DE102005000809B4 - Integrated semiconductor memory with non-volatile storage of data - Google Patents

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Abstract

Integrierter Halbleiterspeicher mit nichtflüchtiger Speicherung von Daten, – mit einem ersten Speicherzellenfeld (SF1) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ) und nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ), – mit einem zweiten Speicherzellenfeld (SF2) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ), – mit einer Steuerschaltung (20) zur Steuerung eines Lese- und eines Schreibzugriffs auf eine der flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen (SZ, WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) und auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2), – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie während eines Zugriffs auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) einen Schreibzugriff auf die mindestens eine der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes zur Speicherung mindestens eines Datums, das mindestens einen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Betriebsparameter kennzeichnet, in mindestens einer der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes durchführt.Integrated semiconductor memory with non-volatile storage of data, - with a first memory cell array (SF1) with volatile memory cells (SZ) and non-volatile memory cells (WZ), - with a second memory cell array (SF2) with volatile memory cells (SZ), - with a control circuit (20 ) for controlling read and write access to one of the volatile and non-volatile memory cells (SZ, WZ) of the first memory cell array (SF1) and to one of the volatile memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2), - in which the control circuit (20 ) is designed in such a way that during an access to one of the volatile memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2) it allows write access to the at least one of the non-volatile memory cells of the first memory cell array for storing at least one data item, the at least one data item during operation of the integrated semiconductor memory identified operating parameters, in mi At least one of the non-volatile memory cells (WZ) of the first memory cell array is carried out.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen integrierten Halbleiterspeicher, bei dem Daten auf nichtflüchtige Weise speicherbar sind.The present invention relates to an integrated semiconductor memory in which data can be stored nonvolatilely.

Bei integrierten Halbleiterspeichern, wie beispielsweise DRAM (dynamic random access memory)-Halbleiterspeichern, ist die Ausfallrate in den ersten Betriebsstunden relativ hoch. Um fehlerhafte Bauteile nach der Herstellung aussortieren zu können, werden die integrierten Halbleiterspeicher nach Abschluss des Herstellungsprozesses für wenige Betriebsstunden gestresst. Innerhalb dieser kurzen Betriebszeit lässt sich bereits ein Großteil von fehlerhaften Bausteinen aussortieren. Es zeigt sich weiter, dass im statistischen Mittel erst nach langer Betriebszeit, wie beispielsweise mehreren Jahren, die Ausfallrate wieder ansteigt. Um solche Langzeitausfälle analysieren zu können, wäre es wünschenswert, wenn während des Betriebes eines Halbleiterspeichers Betriebsparameter, wie beispielsweise die Betriebsdauer oder die Anzahl bestimmter Ereignisse, wie beispielsweise Speicherzugriffe auf einen bestimmten Speicherbereich dauerhaft und permanent erfasst werden könnten. Die Offenlegungsschrift DE 100 35 598 A1 zeigt einen solchen Datenspeicher mit Zugriffszähler.In semiconductor integrated memories, such as dynamic random access memory (DRAM) semiconductor memories, the failure rate in the first few hours of operation is relatively high. In order to be able to sort out defective components after production, the integrated semiconductor memories are stressed for a few hours of operation after completion of the manufacturing process. Within this short operating time, a large part of faulty components can be sorted out. It also shows that, statistically, the failure rate only increases again after a long period of operation, such as several years. In order to be able to analyze such long-term failures, it would be desirable if, during the operation of a semiconductor memory, operating parameters, such as the operating time or the number of specific events, such as memory accesses to a specific memory area, could be recorded permanently and permanently. The publication DE 100 35 598 A1 shows such a data store with access counter.

Bei einem Halbleiterspeicher mit flüchtigen Speicherzellen, wie beispielsweise DRAM(dynamic random access memory)-Speicherzellen, muss der Speicherinhalt spätestens nach Ablauf einer Datenerhaltungszeit von neuem aufgefrischt werden. Im Gegensatz zu nichtflüchtigen Halbleiterspeichern, wie beispielsweise Flash, FeRAM (ferroelectric random access memory) oder MRAM(magnetic random access memory)-Halbleiterspeichern besteht somit bei DRAM-Halbleiterspeichern das Problem, dass produktions- und testrelevante Langzeitinformationen wie Testergebnisse, Sort-Kriterien, produktionsrelevante Daten, aber auch darüber hinaus Betriebsparameter, die während des Betriebs des integrierten Halbleiterspeichers auftreten, nicht irreversibel und dauerhaft gespeichert werden können.In a semiconductor memory with volatile memory cells, such as dynamic random access memory (DRAM) memory cells, the memory contents must be refreshed at the latest after expiration of a data retention time. In contrast to nonvolatile semiconductor memories, such as flash, ferroelectric random access memory (FERAM) or MRAM (magnetic random access memory) semiconductor memories, there is the problem with DRAM semiconductor memories that long-term production and test-relevant information such as test results, sort criteria, production-relevant Data, but also beyond operating parameters that occur during operation of the integrated semiconductor memory, can not be stored irreversibly and permanently.

Um permanent Daten in einem DRAM-Halbleiterspeicher zu speichern, werden daher elektrische Fuses (E-Fuses) oder Laser-Fuses eingesetzt. Laser-Fuses können nur während der Herstellung des integrierten Halbleiterspeichers programmiert werden. Über E-Fuses lassen sich auch im gehäusten Zustand eines DRAM-Speichers Daten permanent speichern, indem die E-Fuses durch Anlegen einer Programmierspannung programmiert werden. Ein kleines Feld von E-Fuses ist im Allgemeinen noch leicht auswertbar. Wenn jedoch größere Mengen an Daten permanent gespeichert werden sollen, muss eine Fuse-Array-Struktur vorgesehen werden. Innerhalb der Fuse-Array-Struktur sind die E-Fuses, wie die flüchtigen DRAM-Zellen im Speicherzellenfeld, im Allgemeinen matrixförmig entlang von Spalten- und Zeilenleitungen angeordnet. Zum Auslesen des Programmierzustands der einzelnen E-Fuses wird eine Zeilen-/Spalten-Dekoder-Architektur benötigt. Aufgrund des großen Platzbedarfs für derartige Schaltungen werden große E-Fuse-Speicherbereiche im Allgemeinen nicht in Halbleiterspeicher mit flüchtigen Speicherzellen integriert.In order to permanently store data in a DRAM semiconductor memory, electrical fuses (e-fuses) or laser fuses are therefore used. Laser fuses can only be programmed during the manufacture of the integrated semiconductor memory. Via e-fuses, data can also be stored permanently in the packaged state of a DRAM memory by programming the e-fuses by applying a programming voltage. A small field of e-fuses is generally still easy to evaluate. However, if larger amounts of data are to be stored permanently, a fuse array structure must be provided. Within the fuse array structure, the E-fuses, like the volatile DRAM cells in the memory cell array, are generally arranged in matrix form along column and row lines. To read the programming state of the individual e-fuses, a row / column decoder architecture is required. Due to the large space requirement for such circuits, large e-fuse memory areas are generally not integrated in semiconductor memory with volatile memory cells.

Des Weiteren weisen E-Fuses den Nachteil auf, dass sie nur einmal programmiert werden können. Somit können Änderungen von Daten, wie sie beispielsweise bei den Betriebsparametern im Laufe der Betriebszeit auftreten, nicht in den gleichen E-Fuses verändert abgespeichert werden.Furthermore, e-fuses have the disadvantage that they can only be programmed once. Thus, changes in data, such as occur in the operating parameters during the operating time, can not be stored changed in the same e-fuses.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen integrierten Halbleiterspeicher anzugeben, bei dem es ermöglicht ist, Herstellungs- und Betriebsdaten über einen längeren Zeitraum zuverlässig zu speichern, wobei möglichst wenige zusätzliche Schaltungskomponenten zur Speicherung der Herstellungs- und Betriebsdaten erforderlich sind. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren anzugeben, mit dem sich bei einem integrierten Halbleiterspeicher Herstellungs- und Betriebsdaten über einen längeren Zeitraum zuverlässig speichern lassen, wobei möglichst wenige zusätzliche Schaltungskomponenten zur Speicherung der Herstellungs- und Betriebsdaten erforderlich sind.The object of the present invention is to specify an integrated semiconductor memory in which it is possible to reliably store production and operating data over a relatively long period of time, with as few additional circuit components as possible being required for storing the production and operating data. A further object of the present invention is to specify a method with which, in the case of an integrated semiconductor memory, manufacturing and operating data can be stored reliably over a relatively long period of time, with as few additional circuit components as possible for storing the production and operating data.

Die Aufgabe betreffend den integrierten Halbleiterspeicher wird gelöst durch einen integrierten Halbleiterspeicher mit einem ersten Speicherzellenfeld mit flüchtigen Speicherzellen und mit nichtflüchtigen Speicherzellen, mit einem zweiten Speicherzellenfeld mit flüchtigen Speicherzellen und mit einer Steuerschaltung zur Steuerung eines Zugriffs auf eine der Speicherzellen des ersten und zweiten Speicherzellenfeldes. Erfindungsgemäß ist die Steuerschaltung derart ausgebildet, dass sie bei einem Zugriff auf eine der flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes einen Schreibzugriff auf mindestens eine der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes durchführt zur Speicherung eines des im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datums in der mindestens einen der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes.The object concerning the integrated semiconductor memory is achieved by an integrated semiconductor memory having a first memory cell array with volatile memory cells and non-volatile memory cells, with a second memory cell array with volatile memory cells and with a control circuit for controlling access to one of the memory cells of the first and second memory cell array. According to the invention, the control circuit is designed in such a way that when accessing one of the volatile memory cells of the second memory cell array, it writes to at least one of the nonvolatile memory cells of the first memory cell array to store one of the datum determined in the current operation of the integrated semiconductor memory in the at least one of the nonvolatile ones Memory cells of the first memory cell array.

Durch Verwendung eines Speicherzellenfeldes mit flüchtigen als auch mit nichtflüchtigen Speicherzellen lassen sich die gleichen Ansteuerschaltungen, wie Zeilendekoder, Spaltendekoder und Leseverstärker verwenden, die auch zum Einschreiben von Informationen in die flüchtigen Speicherzellen und zum Auslesen von Informationen aus den flüchtigen Speicherzellen dienen. Dadurch ist der Platzbedarf deutlich reduziert, da zusätzlicher Speicherplatz nur für die nichtflüchtigen Speicherzellen vorzusehen ist. Bei dem im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Datum kann es sich beispielsweise um einen Betriebsparameter handeln, der im Rahmen eines Testbetriebs des integrierten Halbleiterspeichers aufgetreten ist. Dies kann beispielsweise eine Losnummer oder der Name eines Testprogramms sein. Es kann sich dabei aber auch um einen Betriebsparameter handeln, der einen Betriebszustand des Halbleiterspeichers angibt. Dazu gehört beispielsweise die Anzahl an Zugriffen auf einen bestimmten Speicherbereich oder die im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers aufgetretene Betriebstemperatur.By using a memory cell array with both volatile and nonvolatile memory cells, the same drive circuits as row decoders, column decoders, and sense amplifiers can be used, which also serve to write information to the volatile memory cells and to read information from the volatile memory cells. As a result, the space requirement is significantly reduced, as additional storage space is to be provided only for the non-volatile memory cells. The date determined in the current operation of the integrated semiconductor memory may be, for example, an operating parameter which has occurred during a test operation of the integrated semiconductor memory. This can be, for example, a lot number or the name of a test program. However, it may also be an operating parameter that indicates an operating state of the semiconductor memory. This includes, for example, the number of accesses to a specific memory area or the operating temperature that has occurred during operation of the integrated semiconductor memory.

Gemäß einer Weiterbildung des integrierten Halbleiterspeichers sind die flüchtigen Speicherzellen des ersten und zweiten Speicherzellenfeldes jeweils derart ausgebildet, dass nach einer Abspeicherung eines Speicherzustandes in einer der flüchtigen Speicherzellen zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzustandes der Speicherzustand spätestens nach Ablauf einer Datenerhaltungszeit aufgefrischt werden muss. Die Steuerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzustandes in einer der Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes den in der einen der Speicherzellen abgespeicherten Speicherzustand auffrischt und dabei das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum in der einen der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes abspeichert.According to one development of the integrated semiconductor memory, the volatile memory cells of the first and second memory cell arrays are each designed such that, after a memory state has been stored in one of the volatile memory cells to preserve the stored memory state, the memory state must be refreshed at the latest after the expiration of a data retention period. The control circuit is designed such that, in order to maintain the stored memory state in one of the memory cells of the second memory cell array, it refreshes the memory state stored in one of the memory cells and thereby stores the datum determined in the current operation of the integrated semiconductor memory in one of the nonvolatile memory cells of the first memory cell array ,

Bei einer anderen Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers sind im ersten und zweiten Speicherzellenfeld Leseverstärker vorgesehen, die jeweils an ein Bitleitungspaar mit einer ersten und einer zweiten Bitleitung angeschlossen sind. Die flüchtigen Speicherzellen und die nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes sind jeweils an ein Bitleitungspaar angeschlossen. Die flüchtigen Speicherzellen und die nichtflüchtigen Speicherzellen sind jeweils derart ausgebildet, dass sie beim Auslesen eine Potentialdifferenz zwischen der ersten und der zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares (BLP) an das sie jeweilig angeschlossen sind, erzeugen. Die Leseverstärker sind jeweils derart ausgebildet, dass sie beim Auslesen einer der flüchtigen Speicherzellen und einer der nichtflüchtigen Speicherzellen jeweils die Potentialdifferenz zwischen der ersten und zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares, an das sie jeweilig angeschlossen sind, auswerten und in Abhängigkeit von der ausgewerteten Potentialdifferenz ein Datum mit einem ersten oder zweiten Pegel erzeugen.In another embodiment of the integrated semiconductor memory, sense amplifiers are provided in the first and second memory cell arrays, each being connected to a bit line pair having a first and a second bit line. The volatile memory cells and the nonvolatile memory cells of the first memory cell array are each connected to a bit line pair. The volatile memory cells and the nonvolatile memory cells are each designed such that, when read out, they generate a potential difference between the first and the second bit line of the bit line pair (BLP) to which they are respectively connected. The sense amplifiers are each designed in such a way that when reading one of the volatile memory cells and one of the nonvolatile memory cells, they respectively evaluate the potential difference between the first and second bit lines of the bit line pair to which they are respectively connected and have a datum depending on the evaluated potential difference generate a first or second level.

Gemäß einer Weiterbildung des integrierten Halbleiterspeichers sind die nichtflüchtigen Speicherzellen für einen Lese- und Schreibzugriff über Adressen auswählbar. Die Steuerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie bei einem erstmaligen Aktivieren des integrierten Halbleiterspeichers eine Adressposition der zuletzt beschriebenen nichtflüchtigen Speicherzelle ermittelt und das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum an der auf die zuletzt beschriebene Adressposition folgenden nächst höheren Adressposition abspeichert.According to one development of the integrated semiconductor memory, the nonvolatile memory cells can be selected for read and write access via addresses. The control circuit is designed such that it determines an address position of the last-described nonvolatile memory cell upon initial activation of the integrated semiconductor memory and stores the data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory at the next higher address position following the address position last described.

Bei einer Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers sind die nichtflüchtigen Speicherzellen jeweils als einmalig irreversibel programmierbare Bauelemente ausgebildet. Die nichtflüchtigen Speicherzellen können auch jeweils als eine elektrisch programmierbare Fuse oder Antifuse ausgebildet sein. Gemäß einer anderen Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers umfassen die nichtflüchtigen Speicherzellen mindestens einen steuerbaren Widerstand. Die flüchtigen Speicherzellen sind vorzugsweise jeweils als Speicherzellen mit wahlfreiem Zugriff ausgebildet.In one embodiment of the integrated semiconductor memory, the nonvolatile memory cells are each designed as once irreversibly programmable components. The nonvolatile memory cells can also be designed in each case as an electrically programmable fuse or antifuse. According to another embodiment of the integrated semiconductor memory, the nonvolatile memory cells comprise at least one controllable resistor. The volatile memory cells are preferably designed in each case as random access memory cells.

Ein Verfahren zum Aufzeichnen von Herstellungs- und Betriebsdaten eines integrierten Halbleiterspeichers sieht die Verwendung eines integrierten Halbleiterspeichers mit einem ersten Speicherzellenfeld mit nichtflüchtigen Speicherzellen und flüchtigen Speicherzellen und einem zweiten Speicherzellenfeld mit flüchtigen Speicherzellen vor, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen erste nichtflüchtige Speicherzellen und zweite nichtflüchtige Speicherzellen umfassen, wobei in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen eine Information zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen abgespeichert ist. Nach dem Hochfahren des integrierten Halbleiterspeichers werden die Speicherzustände der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen ausgewertet, um eine Information zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen zu erhalten. Anschließend wird eine Adressposition einer zuletzt beschriebenen zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle im ersten Speicherzellenfeld ermittelt. Danach wird eine auf die Adressposition der zuletzt beschriebene zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle folgenden nächst höhere Adresspostion ermittelt. Das im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum wird in einer zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle des ersten Speicherzellenfeldes, die über die ausgewählte nächst höhere Adresspositon adressierbar ist, in einer Konfiguration in Abhängigkeit von dem ausgewerteten Speicherzustand der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen gespeichert, wenn eine der flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes aufgefrischt wird.A method for recording manufacturing and operating data of an integrated semiconductor memory envisages the use of an integrated semiconductor memory having a first memory cell array with nonvolatile memory cells and volatile memory cells and a second memory cell array with volatile memory cells, wherein the nonvolatile memory cells comprise first nonvolatile memory cells and second nonvolatile memory cells , wherein in the first non-volatile memory cells information for the configuration of the second non-volatile memory cells is stored. After starting up the integrated semiconductor memory, the memory states of the first nonvolatile memory cells are evaluated to obtain information for configuring the second nonvolatile memory cells. Subsequently, an address position of a last-described second nonvolatile memory cell in the first memory cell array is determined. Thereafter, a next higher address position following the address position of the second non-volatile memory cell described last is determined. The data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory is stored in a second nonvolatile memory cell of the first memory cell array addressable via the selected next higher address position in a configuration in dependence on the evaluated memory state of the first nonvolatile memory cells, if one of the volatile memory cells of the second memory cell array is refreshed.

Gemäß einer Weiterbildung des Verfahrens zum Aufzeichnen von Betriebsdaten eines integrierten Halbleiterspeichers wird das gespeicherte im aktuellen Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Datum durch Setzen eines Bits in einem Register des integrierten Halbleiterspeichers aus der einen der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen ausgelesen.According to a development of the method for recording operating data of an integrated semiconductor memory, the stored data determined in the current operation of the integrated semiconductor memory is set by setting a bit in a register of the integrated semiconductor memory one of the second non-volatile memory cells read out.

Eine andere Ausführungsform des Verfahrens zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers sieht vor, den integrierten Halbleiterspeicher in einem Testbetriebszustand zu betreiben. Im Testbetriebszustand wird eine jede der ersten und zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen durch Anlegen eines Steuersignals an den integrierten Halbleiterspeicher ausgelesen.Another embodiment of the method for operating an integrated semiconductor memory provides for operating the integrated semiconductor memory in a test operating state. In the test mode, each of the first and second nonvolatile memory cells is read out by applying a control signal to the integrated semiconductor memory.

Weitere Ausbildungsformen betreffend den integrierten Halbleiterspeicher zur Aufzeichnung von Betriebsdaten sowie das Verfahren zur Aufzeichnung von Betriebsdaten sind den Unteransprüchen zu entnehmen.Further embodiments of the integrated semiconductor memory for recording operating data and the method for recording operating data can be found in the dependent claims.

Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Figuren, die Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung zeigen, näher erläutert. Es zeigen:The invention will be explained in more detail below with reference to figures showing exemplary embodiments of the present invention. Show it:

1 einen integrierten Halbleiterspeicher zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 1 an integrated semiconductor memory for storing operating data according to the invention,

2 einen Halbleiterspeicherchip mit Speicherbänken zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 2 a semiconductor memory chip with memory banks for storing operating data according to the invention,

3 eine Speicherbank eines integrierten Halbleiterspeichers zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 3 a memory bank of an integrated semiconductor memory for storing operating data according to the invention,

4 einen Ausschnitt eines Speicherzellenfeldes einer Speicherbank mit flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen gemäß der Erfindung, 4 a section of a memory cell array of a memory bank with volatile and nonvolatile memory cells according to the invention,

5A eine Adressorganisation einer Speicherbank gemäß der Erfindung, 5A an address organization of a memory bank according to the invention,

5B eine Adressorganisation eines Speicherbereichs mit nichtflüchtigen Speicherzellen gemäß der Erfindung, 5B an address organization of a memory area with nonvolatile memory cells according to the invention,

5C erste nichtflüchtige Speicherzellen gemäß der Erfindung zur Speicherung von Konfigurationsdaten, 5C first nonvolatile memory cells according to the invention for storing configuration data,

6 eine binäre Adresssuche in einem Speicherzellenfeld mit nichtflüchtigen Speicherzellen zum Auffinden einer Startadresse zur Speicherung von Betriebsdaten gemäß der Erfindung, 6 a binary address search in a memory cell array with nonvolatile memory cells for finding a start address for storing operating data according to the invention,

7 ein Ablaufdiagramm zur Speicherung von Betriebsdaten in nichtflüchtigen Speicherzellen gemäß der Erfindung. 7 a flowchart for storing operating data in nonvolatile memory cells according to the invention.

1 zeigt einen integrierten Halbleiterspeicher 100 mit einem Speicherzellenfeld 10. Innerhalb des Speicherzellenfeldes 10 sind flüchtige und nichtflüchtige Speicherzellen in einem ersten Speicherzellenfeld SF1 und flüchtige Speicherzellen in einem zweiten Speicherzellenfeld SF2 angeordnet. Als Beispiel für eine flüchtige Speicherzelle ist im zweiten Speicherzellenfeld SF2 eine DRAM-Speicherzelle SZ dargestellt, die zwischen einer Wortleitung WL und einer Bitleitung BL angeordnet ist. Die DRAM-Speicherzelle umfasst einen Auswahltransistor AT und einen Speicherkondensator SC. Bei einem Schreib- oder Lesezugriff wird die Speicherzelle aktiviert, indem durch ein entsprechendes Signal auf der Wortleitung WL der Auswahltransistor AT leitend gesteuert wird, so dass der Speicherkondensator SC niederohmig mit der Bitleitung BL verbunden ist. 1 shows an integrated semiconductor memory 100 with a memory cell array 10 , Within the memory cell array 10 volatile and non-volatile memory cells are arranged in a first memory cell array SF1 and volatile memory cells in a second memory cell array SF2. As an example of a volatile memory cell, a DRAM memory cell SZ is shown in the second memory cell array SF2, which is arranged between a word line WL and a bit line BL. The DRAM memory cell includes a selection transistor AT and a storage capacitor SC. In the case of a read or write access, the memory cell is activated by the selection transistor AT being conductively controlled by a corresponding signal on the word line WL, so that the storage capacitor SC is connected to the bit line BL in a low-resistance manner.

Zur Steuerung von Lese-, Schreib- und Vorladevorgängen innerhalb des Speicherzellenfeldes 10 ist eine Steuerschaltung 20 vorgesehen. Zur Steuerung von Lese- und Schreibzugriffen werden an einen Steueranschluss S20 Steuersignale angelegt. Zur Auswahl einer der Speicherzellen des ersten oder zweiten Speicherzellenfeldes wird an einen Adressanschluss A30 ein Adresssignal ADS angelegt. Die angelegte Adresse weist einen x- und einen y-Adressteil auf. Der Adressteil X wird einem Zeilendekoder 70 und der Adressteil Y wird einem Spaltendekoder 80 zugeführt. Anhand der x- und y-Adresse des Adresssignals ADS lässt sich eine Speicherzelle SZ für einen Lese- oder Schreibzugriff auswählen. Zum Einschreiben einer Information wird an einen Datenanschluss DQ einen Datum D angelegt. Beim Auslesen wird an dem Datenanschluss DQ ein Datum D erzeugt.For controlling read, write and precharge processes within the memory cell array 10 is a control circuit 20 intended. For controlling read and write accesses, control signals are applied to a control terminal S20. For selecting one of the memory cells of the first or second memory cell array, an address signal ADS is applied to an address terminal A30. The applied address has an x and a y address part. The address part X becomes a row decoder 70 and the address part Y becomes a column decoder 80 fed. On the basis of the x and y address of the address signal ADS, a memory cell SZ can be selected for a read or write access. For writing information, a data D is applied to a data terminal DQ. When reading a date D is generated at the data terminal DQ.

2 zeigt einen Halbleiterchip HC, der Speicherbänke B1, B2, B3 und B4 umfasst. Innerhalb der Speicherbänke sind, wie in 1 dargestellt, flüchtige und nichtflüchtige Speicherzellen in einem ersten Speicherzellenfeld SF1 und ausschließlich flüchtige Speicherzellen, wie beispielsweise DRAN-Speicherzellen, in einem zweiten Speicherzellenfeld SF2 angeordnet. Die in 1 dargestellten übrigen Schaltungskomponenten, wie beispielsweise die Steuerschaltung 20 oder das Adressregister 30 sind zwischen den Speicherbänken, im so genannten Spine-Bereich SP, des Halbleiterchips angeordnet. 2 shows a semiconductor chip HC comprising memory banks B1, B2, B3 and B4. Inside the memory banks are, as in 1 shown, volatile and non-volatile memory cells in a first memory cell array SF1 and only volatile memory cells, such as DRAN memory cells, arranged in a second memory cell array SF2. In the 1 shown remaining circuit components, such as the control circuit 20 or the address register 30 are arranged between the memory banks, in the so-called spin region SP, of the semiconductor chip.

3 zeigt in vergrößerter Darstellung einen Ausschnitt einer Speicherbank. Am Rand der Speicherbank befindet sich das erste Speicherzellenfeld SF1, das die flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen enthält. Daran anschließend sind zweite Speicherzellenfelder SF2a, SF2b, SF2c und SF2d angeordnet. Die Speicherzellenfelder sind jeweils durch Leseverstärkerstreifen SAS getrennt, in denen sich Leserverstärker zur Verstärkung des Speicherinhalts einer ausgewählten Speicherzelle bzw. zum Verstärken des an dem Datenanschluss DQ anliegenden Datums zum Einschreiben in eine ausgewählte Speicherzelle befinden. 3 shows an enlarged view of a section of a memory bank. At the edge of the memory bank is the first memory cell array SF1, which contains the volatile and nonvolatile memory cells. Subsequently, second memory cell arrays SF2a, SF2b, SF2c and SF2d are arranged. The memory cell arrays are each separated by sense amplifier strips SAS in which sense amplifiers for amplifying the memory contents of a selected memory cell or for amplifying the voltage applied to the data terminal DQ Date to be registered in a selected memory cell.

4 zeigt einen Ausschnitt A der Speicherbank B aus 3. Die Bitleitungen BL sind innerhalb des ersten Speicherzellenfeldes SF1 und des zweiten Speicherzellenfeldes SF2a als Bitleitungstwist ausgebildet. An Kreuzungspunkten von Wortleitungen WL und Bitleitungen BL sind True-Speicherzellen SZT oder Komplement-Speicherzellen SZC angeordnet. Die Bitleitungen sind jeweils paarweise mit einem Leseverstärker SA verbunden. Ein Bitleitungspaar umfasst eine True-Bitleitung BLT und eine Komplement-Bitleitung BLC. Innerhalb des ersten Speicherzellenfeldes SF1 sind zwischen der True-Bitleitung BLT und der Komplement-Bitleitung BLC nichtflüchtige Speicherzellen WZ angeordnet. In dem zweiten Speicherzellenfeld SF2a sind ausschließlich flüchtige Speicherzellen vorhanden. Diese sind ebenfalls entlang von Wortleitung WL und Bitleitungen BLC und BLT angeordnet. Eine True-Bitleitung BLT und eine Komplement-Bitleitung BLC sind auch hier als Bitleitungspaar angeordnet und jeweils mit einem Leseverstärker SA verbunden. Entlang der True-Bitleitung BLT sind True-Speicherzellen SZT und entlang der Komplement-Bitleitung BLC sind Komplement-Speicherzellen SZC angeordnet. 4 shows a section A of the memory bank B from 3 , The bit lines BL are formed within the first memory cell array SF1 and the second memory cell array SF2a as Bitleitungswist. At crossing points of word lines WL and bit lines BL, true memory cells SZT or complement memory cells SZC are arranged. The bit lines are each connected in pairs to a sense amplifier SA. A bit line pair includes a true bit line BLT and a complement bit line BLC. Within the first memory cell array SF1, nonvolatile memory cells WZ are arranged between the true bit line BLT and the complement bit line BLC. In the second memory cell array SF2a only volatile memory cells are present. These are also arranged along word line WL and bit lines BLC and BLT. A true bit line BLT and a complement bit line BLC are also arranged here as a bit line pair and in each case connected to a sense amplifier SA. Along the true bit line BLT are true memory cells SZT and along the complement bit line BLC are complement memory cells SZC arranged.

Zum Einschreiben oder Auslesen einer Information aus den flüchtigen Speicherzellen oder den nichtflüchtigen Speicherzellen sind die Leseverstärker jeweils über einen Datenbus LDQ mit dem externen Datenanschluss DQ verbunden. Die Leseverstärker, die mit den Bitleitungen des ersten Speicherzellenfeldes SF1 verbunden sind, speichern wahlweise eine Information in den flüchtigen Speicherzellen SZ oder den nichtflüchtigen Speicherzellen WZ ab. Den nichtflüchtigen Speicherzellen WZ sind ebenso Zeilen- und Spaltenadressen zugeordnet wie den flüchtigen Speicherzellen. Vorteilhafterweise lassen sich die nichtflüchtigen Speicherzellen ebenso wie die flüchtigen Speicherzellen durch die Zeilen- und Spaltendekoder 70 und 80 auswählen. Die nichtflüchtigen Speicherzellen enthalten beispielsweise einen programmierbaren Widerstand. In Abhängigkeit von dem programmierten Widerstandswert tritt auf den Bitleitungen eines Bitleitungspaares eine Potentialverschiebung auf, die von dem angeschlossenen Leseverstärker bewertet wird. Die nichtflüchtigen Speicherzellen können ebenso auch als MRAM, FeRAM oder SRAM-Speicherzellen ausgebildet sein. Zur Auswahl einer der flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen sowie zum Auslesen und Einschreiben einer Information aus den bzw. in die flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen lassen sich dadurch die gleichen Ansteuerschaltungen verwenden. Somit braucht für die nichtflüchtigen Speicherzellen kein eigenes Speicherzellenfeld mit einer eigenen Ansteuerlogik vorgesehen zu werden.For writing or reading information from the volatile memory cells or the nonvolatile memory cells, the sense amplifiers are each connected to the external data terminal DQ via a data bus LDQ. The sense amplifiers connected to the bit lines of the first memory cell array SF1 selectively store information in the volatile memory cells SZ or the nonvolatile memory cells WZ. The nonvolatile memory cells WZ are also assigned row and column addresses as well as the volatile memory cells. Advantageously, the nonvolatile memory cells as well as the volatile memory cells can be passed through the row and column decoders 70 and 80 choose. The nonvolatile memory cells include, for example, a programmable resistor. Depending on the programmed resistance value, a potential shift occurs on the bit lines of a bit line pair which is evaluated by the connected sense amplifier. The non-volatile memory cells may also be designed as MRAM, FeRAM or SRAM memory cells. For selecting one of the volatile and non-volatile memory cells and for reading and writing information from or into the volatile and non-volatile memory cells, the same drive circuits can be used. Thus, for the non-volatile memory cells no separate memory cell array needs to be provided with its own control logic.

5A zeigt einen logischen Adressraum einer Speicherbank mit x- und y-Adressen X0, ..., X31 und Y0, ..., Y255. Der niederwertige x-Adressbereich umfasst die Adressen X0, ..., X15. Der höherwertige x-Adressbereich umfasst die Adressen X16, ..., X31. Über die Adressen lassen sich Wortleitungen auswählen, die an die flüchtigen Speicherzellen im ersten oder zweiten Speicherzellenfeldes angeschlossen sind. Über die Adressen Xw0, ..., Xw3 lassen sich nichtflüchtige Speicherzellen innerhalb des ersten Speicherzellenfeldes auswählen. 5A shows a logical address space of a memory bank with x and y addresses X0, ..., X31 and Y0, ..., Y255. The low-order x address range includes the addresses X0,..., X15. The higher-order x address range includes the addresses X16,..., X31. Via the addresses can be selected word lines which are connected to the volatile memory cells in the first or second memory cell array. Nonvolatile memory cells within the first memory cell array can be selected via the addresses X w 0,..., X w 3.

Die Aufteilung des Adressraums in Adressbereiche, die mit flüchtigen Speicherzellen verknüpft sind und in Adressbereiche, die mit nichtflüchtigen Speicherzellen verknüpft sind, kann über Bereichsdefinition oder Bitinjizierung erfolgen. Bei der Bereichsdefinition lassen sich nichtflüchtigen Speicherzellen mit Adresswerten oberhalb einem bestimmten Wert adressieren. Adresswerte unterhalb dieses Wertes sprechen flüchtige Speicherzellen an. Bei der Bitinjizierung wird zum Zugriff auf die nichtflüchtigen Speicherzellen ein Adressbit an einer bestimmten Position einer Bitadresse auf beispielsweise den logischen Wert „1” gesetzt. Die niederwertigen Adressbits wählen dann eine nichtflüchtige Speicherzelle im ersten Speicherzellenfeld aus.The division of the address space into address areas associated with volatile memory cells and into address areas associated with nonvolatile memory cells may be via area definition or bit injection. In the area definition, nonvolatile memory cells with address values above a certain value can be addressed. Address values below this value are addressed by volatile memory cells. In the case of bit injection, an address bit at a specific position of a bit address is set to, for example, the logical value "1" in order to access the nonvolatile memory cells. The low order address bits then select a nonvolatile memory cell in the first memory cell array.

5B zeigt den Adressraum der nichtflüchtigen Speicherzellen. Erste nichtflüchtige Speicherzellen WZa befinden sich in einem Adressbereich KB, der über die Adressen Xw0 und die Adressen Y0, ..., Y15 adressierbar ist. In den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen lassen sich Konfigurationsdaten zur Konfigurierung von zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb, in denen die eigentlichen Betriebsdaten abgespeichert werden, speichern. Die zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb befinden sich an den Adresspositionen Xw0 und Y16, ..., Y255; Xw1 und Y0, ..., Y255; Xw2 und Y0, ..., Y255; Xw2 und Y0, ..., Y255; Xw3 und Y0, ..., Y255. In den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb werden vorzugsweise Betriebsdaten des integrierten Halbleiterspeichers abgespeichert. 5B shows the address space of the nonvolatile memory cells. First non-volatile memory cells WZa are located in an address area KB, which is addressable via the addresses X w 0 and the addresses Y0, ..., Y15. In the first nonvolatile memory cells, configuration data for configuring second nonvolatile memory cells WZb, in which the actual operating data are stored, can be stored. The second non-volatile memory cells WZb are located at the address positions X w 0 and Y16, ..., Y255; X w 1 and Y0, ..., Y255; X w 2 and Y0, ..., Y255; X w 2 and Y0, ..., Y255; X w 3 and Y0, ..., Y255. In the second non-volatile memory cells WZb operating data of the integrated semiconductor memory are preferably stored.

5C zeigt eine mögliche Belegung der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa mit Konfigurationsinformationen. Dargestellt sind die über die Adressen xw0, Y0, ..., Y15 auswählbaren ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa0, ..., WZa15. Die Speicherzelle WZa0 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen enthält eine Information, ob die Betriebsdaten in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen in einem Präfix-Modus gespeichert werden. Bei einer Speicherung eines Betriebsparameters im Präfix-Modus werden mehrere der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen bei der Speicherung eines Betriebsparameters beschrieben. Einige der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen, die zur Speicherung eines bestimmten Betriebsparameters vorgesehen sind, werden dazu verwendet eine Kennung des Betriebsparameters zu speichern. Eine Speicherung von Betriebsdaten im Präfix-Modus ist insbesondere dann sinnvoll, wenn innerhalb des Speicherbereiches der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen der 5B verschiedene Betriebsparameter abgespeichert werden. Eine weitere vorteilhafte Anwendung des Präfix-Modus ist gegeben, wenn innerhalb des nichtflüchtigen Speicherbereiches das Auftreten eines Fehlers protokolliert wird. Neben dem Auftreten des eigentlichen Fehlerereignisses lässt sich beispielsweise die Fehleradresse einer Speicherzelle, die beim Auftreten des Fehlers herrschende Temperatur sowie Referenzströme oder Referenzspannungen speichern. 5C shows a possible assignment of the first non-volatile memory cells WZa with configuration information. Shown are the first non-volatile memory cells WZa0, ..., WZa15 that can be selected via the addresses x w 0, Y0,..., Y15. The memory cell WZa0 of the first nonvolatile memory cells contains information as to whether the operating data in the second nonvolatile memory cells are stored in a prefix mode. When storing an operating parameter in the prefix mode, several of the second nonvolatile memory cells are described when storing an operating parameter. Some of the second nonvolatile memory cells that store a given operating parameter are provided are used to store an identifier of the operating parameter. A storage of operating data in the prefix mode is particularly useful if within the memory area of the second non-volatile memory cells of 5B various operating parameters are stored. Another advantageous application of the prefix mode is when the occurrence of an error is logged within the non-volatile memory area. In addition to the occurrence of the actual error event can be, for example, the error address of a memory cell, the prevailing temperature at the occurrence of the error and store reference currents or reference voltages.

Die Speicherzelle WZa1 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen des Konfigurationsbereiches enthält eine Information, ob der Speicherbereich der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen zur Speicherung eines Betriebsparameters genutzt werden soll. Ein möglicher Betriebsparameter ist beispielsweise die Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers. Zur Protokollierung der Betriebsdauer ist auf dem integrierten Halbleiterspeicher eine Zählerschaltung 60 vorgesehen. Die Zählerschaltung 60 enthält ein Register, dessen aktueller Zählerstand beispielsweise alle sechs Minuten erhöht wird. Der Zählerstand wird in regelmäßigen zeitlichen Abständen von der Steuerschaltung 20 in den nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes SF1 abgespeichert.The memory cell WZa1 of the first nonvolatile memory cells of the configuration area contains information as to whether the memory area of the second nonvolatile memory cells should be used to store an operating parameter. A possible operating parameter is, for example, the operating life of the integrated semiconductor memory. For logging the operating time is a counter circuit on the integrated semiconductor memory 60 intended. The counter circuit 60 contains a register whose current counter reading is increased every six minutes, for example. The counter reading is at regular intervals from the control circuit 20 stored in the nonvolatile second memory cells of the first memory cell array SF1.

Die Speicherzelle WZa2 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen innerhalb des Konfigurationsbereiches enthält eine Information, ob der abzuspeichernde Betriebsparameter im Rahmen einer Hintergrundspeicherung während des Betriebs des integrierten Halbleiterspeichers, beispielsweise bei einem Auffrischvorgang von Speicherzellen, die in dem zweiten Speicherzellenfeld SF2 liegen, erfolgen soll. Da, wie in 4 gezeigt, nichtflüchtige Speicherzellen lediglich im ersten Speicherzellenfeld SF1 angeordnet sind, kann das Abspeichern von Betriebsparametern in den nichtflüchtigen Speicherzellen parallel zu dem Auffrischungsvorgang der flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes SF2a stattfinden.The memory cell WZa2 of the first nonvolatile memory cells within the configuration area contains information as to whether the operating parameter to be stored is to take place during background storage during operation of the integrated semiconductor memory, for example during a refresh operation of memory cells located in the second memory cell array SF2. There, as in 4 As shown, nonvolatile memory cells are arranged only in the first memory cell array SF1, the storage of operating parameters in the nonvolatile memory cells can take place in parallel with the refresh operation of the volatile memory cells of the second memory cell array SF2a.

Wenn die Speicherzelle WZa3 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen programmiert ist, lassen sich die zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen W2b des ersten Speicherzellenfeldes extern beschreiben, bzw. es lässt sich von extern ein Betriebsparameter zur Speicherung in den nichtflüchtigen Speicherzellen auswählen. Das Beschreiben der nichtflüchtigen Speicherzellen erfolgt dabei in einem so genannten Appending-Modus. Dies bedeutet, dass bereits beschriebene nichtflüchtige zweite Speicherzellen nicht überschrieben werden können. Stattdessen wird die zuletzt beschriebene nichtflüchtige zweite Speicherzelle ermittelt und die im Adressraum nächst höher liegende nichtflüchtige zweite Speicherzelle für den Speichervorgang ausgewählt.When the memory cell WZa3 of the first nonvolatile memory cells is programmed, the second nonvolatile memory cells W2b of the first memory cell array can be externally written, or an external operating parameter can be selected for storage in the nonvolatile memory cells. Describing the non-volatile memory cells takes place in a so-called Appending mode. This means that non-volatile second memory cells already described can not be overwritten. Instead, the non-volatile second memory cell described last is determined and the next higher non-volatile second memory cell selected in the address space for the memory operation.

Die Speicherzelle WZa4 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen innerhalb des Konfigurationsbereiches gibt an, ob lediglich ein Lesezugriff auf die nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen gestattet ist. Wenn der Lesezugriff erlaubt ist, lassen sich in einer Applikation Betriebsdaten aus den nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen WZb auslesen. Als Betriebsparameter lässt sich beispielsweise von einem Temperatursensor 50 in 1 eine Betriebstemperatur ermitteln, die in einem Register 40 zwischengespeichert wird. Die Betriebstemperatur wird aus dem Register 40 bei einem Auffrischungsvorgang von flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes ausgelesen und in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes abgespeichert.The memory cell WZa4 of the first nonvolatile memory cells within the configuration area indicates whether only read access to the nonvolatile second memory cells is permitted. If the read access is permitted, operating data can be read from the nonvolatile second memory cells WZb in an application. As an operating parameter can be, for example, from a temperature sensor 50 in 1 determine an operating temperature in a register 40 is cached. The operating temperature is out of the register 40 in a refresh process of volatile memory cells of the second memory cell array read and stored in the second nonvolatile memory cells of the first memory cell array.

Wenn der Lesezugriff auf die nichtflüchtigen Speicherzellen gestattet ist, lässt sich die Betriebstemperatur von einem Speichercontroller auswerten. Der Speichercontroller kann dann beispielsweise bei einer hohen Betriebstemperatur die Betriebsfrequenz des Halbleiterspeichers reduzieren.If read access to the non-volatile memory cells is permitted, the operating temperature can be evaluated by a memory controller. The memory controller can then reduce the operating frequency of the semiconductor memory, for example, at a high operating temperature.

Der Speicherzustand in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa5 und WZa6 innerhalb des Konfigurationsbereiches gibt an, ob die Speicherung eines Betriebsparameters innerhalb der nichtflüchtigen zweiten Speicherzellen bit-, byte- oder wortweise erfolgen soll. Bei einer byte- oder wortweisen Speicherung eines Betriebsparameters ist die Information in mehreren Bits kodiert. Bei der bitweisen Speicherung hingegen ist die Information des abzuspeichernden Betriebsparameters in einem einzelnen Bit kodiert. Wenn beispielsweise die Betriebsdauer bitweise gespeichert werden soll, so wird in bestimmten Zeitabständen, beispielsweise alle sechs Minuten, sobald ein Auffrischungsvorgang für Speicherzellen innerhalb des zweiten Speicherzellenfeldes stattfindet, eine der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb beschrieben.The memory state in the first nonvolatile memory cells WZa5 and WZa6 within the configuration area indicates whether the storage of an operating parameter within the nonvolatile second memory cells is to take place bit-by-byte or word-wise. In a byte or wordwise storage of an operating parameter, the information is encoded in several bits. By contrast, in the bit-wise storage, the information of the operating parameter to be stored is encoded in a single bit. If, for example, the operating time is to be stored bit-by-bit, one of the second nonvolatile memory cells WZb will be written at certain time intervals, for example every six minutes, as soon as a refresh operation for memory cells takes place within the second memory cell array.

Zu Beginn der Betriebsdauer wird beispielsweise die nichtflüchtige zweite Speicherzelle, die der Adresse Xw0, Y16 zugeordnet ist mit einem ”1”-Pegel beschrieben. Alle sechs Minuten später wird eine auf die zuletzt beschriebene nichtflüchtige Speicherzelle im Adressraum folgende Speicherzelle, also bei der zweiten Speicherung die Speicherzelle, die zu der Adresse Xw0, Y17 zugehörig ist, mit dem logischen „1”-Pegel beschrieben. Wenn bei dieser Art der Speicherung die Betriebsdauer über einen Zeitraum von zehn Jahren protokolliert werden soll, werden dazu 876.000 nichtflüchtige Speicherzellen benötigt. Im Vergleich zu typischen 512 Mb DRAM-Speicherzellen sind dazu lediglich 0,163% an zusätzlichem Speicherplatz notwendig.At the beginning of the operating period, for example, the non-volatile second memory cell associated with the address X w 0, Y16 is described as having a "1" level. Every six minutes later, a memory cell following the last-described non-volatile memory cell in the address space, that is, the memory cell associated with the address X w 0, Y17 at the second memory, is written at the logical "1" level. If this type of storage is to be logged over a period of ten years, 876,000 non-volatile memory cells are required. Compared to typical 512 Mb DRAM Memory cells only need 0.163% of additional storage space.

Die Speicherzellen WZa6, ..., WZa14 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen enthalten eine Information über die Anzahl der logischen Speicherbereiche, in die die zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen unterteilt sind. Des Weiteren enthalten die ersten nichtflüchtigen Speicherzellen WZa6, ..., WZa14 eine Information über den innerhalb eines Speicherbereiches zu speichernden Betriebsparameter. Dadurch ist es beispielsweise möglich, den logischen Adressraum von nichtflüchtigen Speicherzellen der 5B in zwei verschiedene Bereiche zu unterteilen, wobei in einem ersten nichtflüchtigen Speicherbereich die Anzahl von Aktivierungen von Leseverstärkern in einem bestimmten Leserverstärkerstreifen über einen Betriebszeitraum protokolliert wird und in einem zweiten nichtflüchtigen Speicherbereich die Betriebstemperatur über einen längeren Zeitraum aufgezeichnet wird.The memory cells WZa6, ..., WZa14 of the first nonvolatile memory cells contain information about the number of logical memory areas into which the second nonvolatile memory cells are divided. Furthermore, the first non-volatile memory cells WZa6,..., WZa14 contain information about the operating parameters to be stored within a memory area. This makes it possible, for example, the logical address space of nonvolatile memory cells of 5B into two different areas, wherein in a first nonvolatile memory area the number of activations of sense amplifiers in a particular reader amplifier strip is logged over an operating period and in a second nonvolatile memory area the operating temperature is recorded over a longer period of time.

Die Speicherzelle WZa15 der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen enthält eine Information, ob die Speicherkapazität der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen bereits vollständig erschöpft ist, da alle zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen schon mit Informationsdaten beschrieben sind. Wenn die nichtflüchtige Speicherzelle WZa15 beispielsweise mit einem logischen ”1”-Pegel programmiert ist, ist der zur Verfügung stehende Speicherraum erschöpft und das Protokollieren eines Betriebsparameters in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen wird unterbrochen.The memory cell WZa15 of the first nonvolatile memory cells contains information as to whether the memory capacity of the second nonvolatile memory cells has already been completely exhausted, since all second nonvolatile memory cells are already described with information data. For example, when the nonvolatile memory cell WZa15 is programmed to a logical "1" level, the available memory space is exhausted and logging of an operating parameter in the second nonvolatile memory cells is interrupted.

Der Speicherzustand der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen wird entweder bereits bei der Fertigung oder erst im späteren Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers festgelegt. So kann beispielsweise die spätere Verwendung der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen zur Speicherung eines Betriebsparameters durch eine Vorprogrammierung der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen im Konfigurationsbereich bereits vom Hersteller festgelegt werden. Ein bestimmter Bereich der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen WZb kann beispielsweise zur Protokollierung der Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers vorgesehen sein.The memory state of the first non-volatile memory cells is determined either already during production or only during later operation of the integrated semiconductor memory. Thus, for example, the subsequent use of the second non-volatile memory cells for storing an operating parameter by preprogramming the first non-volatile memory cells in the configuration area can already be determined by the manufacturer. A specific area of the second nonvolatile memory cells WZb can be provided, for example, for logging the operating time of the integrated semiconductor memory.

Wenn ein Speicherbereich mit nichtflüchtigen Speicherzellen erst in einer Applikation konfiguriert wird, so kann beispielsweise das Protokollieren der Betriebstemperatur dadurch gestartet werden, dass ein Signalisierungsbit in einem Register 21, wie beispielsweise dem Mode-Register oder dem Extended-Mode-Register gesetzt wird. Wenn die Steuerschaltung 20 das gesetzte Bit in einem der beiden Register detektiert, wählt sie beispielsweise einen nichtflüchtigen Speicherbereich zur Aufzeichnung der Betriebstemperatur aus und legt durch Programmierung der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen die Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen selbständig fest. Vorzugsweise wird bei einem Zugriff auf die nichtflüchtigen Speicherzellen über das Mode-/Extended-Mode-Register nur ein Zugriff im Appending-Modus, also ohne überschreiben bereits programmierter nichtflüchtiger Speicherzellen, gestattet. Als weitere Einschränkung kann vorgesehen sein, dass der Anwender des integrierten Halbleiterspeichers in einer Applikation nur auf bestimmte freigegebene nichtflüchtige Speicherbereiche lesend zugreifen kann.If a memory area with non-volatile memory cells is first configured in an application, then, for example, the logging of the operating temperature can be started by a signaling bit in a register 21 , such as the mode register or the extended mode register. When the control circuit 20 detects the set bit in one of the two registers, for example, it selects a non-volatile memory area for recording the operating temperature and sets by programming the first non-volatile memory cells, the configuration of the second non-volatile memory cells independently. Preferably, access to the nonvolatile memory cells via the mode / extended mode register only allows access in appending mode, ie without overwriting already programmed nonvolatile memory cells. As a further restriction, it may be provided that the user of the integrated semiconductor memory can only read access to certain shared non-volatile memory areas in an application.

Neben der Möglichkeit auf die nichtflüchtigen Speicherzellen durch Setzen eines Bits in einem Mode-Register oder einem Extended-Mode-Register zuzugreifen, besteht auch die Möglichkeit durch das Anlegen eines charakteristischen Test-Mode-Signals TM bzw. einer oder mehrerer charakteristischer Schlüsselbitfolgen an den Steueranschluss S20 der Steuerschaltung 20 auf die nichtflüchtigen Speicherzellen zuzugreifen. Wenn beispielsweise der integrierte Halbleiterspeicher in einer Applikation ausgefallen ist und als Kundenretoure an den Hersteller zurückgeschickt wird, kann der Hersteller über die charakteristische Schlüsselbitfolgen den gesamten nichtflüchtigen Speicherbereich auslesen. Dadurch lassen sich Rückschlüsse auf mögliche Ausfallursachen eines Speicherbausteins ziehen. Es besteht ferner die Möglichkeit, über das Test-Mode-Signal bereits vor Auslieferung des Bauteils verschiedenen Herstellungs- und Testdaten wie beispielsweise verwendete Trimm-Modi, Testprogrammnamen, Loszuordnungen und Zuordnungen zu Herstellungsmaschinen in den nichtflüchtigen Speicherzellen abzuspeichern. Somit kann ein ausgefallener Baustein einem Herstellungszeitraum sowie einer Fertigungslinie zugeordnet werden. Anhand der Kenntnis der Produktionsparameter lassen sich bei einem ausgefallenen Bauteil ebenfalls oftmals Rückschlüsse auf die Ausfallursache ziehen.In addition to the possibility of accessing the nonvolatile memory cells by setting a bit in a mode register or an extended mode register, it is also possible to apply a characteristic test mode signal TM or one or more characteristic key bit sequences to the control terminal S20 of the control circuit 20 to access the nonvolatile memory cells. If, for example, the integrated semiconductor memory has failed in one application and is sent back to the manufacturer as a customer return, the manufacturer can read out the entire nonvolatile memory area via the characteristic key bit sequences. This makes it possible to draw conclusions about possible causes of failure of a memory module. It is also possible to store various manufacturing and test data such as trim modes, test program names, lot assignments and assignments to production machines in the nonvolatile memory cells via the test mode signal even before delivery of the component. Thus, a failed module can be assigned to a production period and a production line. On the basis of the knowledge of the production parameters, it is also often possible to draw conclusions about the cause of the failure in the case of a failed component.

Wenn ein Speicherbereich von zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen kontinuierlich fortlaufend von niedrigen zu hohen Adresspositionen beschrieben wird, so wird bei jedem Hochfahren des Halbleiterspeichers innerhalb des Speicherbereichs der nichtflüchtigen Speicherzellen diejenige Adressposition bestimmt, ab der während der folgenden Betriebszeit die Speicherung von Betriebsparametern fortgesetzt werden kann. Dadurch wird verhindert, dass bereits beschriebene nichtflüchtige Speicherzellen überschrieben werden.When a memory area of second nonvolatile memory cells is continuously written continuously from low to high address positions, each time the semiconductor memory is booted within the memory area of the nonvolatile memory cells, the address position from which the storage of operating parameters can be continued during the following operating time is determined. This prevents that already described nonvolatile memory cells are overwritten.

6 zeigt dazu den Adressraum AB1 der nichtflüchtigen Speicherzellen. Im Beispiel der 6 sind alle nichtflüchtigen Speicherzellen, die zu einer Adresse y < 143 gehören, bereits programmiert, indem dort bereits Betriebdaten abgespeichert worden sind. Wenn der nichtflüchtige Speicherbereich kontinuierlich fortlaufend von einer niedrigen zu einer hohen Adressposition beschrieben wird, so wird nach dem Hochfahren des integrierten Halbleiterspeichers die Adresse der nächsten freien zu beschreibenden nichtflüchtigen Speicherzelle durch eine binäre Adresssuche bestimmt. Im Folgenden wird die Bestimmung einer freien Speicherzelle anhand der ihr zugeordneten y-Adresse beschrieben. Wenn der nichtflüchtige Adressraum die Adresspositionen y = 0 bis y = 255 aufweist, wird zu Beginn des binären Adresssuchalgorithmus der Speicherzustand einer nichtflüchtigen Speicherzelle an der Adressposition y = 255 untersucht. Im Beispiel der 6 sind in den nichtflüchtigen Speicherzellen, die zu der Adresse y = 255 zugehörig sind, keine Betriebsparameter abgespeichert. Anschließend wird der Adressraum halbiert und an der Adressposition y = 127 eine Auswertung des Speicherzustandes der zugehörigen nichtflüchtigen Speicherzellen durchgeführt. Da die nichtflüchtigen Speicherzellen an dieser Stelle beschrieben sind, muss die nächste freie nichtflüchtige Speicherzelle im Adressraum zwischen den Adressen y = 127 bis y = 255 liegen. Nach Halbierung dieses Adressraums wird die Adressposition y = 191 untersucht. Da an den Speicherzellen an dieser Adressposition kein Betriebsparameter abgespeichert ist, muss die letzte beschriebene nichtflüchtige Speicherzelle im Adressraum y = 127 bis y = 191 liegen. Durch fortwährende Halbierung der Adressintervalle wird letztendlich die Adresse y = 143, an der die letzte beschriebene nichtflüchtige Speicherzelle liegt, gefunden. Somit kann im Folgenden an der Adressposition y = 144 die Protokollierung eines Betriebsparameters fortgesetzt werden. 6 shows the address space AB1 of the nonvolatile memory cells. In the example of 6 All nonvolatile memory cells which belong to an address y <143 have already been programmed by already storing operating data there. When the nonvolatile memory area is continuously continuously written from a low to a high address position, after the power-up of the semiconductor integrated memory, the address of the next free nonvolatile memory cell to be written is determined by a binary address search. In the following, the determination of a free memory cell will be described on the basis of its assigned y-address. If the nonvolatile address space has the address positions y = 0 to y = 255, the memory state of a nonvolatile memory cell at the address position y = 255 is examined at the beginning of the binary address search algorithm. In the example of 6 are stored in the nonvolatile memory cells associated with the address y = 255, no operating parameters. Subsequently, the address space is halved and carried out at the address position y = 127 an evaluation of the memory state of the associated non-volatile memory cells. Since the nonvolatile memory cells are described here, the next free nonvolatile memory cell must be in the address space between the addresses y = 127 to y = 255. After halving this address space, the address position y = 191 is examined. Since no operating parameter is stored at the memory cells at this address position, the last described nonvolatile memory cell must lie in the address space y = 127 to y = 191. By continuously halving the address intervals, the address y = 143, at which the last described non-volatile memory cell is located, is finally found. Thus, in the following, the logging of an operating parameter can be continued at the address position y = 144.

7 zeigt ein Ablaufdiagramm zur Protokollierung eines Betriebsparameters. Im Beispiel der 7 wurde bei der Herstellung des integrierten Halbleiterspeichers ein nichtflüchtiger Speicherbereich vorgesehen, in dem das Auftreten eines Fehlerereignisses während der Betriebszeit des integrierten Halbleiterspeichers aufgezeichnet wird. Nach dem Hochfahren des Halbleiterspeichers wertet die Steuerschaltung 20 die ersten nichtflüchtigen Speicherzellen innerhalb des Konfigurationsbereiches des nichtflüchtigen Speicherbereiches aus. Wenn die nichtflüchtige Speicherzelle WZa15 den logischen Zustand ”0” aufweist, ist der Speicherbereich noch nicht vollständig beschrieben. In diesem Fall wird durch binäre Adresssuche die Endadresse des nichtflüchtigen Speicherbereichs bestimmt. Die Steuerschaltung 20 aktiviert nachfolgend den Ereigniszähler, im Beispiel das Auftreten eines bestimmten Fehlerereignisses. Beim Auftreten des Fehlers wird ein Ereignisregister entsprechend programmiert. Das Ereignisregister dient als Zwischenspeicher. Wenn flüchtige Speicherzellen innerhalb des zweiten Speicherzellenfeldes aufgefrischt werden, kann in den nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes der aktuelle Wert des Ereignisregisters abgespeichert werden. Solange die nichtflüchtige Speicherzelle WZa1 den logischen Speicherzustand ”1” aufweist, wird bei jedem Auftreten des Fehlerereignisses eine nichtflüchtige Speicherzelle im ersten Speicherzellenfeld beim Auffrischen von flüchtigen Speicherzellen im zweiten Speicherzellenfeld programmiert. Durch einen Zustandswechsel der nichtflüchtigen Speicherzelle WZa1 vom logischen ”1”-Zustand in den logischen ”0”-Zustand kann die Protokollierung des Fehlerereignisses jederzeit unterbrochen werden. 7 shows a flowchart for logging an operating parameter. In the example of 7 For example, in the manufacture of the integrated semiconductor memory, a non-volatile memory area has been provided in which the occurrence of an error event during the operating time of the integrated semiconductor memory is recorded. After starting up the semiconductor memory evaluates the control circuit 20 the first nonvolatile memory cells within the configuration area of the nonvolatile memory area. When the nonvolatile memory cell WZa15 has the logic state "0", the memory area is not fully described. In this case, the end address of the non-volatile memory area is determined by a binary address search. The control circuit 20 subsequently activates the event counter, in the example the occurrence of a specific error event. When the error occurs, an event register is programmed accordingly. The event register serves as a buffer. When volatile memory cells within the second memory cell array are refreshed, the current value of the event register can be stored in the nonvolatile memory cells of the first memory cell array. As long as the non-volatile memory cell WZa1 has the logical memory state "1", each time the error event occurs, a non-volatile memory cell in the first memory cell array is programmed when refreshing volatile memory cells in the second memory cell array. By a state change of the non-volatile memory cell WZa1 from the logical "1" state to the logic "0" state, the logging of the error event can be interrupted at any time.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

1010
SpeicherzellenfeldMemory cell array
2020
Steuerschaltungcontrol circuit
2121
Mode-RegisterMode Register
3030
Adressregisteraddress register
4040
Speicherregistermemory register
5050
Temperatursensortemperature sensor
6060
BetriebsstundenzählerHour meter
7070
Zeilendekoderrow decoder
8080
Spaltendekodercolumn decoder
ATAT
Auswahltransistorselection transistor
BB
Speicherbankmemory bank
BLBL
Bitleitungbit
BLPBLP
Bitleitungspaarbit line
DD
Datumdate
DQDQ
Datenanschlussdata port
SASA
Leseverstärkersense amplifier
SASSAS
WortleitungsstreifenWordline strips
SCSC
Speicherkondensatorstorage capacitor
SFSF
SpeicherzellenfeldMemory cell array
SPSP
Spine-BereichSpine-area
SZSZ
flüchtige Speicherzellevolatile memory cell
WLWL
Wortleitungwordline
WZWZ
nichtflüchtige Speicherzellenon-volatile memory cell
X, YX, Y
Adressenaddresses

Claims (25)

Integrierter Halbleiterspeicher mit nichtflüchtiger Speicherung von Daten, – mit einem ersten Speicherzellenfeld (SF1) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ) und nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ), – mit einem zweiten Speicherzellenfeld (SF2) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ), – mit einer Steuerschaltung (20) zur Steuerung eines Lese- und eines Schreibzugriffs auf eine der flüchtigen und nichtflüchtigen Speicherzellen (SZ, WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) und auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2), – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie während eines Zugriffs auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) einen Schreibzugriff auf die mindestens eine der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes zur Speicherung mindestens eines Datums, das mindestens einen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Betriebsparameter kennzeichnet, in mindestens einer der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes durchführt.Integrated semiconductor memory with nonvolatile storage of data, - with a first memory cell array (SF1) with volatile memory cells (SZ) and nonvolatile memory cells (WZ), - with a second memory cell array (SF2) with volatile memory cells (SZ), - with a control circuit ( 20 ) for controlling a read and a write access to one of the volatile and nonvolatile memory cells (SZ, WZ) of the first memory cell array (SF1) and to one of the volatile memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it, during an access to one of the volatile memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2), a write access to the at least one of the nonvolatile memory cells of the first memory cell array for storage at least one datum, which characterizes at least one operating parameter determined during operation of the integrated semiconductor memory, in at least one of the nonvolatile memory cells (WZ) of the first memory cell array. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 1 – bei dem die flüchtigen Speicherzellen (SZ) des ersten und zweiten Speicherzellenfeldes jeweils derart ausgebildet sind, dass nach einer Abspeicherung eines Speicherzustandes in einer der flüchtigen Speicherzellen zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzustandes der Speicherzustand spätestens nach Ablauf einer Datenerhaltungszeit aufgefrischt werden muss, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie zur Erhaltung des abgespeicherten Speicherzustandes in einer der flüchtigen Speicherzellen des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) den in der einen der Speicherzellen abgespeicherten Speicherzustand auffrischt und dabei das mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnende Datum in der mindestens einen der nichtflüchtigen Speicherzellen des ersten Speicherzellenfeldes abspeichert.Integrated semiconductor memory according to claim 1 - wherein the volatile memory cells (SZ) of the first and second memory cell array are each formed such that after storing a memory state in one of the volatile memory cells to maintain the stored memory state of the memory state must be refreshed at the latest after expiration of a data retention period In which the control circuit ( 20 ) is designed such that, in order to maintain the stored memory state in one of the volatile memory cells of the second memory cell array (SF2), it refreshes the memory state stored in one of the memory cells and at least one datum characterizing the operating parameter in the at least one of the nonvolatile memory cells of the first memory cell Memory cell array stores. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 oder 2, – bei dem zur Durchführung eines Lese- oder Schreibzugriffs auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des ersten Speicherzellfeldes (SF1) eine Ansteuerschaltung (SA, 20, 30) vorgesehen ist, – bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) jeweils derart ausgebildet sind, dass zur Durchführung eines Lese- oder Schreibzugriffs auf eine der nichtflüchtigen Speicherzellen die Ansteuerschaltung (SA, 20, 30), die zur Durchführung des Lese- oder Schreibzugriffs auf eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des ersten Speicherzellenfeldes vorgesehen ist, verwendbar ist.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 or 2, in which a drive circuit (SA, SA) for carrying out a read or write access to one of the volatile memory cells (SZ) of the first memory cell array (SF1). 20 . 30 ), in which the nonvolatile memory cells (WZ) are each designed in such a way that, for carrying out a read or write access to one of the nonvolatile memory cells, the drive circuit (SA, 20 . 30 ), which is provided for carrying out the read or write access to one of the volatile memory cells (SZ) of the first memory cell array, is usable. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 3, – bei dem im ersten und zweiten Speicherzellenfeld Leseverstärker (SA) vorgesehen sind, die jeweils an ein Bitleitungspaar (BLP) mit einer ersten und einer zweiten Bitleitung (BLT, BLC) angeschlossen sind, – bei dem die flüchtigen Speicherzellen (SZ) und die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) jeweils an ein Bitleitungspaar angeschlossen sind, – bei dem die flüchtigen Speicherzellen (SZ) und die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) jeweils derart ausgebildet sind, dass sie beim Auslesen eine Potentialdifferenz zwischen der ersten und der zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares (BLP) an das sie jeweilig angeschlossen sind, erzeugen, – bei dem die Leseverstärker (SA) jeweils derart ausgebildet sind, dass sie beim Auslesen einer der flüchtigen Speicherzellen (SZ) und einer der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) jeweils die Potentialdifferenz zwischen der ersten und zweiten Bitleitung des Bitleitungspaares, an das sie jeweilig angeschlossen sind, auswerten und in Abhängigkeit von der ausgewerteten Potentialdifferenz das mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnende Datum (D) mit einem ersten oder zweiten Pegel erzeugen.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 3, In which sense amplifiers (SA) are provided in the first and second memory cell arrays, each of which is connected to a bit line pair (BLP) having a first and a second bit line (BLT, BLC), In which the volatile memory cells (SZ) and the nonvolatile memory cells (WZ) of the first memory cell array (SF1) are each connected to a bit line pair, In which the volatile memory cells (SZ) and the nonvolatile memory cells (WZ) are respectively designed such that, when reading out, they generate a potential difference between the first and the second bit line of the bit line pair (BLP) to which they are respectively connected, - Wherein the sense amplifiers (SA) are each designed such that when reading one of the volatile memory cells (SZ) and one of the nonvolatile memory cells (WZ) each have the potential difference between the first and second bit line of the bit line pair, to which they are respectively connected , evaluate and, depending on the evaluated potential difference, generate the at least one datum (D) characterizing the operating parameter with a first or second level. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 4, – mit ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa), – mit zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb), – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie den Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) auswertet, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) das mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnende Datum in der mindestens einen der zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) mit einer Betriebsparameterkennung abspeichert, anhand der sich der im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Betriebsparameter von anderen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Betriebsparametern unterscheiden lässt.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 4, - with first of the nonvolatile memory cells (WZa), - second of the nonvolatile memory cells (WZb), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it evaluates the memory state of the first of the non-volatile memory cells (WZa), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that, depending on the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa), stores the at least one datum characterizing the operating parameter in the at least one of the second of the nonvolatile memory cells (WZb) with an operating parameter identifier, on the basis of which during operation of the integrated semiconductor memory can distinguish operating parameters from other operating parameters determined during operation of the integrated semiconductor memory. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 5, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) das Abspeichern des mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnenden Datums in einer der zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) unterbricht.Integrated semiconductor memory according to Claim 5, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it interrupts the storage of the at least one datum characterizing the operating parameter in one of the second of the nonvolatile memory cells (WZb) as a function of the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 5 oder 6, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) nur lesend auf die zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) zugreift.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 5 or 6, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it accesses the second of the non-volatile memory cells (WZb) in read-only fashion as a function of the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 5 bis 7, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) das mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnende Datum in den zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) bitweise, byteweise oder wortweise abspeichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 5 to 7, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that, depending on the memory state of the first of the nonvolatile memory cells (WZa), stores the at least one datum characterizing the operating parameter in bitwise, bytewise or wordwise manner into the second of the nonvolatile memory cells (WZb). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 5 bis 8, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Speicherzustand der ersten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) die zweiten der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) verschiedenen Speicherbereichen zuordnet und in einem ersten der verschiedenen Speicherbereiche ein erstes Datum, das einen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Betriebsparameter kennzeichnet, und in einem zweiten der verschiedenen Speicherbereiche ein zweites Datum, das einen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten zweiten Betriebsparameter kennzeichnet, speichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 5 to 8, in which the control circuit ( 20 ) is adapted to assign the second of the nonvolatile memory cells (WZb) to different memory areas depending on the memory state of the first one of the nonvolatile memory cells (WZa), and in a first one of the second memory cells different memory areas a first date that identifies a determined during operation of the integrated semiconductor memory operating parameters, and in a second of the various memory areas a second date that identifies a determined during operation of the integrated semiconductor memory second operating parameter stores. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 9, – bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) für einen Lese- und Schreibzugriff über Adressen (X, Y) auswählbar sind, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie bei einem erstmaligen Aktivieren des integrierten Halbleiterspeichers eine Adressposition der zuletzt beschriebenen nachtflüchtigen Speicherzelle (WZ) ermittelt und das mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnende Datum an der auf die zuletzt beschriebene Adressposition folgenden nächst höheren Adressposition abspeichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 9, - in which the non-volatile memory cells (WZ) can be selected for read and write access via addresses (X, Y), - in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it determines an address position of the last-described night volatile memory cell (WZ) upon initial activation of the integrated semiconductor memory and stores the at least one datum characterizing the operating parameter at the next higher address position following the address position last described. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 10, – mit einem Register (40) zur Zwischenspeicherung des mindestens einen den Betriebsparameter kennzeichnenden Datums, – bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie bei einer Auffrischung des Speicherzustandes einer der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) das Register (40) zur Zwischenspeicherung des mindestens einen den Betriebsparameter kennzeichnenden Datums ausliest und das zwischengespeicherte den Betriebsparameter kennzeichnende Datum in einer der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) abspeichert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 10, - having a register ( 40 ) for temporarily storing the at least one datum characterizing the operating parameter, - in which the control circuit ( 20 ) is designed in such a way that, when the memory state of one of the volatile memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2) is refreshed, the register ( 40 ) for temporarily storing the at least one datum characterizing the operating parameter and storing the buffered datum characterizing the operating parameter in one of the nonvolatile memory cells (WZ) of the first memory cell array (SF1). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 11, bei dem das Register (40) zur Zwischenspeicherung des mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnenden Datums als Register zur Speicherung einer Betriebstemperatur des integrierten Halbleiterspeichers ausgebildet ist.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 11, in which the register ( 40 ) for temporarily storing the at least one datum characterizing the operating parameter is formed as a register for storing an operating temperature of the integrated semiconductor memory. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 12, bei dem die Steuerschaltung (20) derart ausgebildet ist, dass sie den Speicherzustand der nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1) in Abhängigkeit von der Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers verändert.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 12, in which the control circuit ( 20 ) is designed such that it changes the storage state of the nonvolatile memory cells (WZ) of the first memory cell array (SF1) as a function of the operating time of the integrated semiconductor memory. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 13, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) jeweils als einmalig irreversibel programmierbare Bauelemente ausgebildet sind.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 13, wherein the non-volatile memory cells (WZ) are each formed as a single irreversibly programmable components. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 14, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen jeweils als eine elektrisch programmierbare Fuse oder Antifuse ausgebildet sind.Integrated semiconductor memory according to one of claims 1 to 14, wherein the non-volatile memory cells are each formed as an electrically programmable fuse or antifuse. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 15, bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) mindestens einen steuerbaren Widerstand (SR) umfassen.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 15, in which the nonvolatile memory cells (WZ) comprise at least one controllable resistor (SR). Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 16, bei dem die flüchtigen Speicherzellen jeweils als Speicherzellen (SZ) mit wahlfreiem Zugriff ausgebildet sind.Integrated semiconductor memory according to one of Claims 1 to 16, in which the volatile memory cells are each designed as random access memory cells (SZ). Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers, mit einem ersten Speicherzellenfeld (SF1) mit nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) und flüchtigen Speicherzellen (SZ) und einem zweiten Speicherzellenfeld (SF2) mit flüchtigen Speicherzellen (SZ), bei dem die nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) erste nichtflüchtige Speicherzellen (WZa) und zweite nichtflüchtige Speicherzellen (WZb) umfassen, wobei in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa) eine Information zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) abgespeichert ist, umfassend die folgenden Schritte: – Auswerten von Speicherzuständen der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa), – nachfolgend Ermitteln einer Adressposition einer zuletzt beschriebenen zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle (WZb) im ersten Speicherzellenfeld (SF1), – nachfolgend Auswählen einer auf die Adressposition der zuletzt beschriebene zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle folgenden nächst höheren Adresspostion, – nachfolgend Speichern mindestens eines Datums, das einen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten Betriebsparameter kennzeichnet, in einer zweiten nichtflüchtigen Speicherzelle (WZb) des ersten Speicherzellenfeldes (SF1), die über die ausgewählte nächst höhere Adresspositon adressierbar ist, in einer Konfiguration in Abhängigkeit von dem ausgewerteten Speicherzustand der ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa), wenn eine der flüchtigen Speicherzellen (SZ) des zweiten Speicherzellenfeldes (SF2) aufgefrischt wird.A method for operating an integrated semiconductor memory, comprising a first memory cell array (SF1) with nonvolatile memory cells (WZ) and volatile memory cells (SZ) and a second memory cell array (SF2) with volatile memory cells (SZ), wherein the nonvolatile memory cells (WZ) first non-volatile Memory cells (WZa) and second non-volatile memory cells (WZb), wherein in the first non-volatile memory cells (WZa) information for the configuration of the second non-volatile memory cells (WZb) is stored, comprising the following steps: Evaluating memory states of the first nonvolatile memory cells (WZa), Subsequently determining an address position of a last-described second nonvolatile memory cell (WZb) in the first memory cell array (SF1), Subsequently selecting a next higher address position following the address position of the second nonvolatile memory cell last described, Subsequently storing at least one datum characterizing an operating parameter determined during operation of the integrated semiconductor memory, in a second nonvolatile memory cell (WZb) of the first memory cell array (SF1) which can be addressed via the selected next higher address position, in a configuration in dependence on the evaluated memory state of the first non-volatile memory cells (WZa) when one of the volatile memory cells (SZ) of the second memory cell array (SF2) is refreshed. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach Anspruch 18, umfassend den folgenden Schritt: Setzen eines Bits in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa0) zur Speicherung des mindestens einen den Betriebsparameter kennzeichnenden Datums in den zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) mit einer Betriebsparameterkennung, anhand der sich das mindestens eine den Betriebsparameter kennzeichnende Datum von anderen Daten, die andere im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelte Betriebsparameter kennzeichnen, unterscheiden lässt. A method of operating a semiconductor integrated memory according to claim 18, comprising the step of: setting a bit in the first nonvolatile memory cells (WZa0) for storing the at least one operating parameter indicative date in the second nonvolatile memory cells (WZb) with an operating parameter identifier based on which distinguishes at least one datum characterizing the operating parameter from other data characterizing other operating parameters determined during operation of the integrated semiconductor memory. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 oder 19, umfassend den folgenden Schritt: Setzen eines Bits in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa4) zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) für einen Nur-Lesezugriff.Method for operating a semiconductor integrated memory according to one of Claims 18 or 19, comprising the following step: Setting a bit in the first nonvolatile memory cells (WZa4) to configure the second nonvolatile memory cells (WZb) for read only access. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 20, umfassend den folgenden Schritt: Setzen eines Bits in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa5) zur Konfiguration der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) für eine bitweise, byteweise oder wortweise Speicherung des mindestens einen den Betriebsparameter kennzeichnenden Datums.A method of operating an integrated semiconductor memory according to any one of claims 18 to 20, comprising the following step: Setting a bit in the first nonvolatile memory cells (WZa5) for configuring the second nonvolatile memory cells (WZb) for a bitwise, bytewise or wordwise storage of the at least one datum characterizing the operating parameter. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 21, umfassend den folgenden Schritt: Setzen einer Bitfolge in den ersten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZa8, ..., WZa14) zur Unterteilung der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZ) in mindestens einen ersten Speicherbereich zur Speicherung eines ersten Datums, das einen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten ersten Betriebsparameter kennzeichnet, und in mindestens einen zweiten Speicherbereich zur Speicherung eines zweiten Datums, das einen im Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers ermittelten zweiten Betriebsparameter kennzeichnet.A method of operating a semiconductor integrated memory according to any one of claims 18 to 21, comprising the following step: Setting a bit sequence in the first nonvolatile memory cells (WZa8,..., WZa14) for dividing the second nonvolatile memory cells (WZ) into at least one first memory area for storing a first data characterizing a first operating parameter determined during operation of the integrated semiconductor memory, and in at least one second memory area for storing a second datum, which identifies a second operating parameter determined during operation of the integrated semiconductor memory. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 22, umfassend den folgenden Schritt: Auslesen des gespeicherten den Betriebsparameter kennzeichnenden Datums aus der einen der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (WZb) durch Setzen eines Bits in einem Register (21) des integrierten Halbleiterspeichers.Method for operating an integrated semiconductor memory according to one of Claims 18 to 22, comprising the following step: reading out the stored data characterizing the operating parameter from the one of the second nonvolatile memory cells (WZb) by setting a bit in a register ( 21 ) of the integrated semiconductor memory. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 23, umfassend die folgenden Schritte: – Betreiben des integrierten Halbleiterspeichers in einem Testbetriebszustand, – Auslesen einer jeden der ersten und zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen (Wza, WZb) im Testbetriebszustand durch Anlegen eines Steuersignals (TM) an den integrierten Halbleiterspeicher.A method of operating a semiconductor integrated memory according to any one of claims 18 to 23, comprising the following steps: Operating the integrated semiconductor memory in a test mode, - Reading each of the first and second non-volatile memory cells (WZa, WZb) in the test mode by applying a control signal (TM) to the integrated semiconductor memory. Verfahren zum Betreiben eines integrierten Halbleiterspeichers nach einem der Ansprüche 18 bis 24, umfassend die folgenden Schritte: – Vorsehen eines integrierten Halbleiterspeichers mit einer Zähleinheit (60) zur Erfassung einer Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers, – Inkrementieren der Zähleinheit (60) zur Erfassung der Betriebsdauer des integrierten Halbleiterspeichers in einem definierten Zeitabstand während des Betriebs des integrierten Halbleiterspeichers, – Nach dem Inkrementieren der Zähleinheit (60) jeweils Speichern eines ersten logischen Zustands in einer der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen, wobei die eine der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen gegenüber einer der zweiten nichtflüchtigen Speicherzellen, die zuletzt mit dem ersten logischen Zustand beschriebenen worden ist, über eine nächsthöherwertige Adresse adressierbar ist.Method for operating an integrated semiconductor memory according to one of Claims 18 to 24, comprising the following steps: - Providing an integrated semiconductor memory with a counting unit ( 60 ) for detecting an operating time of the integrated semiconductor memory, - incrementing the counting unit ( 60 ) for detecting the operating time of the integrated semiconductor memory at a defined time interval during the operation of the integrated semiconductor memory, - after the counting unit has been incremented ( 60 ) each storing a first logic state in one of the second nonvolatile memory cells, wherein the one of the second nonvolatile memory cells with respect to one of the second nonvolatile memory cells, which has been described last with the first logical state, is addressable via a next higher address.
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