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Patente

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VeröffentlichungsnummerUSD606195 S1
PublikationstypErteilung
AnmeldenummerUS 29/309,566
Veröffentlichungsdatum15. Dez. 2009
Eingetragen4. Sept. 2008
Prioritätsdatum4. Sept. 2008
Veröffentlichungsnummer29309566, 309566, US D606195 S1, US D606195S1, US-S1-D606195, USD606195 S1, USD606195S1
ErfinderGuntmar H. Eisen, Ralf Riesinger, Frank T. Trautwein
Ursprünglich BevollmächtigterParadigm Spine, Llc
Zitat exportierenBiBTeX, EndNote, RefMan
Externe Links: USPTO, USPTO-Zuordnung, Espacenet
Interspinous implant
US D606195 S1
Zusammenfassung  auf verfügbar
Bilder(6)
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Ansprüche(1)
  1. The ornamental design for an interspinous implant, as shown and described.
Beschreibung

FIG. 1 is a front perspective view of an interspinous implant showing our new design;

FIG. 2 is a right side elevation thereof;

FIG. 3 is a left side elevation thereof;

FIG. 4 is a rear elevation thereof;

FIG. 5 is a front elevation thereof;

FIG. 6 is a top plan view thereof;

FIG. 7 is a bottom plan view thereof; and,

FIG. 8 is a front perspective view of a modified embodiment of the design shown in FIGS. 1 through 7.

The broken lines in the drawings represent environmental structure and form no part of the claimed design.

Referenziert von
Zitiert von PatentEingetragen Veröffentlichungsdatum Antragsteller Titel
US20120065683 *13. Sept. 201015. März 2012Fan-Ching KuoInterspinous process distraction device
US20120323276 *18. Juni 201220. Dez. 2012Bryan OkamotoExpandable interspinous device
US20130158604 *6. Febr. 201320. Juni 2013Bryan OkamotoExpandable Interspinous Device
Klassifizierungen
US-KlassifikationD24/155