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Patente

VeröffentlichungsnummerUSD606195 S1
PublikationstypErteilung
Anmeldenummer29/309,566
Veröffentlichungsdatum15. Dez. 2009
Eingetragen4. Sept. 2008
Prioritätsdatum
4. Sept. 2008
Erfinder
Ursprünglich Bevollmächtigter
US-Klassifikation
Referenzen
Externe Links
Interspinous implant
US D606195 S1
Zeichnungen(6)
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Ansprüche
  1. The ornamental design for an interspinous implant, as shown and described.

Beschreibung

FIG. 1 is a front perspective view of an interspinous implant showing our new design;

FIG. 2 is a right side elevation thereof;

FIG. 3 is a left side elevation thereof;

FIG. 4 is a rear elevation thereof;

FIG. 5 is a front elevation thereof;

FIG. 6 is a top plan view thereof;

FIG. 7 is a bottom plan view thereof; and,

FIG. 8 is a front perspective view of a modified embodiment of the design shown in FIGS. 1 through 7.

The broken lines in the drawings represent environmental structure and form no part of the claimed design.

Referenziert von
Zitiert von PatentEingetragen Veröffentlichungsdatum Antragsteller Titel
US2012006568313. Sept. 201015. März 2012Kuo Fan-ChingInterspinous process distraction device