenztes Ätzen
in Bereichen 210B der Freigabeschicht 210 durchgeführt wird,
die die Federmetallinsel 220-1 so umgibt, dass mindestens
eine Teildicke der Freigabematerial-Schicht 210B auf dem Substrat 101 nach diesem Ätzschritt
verbleibt. In einer Ausführungsform kann
der Ätzschritt
unter Verwendung, zum Beispiel, eines Nassätzvorgangs durchgeführt werden,
um freigelegte Bereiche des mit Spannung ausgestatteten Metallfilms 220 zu
entfernen. Diese Ausführungsform
wurde erfolgreich unter Verwendung einer Cerammoniumnitrat-Lösung durchgeführt, um
eine MoCr-Federmetallschicht zu entfernen. In einer anderen Ausführungsform
wird ein anisotropes Trockenätzen verwendet,
um so wohl den mit Spannung versehenen Metallfilm 220 als
auch die obere Oberfläche
des Freigabeschichtbereichs 210B zu ätzen. Diese Ausführungsform
kann, zum Beispiel, mit einem Mo-Federmetall und Si- oder Ti-Freigabeschichten
durchgeführt
werden. Mo, Si und Ti ätzen
alle in reaktiven Fluorplasmen. Ein Vorteil eines Trockenätzens des Federmetallfilms
ist derjenige, dass er feinere Merkmale und schärfere, mit Spitze versehene
Federmetallfinger erleichtert. Materialien, die nicht in reaktiven Plasmen ätzen, können noch
anisotrop durch physikalische Ionenätzverfahren geätzt werden,
wie beispielsweise Argon-Ionen-Schleifen.
In einer noch anderen möglichen
Ausführungsform
kann der Ätzschritt
unter Verwendung des elektrochemischen Ätzvorgangs, der in IBM J. Res.
Dev. Vol. 42, No. 5, Seite 655 (5. September 1998) beschrieben ist, durchgeführt werden.
Viele zusätzliche
Prozessvariationen und Materialsubstitutionen sind deshalb möglich und
die Beispiele, die angegeben sind, sind nicht einschränkend.
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4(E) stellt eine Federmetallinsel 220-1 und
Freigabematerial 210 dar, nachdem die Federmetallmaske 230 (4(D)) entfernt ist. Es ist wiederum anzumerken,
dass eine elektrische Verbindung zwischen dem Leiter 105 und
der Federmetallinsel 220-1 durch
einen Bereich 210A einer Freigabematerial-Schicht 210 vorgesehen
ist.
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Wie 4(F) zeigt, wird die Freigabe-(zweite)-Maske 250 (z.B.
Photoresist) dann auf einem ersten Bereich 220-1A der Federmetallinsel 220-1 gebildet.
Die Freigabemaske 250 definiert ein Freigabefenster RW,
das einen zweiten Bereich 220-1B der Federmetallinsel 220-1 und
umgebender Bereiche 210B der Freigabematerial-Schicht 210 freilegt.
In einer Ausführungsform
ist die Freigabemaske 250 absichtlich mit einer negativ
schräg
verlaufenden Seitenwand ausgebildet (z.B. unter Verwendung eines negativen
Resist oder Bildumkehrtechniken), um das Abheben der leitfähigen Beschichtung,
die darauf niedergeschlagen ist, zu erleichtern, wie nachfolgend diskutiert
ist.
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Anhand
der 5(B) ist festzustellen, dass die
Freigabemaske 250 so gebildet ist, dass jede Federmetallinsel 230(1) bis 230(3),
gebildet auf dem Substrat 101, über ein separates Freigabefenster RW1
bis RW3, jeweils, freigelegt ist. Die separaten Freigabefenster
sind für
jede Federstruktur vorgesehen, da das Freigabefenster auch das Muster
der darauffolgend niedergeschlagenen, leitfähigen Beschichtung definieren
wird. Das bedeutet, dass dann, wenn zwei oder mehr Federstrukturen über dasselbe Fenster
freigelegt werden, dann die leitfähige Beschichtung auf dem Substrat 101 niedergeschlagen werden
würde,
das die zwei Federstrukturen separiert, die eine zusätzliche Ätzmaske
erfordern würden,
um die restliche Beschichtung zu entfernen. Dementsprechend wird,
durch Vorsehen separater Freigabefenster für jede Federstruktur, die gesamte Anzahl
erforderlicher Masken minimiert. Es ist allerdings anzumerken, dass
separate Freigabefenster zu einer größeren Beabstandung zwischen
Federstrukturen führt,
um die Bildung der Freigabemaskenwand, die die Freigabefenster separiert,
zu erleichtern. Das bedeutet, dass ein Vorsehen eines Raums für diese
Freigabemaskenwände
im Prinzip mit sich bringt, dass die Federstrukturen weiter voneinander
entfernt sein müssen.
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5(B) zeigt auch eine optionale Unterteilungslinie
DL, die sich entlang der Resistmaskenwände, angeordnet zwischen der
Federmetallinsel 230(3) und einer angrenzenden Gruppe von
Federstrukturen (nicht dargestellt), erstreckt. Typischerweise ist
das Substrat 101 zwischen der Bildung des Freigabefenster 250 und
der Abhebung der Federn (diskutiert nachfolgend) unterteilt. Gemäß der vorliegenden
Erfindung wird ein chargenweises Verarbeiten von Federstrukturen
dadurch erleichtert, dass die gesamte Maskierung vor einem Unterteilen
vorgenommen wird (d.h. da keine Masken erforderlich sind, um die
leitfähige
Beschichtung niederzuschlagen und/oder zu ätzen), um dadurch eine wesentliche
Verringerung der gesamten Herstellungskosten im Vergleich zu Herstellungsprozessen
zu ermöglichen,
in denen, zum Beispiel, die abgehobenen und beschichteten Federmetallfinger
in ein Maskierungsmaterial eingetaucht werden.
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Wie 4(G) zeigt, wird ein Freigabeätzmittel 260 (z.B.
ein gepuffertes Oxidätzen)
dann verwendet, um selektiv einen Bereich der Freigabematerial-Schicht
von unterhalb des freigelegten Bereichs der Federmetallinsel zu
entfernen, um einen Federmetallfinger 120 (diskutiert vorstehend
unter Bezugnahme auf die 1–3) zu entfernen.
Genauer gesagt bewirkt ein Entfernen des freigelegten Freigabematerials,
dass sich der freie Bereich 125 von dem Substrat 101 weg
aufgrund der inneren Spannungsvariationen, eingerichtet während der
Bildung des Federmetallfilms (auch diskutiert vorstehend), biegt. Es
ist anzumerken, dass der Verankerungsbereich 122 an dem
Substrat 101 durch einen Freigabematerialbereich 110 befestigt
verbleibt, der durch die Freigabemaske 250 geschützt ist.
Es ist auch anzumerken, dass dann, wenn der Freigabematerialbereich 110 aus
einem leitfähigen
Freigabematerial gebildet ist, die sich ergebende Federstruktur
elektrisch mit dem Leiter 105 verbunden ist.
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4(H) zeigt einen optionalen Schritt für ein in-situ-Schleifen
oder Rücksputtern 270,
der die Metallflächen
des freien Bereichs 125 für eine optimale Haftung der
darauffol gend aufgebrachten Beschichtung, unter Verwendung von bekannten
Techniken, präpariert.
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4(I) stellt das Niederschlagen einer leitfähigen Beschichtung 130 auf
einem freien Bereich 125 nach einer Freigabe dar. Gemäß einem
Aspekt der vorliegenden Erfindung wird dieser Niederschlagsschritt
unter Verwendung einer direktionalen Niederschlagsquelle durchgeführt (z.B.
unter Verwendung eines Materialflusses in Sichtlinie von einer kleinen
Flächenquelle,
wie beispielsweise Elektronenstrahlverdampfung oder Sputterniederschlag,
unter Verwendung eines Materialkollimators). Es ist anzumerken,
dass unter Durchführung
des Niederschlagens einer leitfähigen
Beschichtung 130, nachdem der freie Bereich 125 abgehoben
ist, die obere Fläche 126 und
die vordere Kante 128-T, angeordnet an der Spitze 125-T des
freien Bereichs 125, zu dem Niederschlag hinweisen, um
eine gleichförmige
Beschichtung zu erleichtern. Weiterhin wird, da der richtungsmäßige Niederschlag
die Bildung der leitfähigen
Beschichtung 130 auf der vorderen Kante 128-T des freien
Bereichs 125 erleichtert, nachdem er abgehoben ist, eine
bessere Abdeckung der Spitze 125-T als dann erreicht, wenn
der Niederschlag vor einer Freigabe durchgeführt wird. Weiterhin bringt
ein Niederschlag einer leitfähigen
Beschichtung 130, bevor der Freigabevorgang läuft, das
Risiko mit sich, dass die niedergeschlagene Beschichtung die Freigabeschicht überlegen
wird und den Fluss eines Freigabeätzmittels 160 unter
den freien Bereich 125 (siehe 4(G) als
Referenz) der Federstruktur verhindert oder beeinträchtigt.
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4(I) stellt den Niederschlag von restlichen Beschichtungsbereichen 130-R1 auf
der Freigabemaske 250 und den Niederschlag der restlichen Beschichtungsbereiche 130-R2 auf
Bereichen des Substrats 101, die über das Freigabefenster freigelegt
sind (d.h. benachbart zu dem freigegebenen freien Bereich), dar.
Unter Bezugnahme wiederum auf 3 ist anzumerken,
dass die restlichen Beschichtungsbereiche 130-R2, die nicht
durch das darauffolgende Entfernen der Freigabemaske 250 entfernt sind,
nicht auf den Bereichen 101-S des Substrats 101,
die durch den Federmetallfinger 125 abgeschattet sind,
niedergeschlagen werden. Es ist anzumerken, dass die mit negativer
Schräge
versehene Seitenwand der Freigabemaske 250 eine freigelegte Kante 250-E zwischen
dem Beschichtungsbereich 130 und dem restlichen Beschichtungsbereich 130-R1 erzeugt,
der einen Zugang eines Lösungsmittels
während
eines Freigabemaskenätzens
(diskutiert nachfolgend) ermöglicht,
um ein Abheben des restlichen Beschichtungsbereichs 130-R1 zu
erleichtern.
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Schließlich stellt 4(J) eine Federstruktur 100 während des
Entfernens der Freigabemaske 250 und der restlichen Beschichtungsbereiche 130-R1 (siehe 4(I)) dar. Anhand von 4(I) ist
festzustellen, dass die mit negativer Schräge versehene Seitenwand der
Freigabemaske 250 eine freigelegte Kante 250-E zwischen
dem Beschichtungsbereich 130 und dem restlichen Beschichtungsbereich 130-R1 erzeugt.
Wie wiederum 4(J) zeigt, ermöglicht diese
freigelegte Kante einen Zugang eines Lösungsmittels 170,
das die Freigabemaske unter Verwendung von bekannten Techniken auflöst. Zum Beispiel
kann, wenn die Freigabemaske ein Bildumkehr-Photoresist ist, Azeton
als Lösungsmittel 270 verwendet
werden. Wenn die Freigabemaske aufgelöst ist, werden die restlichen
Beschichtungsbereiche, die darauf gebildet sind, abgehoben. Falls
notwendig, kann eine Agitation verwendet werden, um den Abhebungsvorgang
zu beschleunigen. Da diese restlichen Beschichtungsbereiche während einer Maskenentfernung
abgehoben werden, ist kein Erfordernis vorhanden, ein selektives Ätzen für das Beschichtungsmaterial
zu identifizieren, das typischerweise schwierig chemisch zu ätzen ist.
Es ist allerdings anzumerken, dass die restlichen Beschichtungsbereiche 130-R2 auf
dem Substrat 101 (siehe 3) verbleiben.
Allerdings verbleiben, da jede Federstruktur 100 in einem
separaten Freigabefenster (wie dies in 5(B) dargestellt
ist) gebildet ist, diese restlichen Beschichtungsbereiche von benachbarten, leitfähigen Strukturen
isoliert.
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6 stellte
eine Federstruktur 300 gemäß einer Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung dar. Ähnlich
zu der Federstruktur 100 (diskutiert vorstehend) umfasst
die Federstruktur 300 einen Freigabeschichtbereich 110,
der auf einem Leiter 105 gebildet ist, einen Federmetallfinger 120,
der auf dem Freigabeschichtbereich gebildet ist, und eine leitfähige Beschichtung 330,
die auf dem Federmetallfinger 120 gebildet ist. Allerdings
unterscheidet sich die Federstruktur 300 von der Federstruktur 100 dahingehend,
dass die leitfähige
Beschichtung 330 auf sowohl dem freien Bereich 125 als
auch dem verankerten Bereich 122 des Federmetallfingers 120 gebildet ist
(siehe 3, wo die leitfähige Beschichtung 130 nur
den freien Bereich 125 abdeckt). Genauer gesagt ist die
leitfähige
Beschichtung 330 auf einer oberen Oberfläche eines
verankerten Bereichs 122 gebildet. Wie vorstehend erwähnt ist,
ist es ausreichend bekannt, dass elastisch federnde Metalle, wie
beispielsweise MoCr, einen relativ hohen Widerstand im Vergleich
zu vielen Formen einer leitfähigen
Beschichtung zeigen, wie beispielsweise Ni, Au und Cu. Dementsprechend
werden, durch Verlängern
der leitfähigen
Beschichtung 330 über
den verankerten Bereich 122, Ströme, die zwischen dem freien
Bereich 125 und dem Leiter 105 hindurchführen, einem
geringeren Widerstand als in der Federstruktur 100, aufgrund
des Vorhandenseins der leitfähigen
Beschichtung 330 auf dem Verankerungsbereich 122,
unterworfen.
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7 zeigt
eine Draufsicht, die eine Freigabemaske 450, verwendet
bei der Herstellung einer Federstruktur 300 (6),
darstellt. Die Freigabemaske 450 ist ähnlich zu der Freigabemaske 250 (dargestellt
in 5(B)), mit der Ausnahme, dass das
Freigabefenster, definiert durch die Freigabemaske 450,
einen Teil des verankerten Bereichs jeder Federmetallinsel 220(1) bis 220(3) freilegt.
Zum Beispiel umfasst, in Bezug auf die Federmetallinsel 220(1),
das Freigabefenster 450 einen Kanal 455, der sich über den
verankerten Bereich 222 erstreckt. Es ist anzumerken, dass
der Kanal 455 die äußere Kante 229 des
Verankerungsbereichs 222 mit einer Überlappungsbreite OL von 1
bis 10 Mikron überlappt,
um ein unbeabsichtigtes Lösen
des Verankerungsbereichs 222 zu verhindern. Wie wiederum 6 zeigt,
erzeugt diese Überlappung
eine Stufenstrukturschulter 325, die sich entlang der Kante
des Verankerungsbereichs 122, nach einer Freigabe, einem
Niederschlagen und einem Entfernen der Freigabemaske erstreckt.